电子级氢氟酸工艺介绍

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1、电子级氢氟酸生产工艺介绍1概述目前国内外制备电子级氢氟酸的常用提纯技术有精馏、蒸馏、亚沸蒸馏、减压蒸馏、气体吸收等技术，这些提纯技术各有特性，各有所长。如亚沸蒸馏技术只能用于制备量少的产品，气体吸收技术可以用于大规模的生产。另外，由于氢氟酸的强腐蚀性，采用蒸馏工艺温度较高时腐蚀会更严重，因此所使用的蒸馏设备一般需用铂、金、银等贵金属或聚四氟乙烯等抗腐蚀性能力较强的材料来制造。电子级氢氟酸生产装置设计与工艺流程布置密切相关，垂直流向布置，原料(无水氢氟酸和高纯水)与中间产物可以依靠重力自上而下流动，高纯氢氟酸的制备在中部，产品过滤、灌装及贮存在底层。此布置可减少泵输送，节省能耗，降低生

2、产成本，同时可避免泵对产品的二次污染。2生产工艺将工业无水氢氟酸经化学预处理后，进入精馏塔通过精馏操作，得到的氟化氢气体经冷却后，在吸收塔中用超纯水吸收，并采用控制喷淋密度、气液比等方法使电子级氢氟酸进一步纯化，随后经0.2μm以下超滤工序，最后在密闭洁净环境条件下(百级以下)进行灌装得到最终产品———电子级氢氟酸。3生产方法的难点3.1分析控制与产品检测要求高。制备电子级氢氟酸所应用的测试仪器如下:(1)电感耦合等离子高频质谱分析仪(ICP-MS)；(2)电感耦合等离子原子发射分析仪(ICP-AES)；(3)原子吸收分光光度计；(4)氧原子发生无焰原子吸收分析仪；(5)离子色谱分析

3、仪；(6)激光散射液体微粒计数器；(7)水表面杂质分析系统；(8)原子间力显微镜；(9)光学显微镜微粒计数器；(10)扫描电子显微镜；(11)光学膜厚测定和表面仿形仪；(12)表面张力测定仪；(13)空气中尘埃微粒测定仪；(14)水电阻率测定仪。3.2对水质要求高，要求水的电阻率≥18.0MΩ·cm。高纯水是生产电子氢氟酸中不可缺少的原料,也是包装容器的清洗剂,其纯度将直接影响到电子级氢氟酸的产品质量。高纯水的主要控制指标是电阻率和固体颗粒,其他辅助指标有可氧化的总碳量(TOC)、细菌、被溶解的二氧化硅、离子浓度等。目前,高纯水的生产工艺较为成熟,较常见是先通过离子交换柱和微过滤器,

4、得到普通纯水,然后再采用反渗透、电渗析等各类膜技术进一步处理,最后配合杀菌和超微过滤便可得到高纯水。3.3对主要生产设备材料及设备制造技术、包装技术的要求较为严格。3.4厂房、分析室、仓库等环境洁净度要求较高，与成品接触部分要达到100级。3.5整个生产过程中对产品质量管理要求极高。4生产工艺技术特征4.1杂质砷是电子级氢氟酸中需要控制的一种重要杂质指标，在氢氟酸原料中砷一般以三价态形式存在，而且AsF3与氢氟酸的沸点相差不大，所以仅靠精馏对其分离的效果不会十分理想。为去除杂质砷，可在精馏前，加入适量的强氧化剂（如高锰酸钾等）将三价态的砷进行氧化，使其在精馏过程中沉积于塔釜中而被除去

5、。4.2生产设备与工艺：生产设备全采用碳钢衬聚四氟乙烯材料，生产工艺采用常压、全封闭、连续化，采用热水低温(小于100度)精馏.蒸馏工艺,工艺参数采用DCS集散控制系统生产。4.3高纯水制备：通过离子交换与过滤器先制得普通纯水，再经过反渗透、电渗析后进入杀菌、超微过滤制得高纯水。4.4在无水氢氟酸预处理槽边、精馏塔及蒸馏塔边、成品包装区设置HF有毒气体浓度探测、集中报警系统。4.5设置尾气吸收塔、碱吸收塔，尾气可达标排放。5质量指标目前，因各微电子生产企业对电子级氢氟酸要求的标准不同，可将其划分为四个档次：①低档产品，用于>1.2μmIC工艺技术的制作；②中低档产品，适用于0.8～1

6、.2μmIC工艺技术的制作；③中高档产品，适用于0.2～0.6μmIC工艺技术的制作；④高档产品，适用于0.09～0.2μm和＜0.09μmIC工艺技术的制作。产品包装方法：采用高密度聚乙烯（或四氟乙烯、氟烷基乙烯基醚共聚物、聚四氟乙烯）专用密封工艺制造塑料桶25公斤桶装。国际SEMI（SemiconductorEquipmentandMaterialsInternational）标准化组织根据高纯试剂在世界范围内的实际发展情况，按品种进行分类，每个品种归并为一个指导性的标准，其中包括多个用于不同工艺技术的等级，具体见下表。SEMI国际标准等级SEMI标准C1(Grade1)C7(G

7、rade2)C8(Grade3)C12(Grade4)(Grade5)C11(VLSIGrade)金属杂质≤1ppm≤10ppb≤1ppb≤0.1ppb≤0.01ppb≤50ppb控制粒径μm≥1.0≥0.5≥0.5≤0.2/≥0.5颗粒，个/mL≤25≤25≤5//≤250适应范围适用于＞1.2μmIC技术的制作适用于0.8-1.2μmIC技术的制作适用于0.2-0.6μmIC技术的制作适用于0.09-0.2μmIC技术的制作适用于＜0.09μmIC技术