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时间:2019-10-03
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1、表面势垒二极管的伏安特性(理想因子)的测量一、实验目的1、测量金属半导体表面势垒二极管的伏安特性2、用伏安特性法测量n因子及金属半导体接触势垒高度二、实验原理如果n型半导体同一个功函数比它大的金属接触,由于WB>Wn(WB是金属的功函数,Wn是n型半导体的功函数),电子在WBn=WB-Wn的作用下,从半导体内跑到金属中去。达到平衡时,金属的费米能级(EF)B同半导体的费米能级(EF)n相等,半导体表面因缺少了电子而带正电,金属表面则因多余电子而带负电,在金属和半导体之间就有接触电势差。当金属同半导体的接触距离等于零时,形成的势垒主要在
2、半导体中靠近表面的一个区域内,因为电子从半导体跑到金属后,金属所带的负电荷和半导体所带的正电荷相等,半导体中的正电荷就是电离的施主杂质,它的浓度比金属中载流子的浓度低好几个量级。在金属中,积累的负电荷集中在表面很薄的一层(大约几埃距离),而半导体中这电荷层要扩展到几千埃,这个区域叫做空间电荷区。金属同半导体的接触电势差主要降在这个区域中。在空间电荷区中电场的方向是半导体指向金属表面,它阻挡电子继续从半导体跑到金属中去。从能量来看,电子在空间电荷取的电势能是随距离变化的,越是接近表面,势能越高。如图9-1所示。我们定义Φn为势垒高度,它
3、是决定金属半导体接触的一个重要参量。本实验就是用伏安特性法来确定势垒高度。图9.1金属半导体接触能带图5/5实际的金属-半导体接触还要考虑表面态和界面态的影响,他们的作用可参阅有关的讲义,这里就不再重复。表面势垒二极管的伏安特性公式在外加正向偏压比较大时为:(9-1)这是理想的伏安特性公式,但实际的伏安特性没有如此理想。这主要是由下面三点原因造成的。1、n因子偏离;2、正向串联电阻大;反向漏电流大。实际测量得到的关系是:(9-2)在指数项中指数的分母上多了一个因子n,n一般比1略大一些,从正向特性实际表达式中可以看出,正向电流随电压的
4、上升比理想的情况来的缓慢些,n因子可以由伏安特性的测量中求得。三、测量方法测试仪器图如图9.2所示。图9.2测试仪器通过半导体特性图示仪读取几组I和V值,在半对数纸上作图,可得直线。如图9-3所示。5/5图9.3lnI—V曲线取I-V线上距离比较远的任意两点,设他们的坐标分别是(V1,I1)及(V2,I2),由于Y轴(电流轴)是对数坐标,因此求斜率时,电流要取对数,即斜率m是:(9-3)(9-2)式两边取对数:lnI=lnI0+qV/nkT,在lnI~V曲线中直线的斜就是q/nkT,即m=q/nkT.(9-4)因此,从直线的斜率就可以
5、求得n因子。(9-5)式中A是理查逊常数,A=8.7安/厘米2;S是势垒二极管的结面积,以厘米2为单位;T是测试的温度,用绝对温度表示,即摄氏读数加上273度;k等于8.63×10-6电子伏特/度;ΦBn是势垒高度。图上读得截距是I0。则ΦBn可表示成:(9-6)必须注意(9-4)及(9-6)式取的是自然对数,常用对数与自然对数的关系是lnA=lgA/lge。四、实验步骤1、半导体特性图示仪接电源,电源开关接通,并校正待用。2、按上图数据调好图示仪。3、把表面势垒二极管接入电路,二极管正极接C,负极接E。5/54、将Y轴集电极电流调整
6、到0.5mA/度,X轴集电极电压调整到0.05V/度,峰值电压范围是0-20V,选择NPN管,选中单管按钮。慢调Y轴处的移位按钮和X轴处的B移位,使光标处于屏幕中心。5、在0-4V之间旋转集电极峰值电压,图示仪上就会出现二极管的I-V曲线。(通过调节集电极电压,调试出X轴的光标线)6、在上述值处,改变X轴和Y轴的分度,调节集电极峰值电压。读取多组I-V值,在半对数坐标纸上画lnI—V曲线。7、通过上述曲线的斜率,可以求得理想因子。五、思考题1、金属和半导体接触时,为什么在半导体表面会产生空间电荷层?2、表面势垒二接管外加电压后,势垒有
7、何变化?电流是如何流动的?3、实际的金半接触伏安特性与理想的有何区别?4、实际的金半接触势垒高度同简单的模型有什么偏离?5、本实验为什么要用半对数纸作图?I如何选取比较合理?6、为什么正向连接的二极管,在小电流时阻抗很大?而在大电流的时候阻抗很小?六、测量过程1、调节电压和电流的量程;2、调节二极管两端的电压,分别读取两组数据(V1,I1)及(V2,I2)。V1=0.25V,I1=1mA;V2=0.3V,I2=5mA;求出m=32.16;由m=q/nkT,n=qmkT。计算出n=1.2.七、数据处理斜率m=lnI2-lnI1V2-V1
8、=ln1-ln0.50.12-0.1=34.6575/5又m=q/nkT,n=mkT/q=34.657x8.63x10-6x273/1.6x10-19=5.10x1095/5
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