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时间：2019-07-22
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1、图3常用的一级RO+二级EDI+MB电子I级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高，有机物含量高，电导率高（小于1000μs/cm），要求产水电阻率18～18.2MΩ·cm的超纯水系统图4常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高，有机物含量高，电导率（小于1000μs/cm），要求产水电阻率15～18MΩ·cm的超纯水系统图5常用的一级RO+二级EDI电子+MB电子I级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度低，有机物含量低，电导率高（小于1000μs/cm），要求产水电阻率
2、18～18.2MΩ·cm的超纯水系统图6常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度低，有机物含量低，电导率高（小于1000μs/cm），要求产水电阻率15～18MΩ·cm的超纯水系统图7是常用的一级EDI全系统组成图。图7常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI+MB电子Ⅰ级超纯水系统组成图适合于源水硬度低，有机物含量高，电导率<1000μs/cm,即TDS<500ppm时，要求产水电阻率18～18.2MΩ·cm的纯水系统图8常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI电子Ⅱ
3、级超纯水系统组成图适合于源水硬度低，有机物含量高，电导率<1000μs/cm,即TDS<500ppm时，要求产水电阻率15～18.0MΩ·cm的的纯水系统
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