油包水型化妆品稳定性的研究_刘纲勇

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1、第32卷第6期日用化学工业Vo1.32No.62002年12月ChinaSurfactantDetergent&CosmeticsDec.2002油包水型化妆品稳定性的研究刘纲勇(雅倩化妆品有限公司,广东潮阳515144)摘要:以HLB法、相转变温度、几何排列理论及R比理论等系统解释了影响油包水型化妆品稳定性的各个因素,其中配方因素主要有油的极性、电解质、连续相与分散相比例及乳化剂结构;工艺因素主要有加料方式、乳化温度和分散程度等。并论证了乳化剂的亲油基与油相的相似性有利于油包水型乳化体的稳定,为开发油包水型化妆品配方提供

2、了理论依据。关键词:化妆品;稳定性;配方;研究;乳化剂;W/O中图分类号:TQ658文献标识码:A文章编号:1001-1803(2002)06-0057-03目前乳化类化妆品主要是O/W型和W/O型两种1.2PIT方法体系。众所周知,W/O型体系有一些固有的缺点:PIT(PhaseInversionTemperature)为相转变温度需要很高的油相,不易做成清爽的配方;需要添加法。在给定的油-水-非离子表面活性体系中,随温蜡,导致肤感不好;配方的稳定性受温度的变化较度升高,乳化液会由O/W型变为W/O型。因此给定大,因此W

3、/O型体系的应用受到限制。但同时W/O的油-水相,选择合适的PIT乳化剂具有指导意义。型体系也有许多优点:抗菌性能好,油包水乳液或膏一般对于W/O型乳液,PIT低于乳状液保存温度[3]霜的外观也比较漂亮。这些性能使得它在高SPF值的10℃~40℃的非离子表面活性剂作乳化剂。对于防晒产品、保湿性能的膏霜、洁面霜和高档粉底产品W/O型的膏霜,由于低温稠度很大,即使达到转相中应用较多。特别是最近出现的新乳化剂和油脂,温度也是很难转相,故此方法不适用。W/O体系油腻感变得越来越轻,因此预计将来W/O1.3几何排列理论型体系的应用越

4、来越广泛。认为界面膜是一个双重膜,即极性的亲水基头和专门研究W/O型乳化体化妆品方面的报道并不非极性的烷基链分别与水和油构成分开的均匀界面,[1,2]它的核心是所谓填充参数ν/a多,且很少用R比理论探讨其机理。W/O型乳olc,界面的优先弯曲取化体比起O/W型来说稳定性要差,主要表现在耐寒决于此填充参数。当(ν/aolc)>1时,界面凸向油和耐热性差。原因是在W/O型乳化体中缺乏O/W型相,形成W/O型乳化体;当1/3<(ν/aolc)<1时乳化体的双电层排斥力和强的溶剂化包围。W/O型界面凸向水相,形成O/W型乳化体。乳

5、化体根据黏度的不同分为乳液和膏霜,前者更不稳1.4R比理论定。本文试图通过乳化体理论来解释W/O型乳化体R比理论把乳化体系分为油区(O)、水区(W)的配方及工艺中存在的不稳定因素以及解决办法。和表面活性剂(SAA)所形成的界面区(C),由下式1乳化理论表示:R=(ACO-AOO-ALL)/(ACW-AWW-AHH)。1.1HLB法R值表示了SAA在水油界面间形成界面膜,在HLB是Griffin提出的亲水亲油平衡(hydrophile-某种条件下是向油侧弯曲,还是向水侧弯曲。当R

6、前,不同的油要求乳化1时形成O/W型乳状液;当R=1时是转相点;当R[4]剂的HLB值是通过计算或实验得来的。通常HLB值>1时形成W/O型的乳状液。C层与水的作用力有为3~6的作为W/O的乳化剂。由于HLB方法没有考静电氢键作用,作用力较大,而C层与油的作用只虑到亲水亲油的实际大小,也没有考虑配方中除油和有范德华力的相对较小的作用,要达到R>1,比较乳化剂以外其他因素的影响,很多HLB为3~6的表困难。所以凡是有利于增加R的因素对体系的稳定面活性剂不能做出稳定性好的W/O型化妆品,因此性都有好处。HLB方法比较粗略。AC

7、O表示表面活性剂亲油基与油分子间的内聚收稿日期:2002-03-20;修回日期:2002-07-11作者简介:刘纲勇(1974—),男,江西人,硕士,2000年毕业中国日用化学工业研究院,E-mail:liugangyong@hotmail.com。·57·专论与综述日用化学工业第32卷能,是分子中起决定作用的项,在W/O型体系中,对提高防晒产品的SPF值具有重要作用。凡能增加此项值的因素都将对体系稳定性有帮助。在实际配方中,油相的选择要综合稳定性和性能AOO表示油分子间的内聚能,此项也很重要,如果极两个因素,极性不要太小

8、,但也不能太大,在能满足性油常因此项过大,而不好乳化。ALL表示表面活性稳定的条件下,尽量选择性能较好的油脂。剂亲油基间的内聚能。ACW表示表面活性剂亲水基与(2)蜡类:在稀的乳状液中,聚集常数Kf可以[6]水分子间的亲合力。AWW表示水相间的内聚能。AHH近似如下:Kf=4kT/3η。其中,k是Bol

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