镭雕工艺管理规范

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1、广州博冠光电技术有限公司IN-D031V1.0镭雕工艺管理规范修订历史版本日期修改记录拟制V1.02014.9.161．初次发布梁宏盈是否需会签¨不需会签■需会签会签部门/分发范围■总经理办公室■研发中心■营运部¨市场营销部■生产部■品质部¨人力行政部¨文控中心¨财务部制定梁宏盈审核董辉批准镭雕工艺管理规范Page4of4广州博冠光电技术有限公司IN-D031V1.01目的通过镭雕技术的应用取代现有公司产品上的移印或者丝印工艺，制造出低能耗、低排放、无污染的环保产品。2范围适用于影像事业部五金制品、塑胶制品。3权责生产工程：对镭雕工艺参数的调整及标准化。研发结构工程

2、：对结构件设计时需要镭雕处理，向生产工程提出工艺的可行性需求。品质工程：对镭雕效果进行确认。营运部门：负责委外打样。营销部门:对外报样确认。4定义镭雕：又名激光雕刻、激光打标、镭射打标等，是激光加工原理的一项重要应用，就是利用镭射（laser）光束在物质表面或是透明物质内部雕刻出永久的印记。镭射光束对物质可以产生化生效应与特理效应两种！当物质瞬间吸收镭射光后产生物理或化学反应，从而刻痕迹或是显示出图案或是文字，从而形成标记。5作业程序我司激光雕刻机为半导体激光雕刻机，其性能指数如下：最大输出功率为50KW，最大雕刻范围为100*100mm，最大雕刻深度为0.3mm，

3、重复精度为0.001mm，雕刻速度3600mm/秒.5.1镭雕机的工艺调整：镭射激光雕刻机雕刻效果主要从以下几个方面进行调试：5.1.1电流强度A.电流强度大，雕刻深度深、字体线条粗；B.电流强度小，雕刻深度浅、字体线条细；C.雕刻金属材料时，电流强度大，一般在18A以上；D.雕刻非金属材料时，电流强度小，一般在12A-16A左右，尢其是雕刻透光按键时电流强度一般都在16A左右。E.电流强度对雕刻非金属材料有很大影响，电流太大会破坏产品表层如：烧焦、雕刻面起泡等；太小图案会不清晰、无深度。5.1.2焦距A.焦距的定义：激光发光镜头与被雕刻面之间的垂直距离，一般为17

4、.8-18cm之间。B.被雕刻面离焦点近，激光能量大、雕刻深度深、字体线条细；C.被雕刻面离焦点远，激光能量小、雕刻深度浅，字体线条粗；镭雕工艺管理规范Page4of4广州博冠光电技术有限公司IN-D031V1.0D.雕刻金属材料时，一般离焦点要近6mmF.雕刻非金属材料时，一般可偏离焦点，尢其是雕刻透光按键时，一定要偏离焦点3-5mm。5.1.3参数A.线距太大：雕刻出的笔画不够精细、稀疏、无深度、雕刻速度度快；太小：雕刻出的笔画精细、致密、有深度、雕刻速度慢；默认值：0.01mm.备注：调整该参数可以明显改变雕刻的速度、精度和深度。B.激光开光延时太大：振镜往前

5、走得太多激光才打开，笔画的开始会不够长；太小：振镜往前走得太少激光才打开，笔画开始点会出现重点。默认值：0us。备注：调整该参数可以减小首发重点问题。C.激光关光延时太大：振镜已充分转到，并停留一段时间后激光才关闭，笔画末尾点会形成重点，增加打标时间。太小：振镜还示充分转到，激光就关闭，笔画的末尾不够。默认值：180us.备注：高速该参数可以减小笔画末尾重点的问题。D.跳转延时太大：振镜已充分转到，并停滞一段时间后才处理下一个笔画，增加雕刻时间；太小：振镜还未充分转到，PC就开始处理下一个笔画，笔画开始的地方会出现散点。默认值：100us.E.拐弯延时：太大：振镜已

6、充分转到，并停留一段时间后PC才处理画的下一线段，拐弯点会形成重点，增加打标时间；太小：振镜还未充分椟到，PC就开始处理笔画的下一线段，拐弯的地方会出现圆弧。默认值：50us.备注：该参数一般不作调整。F.频率：太大：聚能时间短，能量弱，雕刻出的点致密；太小：聚能时间长，能量强，雕刻出的点稀疏。默认值：5KHZ使用范围：1-20KHZ备注：调整该参数可以明显改变精度和深度Q.脉冲宽度镭雕工艺管理规范Page4of4广州博冠光电技术有限公司IN-D031V1.0默认值：10us使用范围：3-30us(一般效果的数值调整与Q频率的乘积为24左右)Ȓ取自图层0的打标参数加

7、工数目1线距(mm)0.01开光延时(微秒)0关光延时(微秒)180结束延时(微秒)100拐角延时(微秒)50频率(KHZ)5.000Q脉冲宽度(微秒)10.000注：一个参数调整有可能影响多种效果，所以为了得到较好的效果，一般要调整多个参数。1.1镭雕工艺结构设计时的控制：5.2.1因激光发光镜头与被雕刻面之间的焦距会对产品镭雕效果有实质的影响。在产品结构设计时在镭雕处进行水平面处理，不可曲面对应。5.2.2结构件表面处理控制：在产品结构设计时在镭雕处高光处理。若表面晒纹，无明显阻感及表面电镀可进行实际镭雕打样确认。但对表面进行UV油及光油处理，镭雕效果将会不