金属氧化物半导体场效应晶体管器件结构

《金属氧化物半导体场效应晶体管器件结构》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在教育资源-天天文库。

1、第三章金属－氧化物－半导体场效应晶体管MetalOxideSemiconductorFiledEffectTransistorMOSFET电子科学与技术系张瑞智本章内容§1、MOSFET的物理结构、工作原理和类型§2、MOSFET的阈值电压§3、MOSFET的直流特性§4、MOSFET的动态特性§5、小尺寸效应1、MOSFET的物理结构MOSFET由一个MOS电容和靠近MOS栅控区域的两个PN结组成。NMOSFET的三维结构图栅氧化层硅衬底源区－沟道区－漏区P-Sigaten+n+SourceDr

2、ainwLbody金属Al（Al栅）重掺杂的多晶硅（硅栅，Polycide（多晶硅/难融金属硅化物）MOSFET的三维结构简化图剖面图结构参数：沟道长度L、沟道宽度W、栅氧化层厚度源漏PN结结深材料参数：衬底掺杂浓度、载流子迁移率版图SDGWL多晶硅有源区金属SiO2SiO2Si衬底器件版图和结构参数MOSFET是一个四端器件：栅G（Gate），电压VG源S（Source），电压VS漏D（Drain），电压VD衬底B（Body），电压VB以源端为电压参考点，端电压定义为:漏源电压VDS=VD-VS

3、栅源电压VGS=VG-VS体源电压VBS=VB-VS端电压的定义MOSFET正常工作时，D、B和S端所加的电压要保证两个PN结处于反偏。在直流工作下的器件，通常假设器件只有漏－源电流*或简称漏电流IDS，并将流向漏极方向的电流定义为正。MOSFET各端电压对漏电流都有影响，电流－电压的一般关系为：端电流的定义SiO2P-Si衬底坐标系的定义不作特别声明时，一般假设源和体短接（接地）基本假定长沟和宽沟MOSFET：W>>L>>Tox>>Xc衬底均匀掺杂氧化层中的各种电荷用薄层电荷等效，并假定其位于S

4、i-SiO2界面强反型近似成立基本假定（1）强反型近似强反型时：耗尽层宽度>>反型层厚度*，耗尽层两端电压>>反型层两端的电压，耗尽层电荷>>反型层电荷强反型后，栅压再增加，将导致沟道载流子数目增加，但表面耗尽层宽度不变，耗尽层电荷不变，耗尽层两端电压不变。*通常我们假设反型层无限薄，载流子在硅表面形成面电荷层，并且在反型层中没有能带弯曲。基本假定（2）在栅压为零时，从源电极和漏电极被两个背靠背的PN结隔离，这时即使在源漏之间加上电压，也没有明显的漏源电流（忽略PN结的反向漏电流）VGS=0n+n

5、+VDS>0p-substrateSBIDS=0直流特性的定性描述：工作原理当在栅上加有足够大的电压时，MOS结构的沟道区就会形成反型层，它可以把源区和漏区连通，形成导电沟道，这时如果在漏源间加有一定的偏压，就会有明显的电流流过。直流特性的定性描述：工作原理VGS>VTAcceptorsDeplRegn+n+VDS>0p-substrateChannelSBIDS假设栅电压VGS>VT，漏电压VDS开始以较小的步长增加IDSVDSVDS（Small）VGS>VTn+n+p-substrateCha

6、nnelSBIDS当VDS很小时，它对反型层影响很小，表面沟道类似于一个简单电阻，漏电流与VDS成正比。直流特性的定性描述：输出特性VGS>VTn+n+VDS=VDSatp-substrateChannelSBIDSIDVDSVDsatIDsatPinch-off随着VDS的增加，它对栅的反型作用开始起负面影响，使反型层从源到漏逐渐变窄，反型载流子数目也相应减小，使IDS-VDS曲线的斜率减小。沟道载流子数目在靠近漏端降低最多，在漏端附件的反型层将最终消失（称为沟道被夹断）。使沟道开始夹断的漏源电

7、压称为漏源饱和电压，相应的电流称为饱和电流。IDVDSVDsatIDsatohmicsaturatedVGS>VTn+n+VDS>VDSatp-substrateChannelSBIDS夹断区当漏源电压超过饱和电压后，夹断区变宽，夹断点从漏到源移动。夹断区是耗尽区，因而超过VDsat的电压主要降落在夹断区。对于长沟道（L>>△L）器件，夹断后漏电流基本保持不变，因为，夹断点P点的电压VDsat保持不变，从源到P点的载流子数目不变，因而从漏到源的电流也不变化。一般长沟道器件的IDS~VDS特性VDS

8、IDSVGS>VTVGS增加VGS