2014材料分析复习重点 (2)

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1、2014材料分析复习重点光谱项nͫLJ:n表示主量子数，M表示谱线多重性符号，L表示总角量子数，J表示内量子数，而M为J的可能取值个数。辐射的发射答：辐射的发射是指物质吸收能量后产生电磁辐射的现象，实质是辐射跃迁，即当物质的粒子吸收能量被激发至高能态后，瞬间返回基态或低能态，多余的能量以电磁辐射的形式释放出来。干涉指数：是对晶面空间方位和晶面间距的标识。干涉指数与晶面指数的关系：干涉指数（HKL）可以认为是可带公约数（n）的晶面指数，[即（nhnknl）],即广义的晶面指数。它表示在相邻的（hkl）晶面间插入（n

2、-1）个虚拟晶面的晶面指数。将干涉指数化为n=1时则干涉指数还原为晶面指数（hkl）.滤波片:在X射线源与样品间放置特定材料薄片以吸收Kβ射线从而保证Kα射线的纯度。衍射产生的充要条件必要条件为衍射矢量方程成立；充分必要条件为衍射矢量方程成立加强度不等于零。吸光度A入射光强度I0与样品透射光强度IL之比的对数，即：A=lg(I0/IL)俄歇电子及其标识原子内层（例如K层）出现空位，L2层的一个电子向K层跃迁，释放的能量被L3层的一个电子吸收而电离出去，这个电离出去的电子即为俄歇电子，标识为KL2L3（注：数字2，

3、3写在L的右下角）。透射电镜主要由照明系统、成像系统、记录系统、真空系统和电器系统组成。透射电镜TEM的样品要求:供透射电镜电子显微分析的样品必须对电子束是透明的，通常样品观察区域的厚度以控制在约100nm-20nm为宜，此外，所制得的样品还必须具有代表性以反映所分析材料的某些特征，因此在样品制备时不可影响这些特征。电子吸收与光子吸收入射电子在固体中运动会被固体原子散射，由于存在库仑作用，其散射程度较大。非弹性散射作用使电子能量逐渐减小，随着电子与固体作用次数增多，电子能量逐渐减小，最终被固体束缚。电子吸收主要指

4、由于电子能量衰减而引起的强度（电子数）减小，减少的电子被固体束缚，没有消失。光吸收主要是指电磁辐射与材料作用时，其能量减少，针对某一光子来说，其能量可全部转移至其它形式（如激发固体材料产生各种信号），光子本身消失（因为光子是以能量形式出现）X射线衍射检测应力的类型第一类：宏观应力第二类：微观应力第三类：超微观应力倒易杆：在电子衍射中，由于薄膜样品厚度很小，其倒易点已不再是几何点，而是沿样品厚度方向上扩展延伸为连续直线，称之为倒易杆。透射电子显微图像的振幅衬度：质厚衬度：非晶体样品投射电子显微图像衬度是由于样品不同

5、微区间存在原子序数或厚度的差异而形成的。衍射衬度：由样品各处衍射束强度的差异形成的衬度称为衍射衬度。像衬度：是图像上不同区域间明暗程度的差别。衍射花样指数标定确定衍射花样中各线条相应晶面的干涉指数，并以之标识衍射线条。又称为衍射花样指数化。选择滤波片的依据选择滤波片材料，使其K系吸收限处于入射线的Kα与Kβ之间，则Kβ线因激发滤波片的荧光辐射而被滤波片吸收。设滤波片材料原子序数为ZL，靶材原子序数ZB，当ZB<40时，ZL取ZB-1；当ZB>40时，ZL取ZB-2SEM的二次电子像的特点及其成因。由于电子检测器上

6、偏压的吸引，低能二次电子的轨迹可以弯曲，因此背对检测器区域所产生的电子有相当一部分可以通过弯曲轨道达到检测器，因此有效收集立体角增大，二次电子信号强度提高，图像立体感强，并可以较清晰地反映出样品背对检测器区域的细节。计算F与

7、F

8、2值书上例2和例3，作业题5—4都看一看，背一背，就会做了读懂PDF卡片，根据衍射结果完成物相鉴定。这类题有点难，大家在网上搜一些这类题来看看就行。扫描电镜SEM的真空度要求样品室气压必须减低到能使电子与气体分子碰撞前走完应走的路程，但真空度过高会使真空系统很复杂。普通热阴极电子显微镜的

9、真空度要保持优于1.33×10-2~1.33×10-4Pa。