研磨抛光常见错误

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1、研磨抛光常见错误－－光圈面形误差（一）低光圈　　产生原因　　①、砂挂光圈太细（凹面R小、凸面R大）。　　②、研磨皿与镜片接触太松，镜片中心研磨太多。　　③、研磨皿直径太小。　　④、摆动幅度太大或串棒偏摆（偏心）不对——太大。　　⑤、负LAP皿太强或修理时间太长。　　⑥、治具上压力施加太大。　　⑦、倒角太锋利。　　⑧、球心调节太低。　　克服方法　　①砂挂时，严格控制△h或用原器检查光圈，不可太细。　　②、修整研磨皿、使镜片与研磨皿吻合，要稍紧（力求整个面接触）　　③、更换研磨皿，选择合适的直径（研磨皿直径约为镜片直径的1.5～2倍）　　④、减小摆动幅度，调整偏摆位置（往皿之中心调整

2、）　　⑤、控制修磨时间，摆幅和压力要平稳适宜。　　⑥、放轻压力。　　⑦、CG倒角调整。　　⑧、调高球芯。　　（二）高光圈　　产生原因　　①、砂挂光圈太粗（凸面R小）（凹面R大）　　②、研磨皿与镜片接触太紧，镜片边缘磨削多。　　③、研磨皿直径太大。　　④、摆动幅度太小，摆动偏心距太小（太靠近中心）。　　⑤、正LAP皿太强或用正皿修得太久。　　⑥、上冶具重心太高，加工时振动太大使镜片边缘磨削量大。　　⑦、冷却水大小或未进研磨皿中心。　　克服方法　　①、砂挂时严格控制△h或用原器检查光圈，不可太粗。　　②、修整研磨皿面形，使镜片和皿吻合要好。　　③、选择或设计加工合适的研磨皿直径。　　

3、④、加大摆幅和调整偏心距位移量，使之增加镜片中心部位的研磨量。　　⑤、重新校正LAP皿强度，修整研磨皿时选择合适的修理时间。　　⑥、在不影响夹持和上治具寿命的情况下，适当降低上治具高度。　　⑦、加大冷却水调偏摆动。　　（三）中凹(凹心或局部低)　　产生原因　　①、砂挂光圈太低，尚未磨到中心。　　②、镜片和研磨皿接触太松，中心研磨太多。　　③、研磨皿（基体）R值不合适，凸皿半径偏小，凹皿半径偏大。　　④、摆动幅度不合适，摆幅及偏角过大；研磨皿之回转中心因向心力小，聚集研磨粉。　　⑤、中心肉厚小之镜片压力施加过大。　　⑥、治具R值不对，中心悬空。　　⑦、摆动位置太靠近中心。　　克服方

4、法　　①、控制砂挂光圈，加工时随时检测面形。　　②、修整研磨皿，使镜片与研磨皿有良好的吻合。　　③、更换或修整研磨皿，使曲率半径符合设计要求。　　④、调整摆动幅度，一般减小摆动幅度和偏心位移量或作对称摆动可减少或消除凹心理；毛刷去除中心部研磨粉。　　⑤、适当抬升串棒或将压力放低。　　⑥、修正治具。　　⑦、调偏摆动。　　（四）中高(凹心或局部高)　　产生原因　　①、镜片和研磨皿接触太紧，没有磨到中心。　　②、研磨皿中心偏低，中心磨削量不足。　　③、摆动幅度太小或偏心位移量太小。　　④、研磨皿（基体）半径不合适，凸皿半径偏大，凹皿半径偏小。　　⑤、治具R值不合适，中心太高顶位镜片。　

5、　⑥、摆动太靠皿边缘。　　克服方法　　①修整研磨皿，使镜片和研磨皿有良好的匹配。　　②修整研磨皿面形，使研磨皿面形规则。　　③调整摆动幅度，使摆幅及偏心位移量大小适宜。　　④更换研磨皿，选择合适的曲率半径。　　⑤修正R值。　　⑥调正摆动。　　（五）垂边（蹋边）　　产生原因　　①、镜片边缘与皿接触太紧，致使镜片边缘被磨削太多。　　②、研磨皿面形不规则，研磨时松紧不一致。　　③、砂挂时边缘磨得太多，研磨时尚未完全消除。　　④、砂挂光圈偏粗，研磨由高光圈降低，尚未磨到边缘。　　⑤、研磨曲率半径不合适，凸皿半径偏大，凹皿半径偏小。　　⑥、研磨皿直径偏大。　　⑦、LAP皿正皿边缘太强。　　

6、克服方法　　①、修整或轻轻研刮研磨皿边缘，继续研磨，让镜片和皿要有良好的接触。　　②、修一下研磨皿，继续研磨，镜片面与皿要有良好的接触，且松紧一致。　　③、控制砂挂的面形，砂挂出现亚斯要立即修正不可流至研磨。　　④、砂挂光圈不可做得比研磨粗，要低略1～2本可。　　⑤、更换研磨皿，选择合适的曲率半径。　　⑥、根据镜片直径和曲率半径考虑研磨皿直径的大小。　　⑦、修均匀LAP皿。　　（六）亚斯（勾边）　　产生原因　　①、研磨皿（深度）直径太小。　　②、研磨皿表面太光滑。　　③、研磨液太淡，研磨时发热太大。　　④、摆幅大小不合适。　　克服方法　　①、调整（更换）研磨皿，选择合适的直径。　

7、　②、用LAP皿重新修整一下表面。　　③、调整研磨液浓度，研磨皿面上多开几条槽。　　④、适当加大摆幅。　　（七）椭圆（分散）　　产生原因　　①、研磨皿表面不规则，研磨时忽松忽紧，而使镜片转动不均匀。　　②、串棒太偏，摆动幅度相对于主轴转动中心不对称。　　③、主轴转速与摆幅速度的偶合，使镜片（研磨皿）运动轨迹经常重合，而使镜片表面的磨削出现一定的方向性。　　④、研磨皿与镜片配合太紧。　　⑤、镜片与治具配合太紧，转动不灵活。　　⑥、治具垫纸叠在一起不均匀。　　⑦、砂挂NR椭未能磨过来