变温霍耳效应实验

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1、变温霍尔效应实验1879年，霍尔(E.H.Hall)在研究通有电流的导体在磁场中受力的情况时，发现在垂直于磁场和电流的方向上产生了电动势，这个电磁效应称为“霍尔效应”。在半导体材料中，霍尔效应比在金属中大几个数量级，引起人们对它的深入研究.霍尔效应的研究在半导体理论的发展中起了重要的推动作用。直到现在，霍尔效应的测量仍是研究半导体性质的重要实验方法。利用霍尔效应，可以确定半导体的导电类型和载流子浓度，利用霍尔系数和电导率的联合测量，可以用来研究半导体的导电机构(本征导电和杂质导电)和散射机构(晶

2、格散射和杂质散射)，进一步确定半导体的迁移率、禁带宽度、杂质电离能等基本参数。测量霍尔系数随温度的变化，可以确定半导体的禁带宽度、杂质电离能及迁移率的温度特性。根据霍尔效应原理制成的霍尔器件，可用于磁场和功率测量，也可制成开关元件，在自动控制和信息处理等方面有着广泛的应用。一实验原理1．半导体内的载流子根据半导体导电理论,半导体内载流子的产生有两种不同的机构：本征激发和杂质电离。（1）本征激发半导体材料内共价键上的电子有可能受热激发后跃迁到导带上，在原共价键上却留下一个电子缺位—空穴，这个空穴很

3、容易受到邻键上的电子跳过来填补而转移到邻键上。因此，半导体内存在参与导电的两种载流子：电子和空穴。这种不受外来杂质的影响由半导体本身靠热激发产生电子—空穴的过程，称为本征激发。显然，导带上每产生一个电子，价带上必然留下一个空穴。因此，由本征激发的电子浓度n和空穴浓度p应相等，并统称为本征浓度，由经典的玻尔兹曼统计可得(1)式中Nc，Nv分别为导带、价带有效状态密度，K’为常数，T为温度，Eg为禁带宽度，K为玻尔兹曼常数。（2）杂质电离在纯净的第IV族元素半导体材料中，掺入微量III或V族元素杂质

4、，称为半导体掺杂。掺杂后的半导体在室温下的导电性能主要由浅杂质决定。如果在硅材料中掺入微量III族元素（如硼或铝等），这些第III族原子在晶体中取代部分硅原子组成共价键时，从邻近硅原子价键上夺取一个电子成为负离子，而在邻近失去一个电子的硅原子价键上产生一个空穴。这样满带中电子就激发到禁带中的杂质能级上，使硼原子电离成硼离子，而在满带中留下空穴参与导电，这种过程称为杂质电离。产生一个空穴所需的能量称为杂质电离能。这样的杂质叫做受主杂质，由受主杂质电离而提供空穴导电为主的半导体材料称为p型半导体。当

5、温度较高时，浅受主杂质几乎完全电离，这时价带中的空穴浓度接近受主杂质浓度。同理，在IV族元素半导体（如硅、锗等）中，掺入微量V族元素，例如磷、砷等，那么杂质原子与硅原子形成共价键时，多余的一个价电子只受到磷离子P+的微弱束缚，在室温下这个电子可以脱离束缚使磷原子成为正离子，並向半导体提供一个自由电子。通常把这种向半导体提供一个自由电子而本身成为正离子的杂质称为施主杂质，以施主杂质电离提供电子导电为主的半导体材料叫做n型半导体。2．霍尔效应和霍尔系数图一霍耳效应原理设一块半导体的x方向上有均匀的电

6、流ＩX流过，在z方向上加有磁场Ｂz，则在这块半导体的y方向上出现一横向电势差，这种现象被称为“霍尔效应”，称为“霍尔电压”，所对应的横向电场称为“霍尔电场”。见图一。实验指出，霍尔电场强度EH的大小与流经样品的电流密度Ｊx和磁感应强度Ｂz的乘积成正比（2）式中比例系数称为“霍尔系数”。下面以p型半导体样品为例，讨论霍尔效应的产生原理并推导、分析霍尔系数的表达式。半导体样品的长、宽、厚分别为L、ａ、ｂ，半导体载流子（空穴）的浓度为p，它们在电场Ex作用下，以平均漂移速度沿x方向运动，形成电流。在垂

7、直于电场方向上加一磁场，则运动着的载流子要受到洛仑兹力的作用（3）式中ｑ为空穴电荷电量。该洛仑兹力指向－y方向，因此载流子向－y方向偏转，这样在样品的左侧面就积累了空穴，从而产生了一个指向＋y方向的电场——霍尔电场Ey。当该电场对空穴的作用力ｑEy与洛仑兹力相平衡时，空穴在y方向上所受的合力为零，达到稳态。稳态时电流仍沿x方向不变，但合成电场E＝Ex＋Ey不再沿x方向，E与x轴的夹角称“霍尔角”。在稳态时，有（4）若是均匀的，则在样品左、右两侧面间的电位差（5）而x方向的电流强（6）将（6）式的

8、带入（5）式得到霍尔电压（7）由（2）、（4）、（6）式得到霍尔系数为（8）对于n型半导体，载流子（电子）浓度为，霍尔系数为（9）上述模型过于简单。根据半导体输运理论，考虑到载流子速度的统计分布以及载流子在运动中受到散射等因素，在霍尔系数的表达式中还应引入一个霍尔因子Ａ，则（8）、（9）式应修正为p型：             （10）n型：               (11）Ａ的大小与散射机理及能带结构有关。由理论算得，在弱磁场条件下，对球形等能面的非简并半导体，在较高温度（此时，晶格散射起