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1、电子束光刻技术与图形数据处理技术陈宝钦(中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室,北京100029)摘要:介绍了微纳米加工领域的关键工艺技术电子束光刻技术与图形数据处理技术,包括:电子束直写技术、电子束邻近效应校正技术、光学曝光系统与电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术、电子束曝光工艺技术、微光刻图形数据处理与数据转换技术以及电子束邻近效应校正图形数据处理技术。重点推荐应用于电子束光刻的几种常用抗蚀剂的主要工艺条件与参考值,同时推荐了可以在集成电路版图编辑软件LEdit中方便调用
2、的应用于绘制含有任意角度单元图形和任意函数曲线的复杂图形编辑模块。关键词:电子束直写(EBDW);电子束邻近效应校正(EPC);匹配与混合光刻;图形数据处理;LEdit图形编辑器中图分类号:TN305.6;TN3057文献标识码:A文章编号:1671-4776(2011)06-0345-08ElectronBeamLithographyTechnologyandPatternDataProcessTechnologyChenBaoqin(MicroProcessing&NanoTech
3、nologyLaboratory,InstituteofMicroelectronics(IMECAS),ChineseAcademyofSciences,Beijing100029,China)Abstract:Thekeytechnologiesofthemicro/nanofabrication,ie,electronbeamlithographytechnologyandpatterndataprocesstechnologyarepresented,includingelectr
4、onbeamdirectwriting(EBDW)technologyandelectronbeamproximityeffectcorrection(EPC)technology,mixandmatchtechniquesbetweenopticallithographysystemandelectronbeamlithographysystem,electronbeamlithographyprocesstechnology,patterndataprocessandconversi
5、ontechnologyinmicrolithography,electronbeamproximityeffectcorrectioninpatterndataprocess.Severalconventionalresistssuitableforelectronbeamlithographywiththeirprocessspecificationsandreferenceprocessdataarerecommendedespecially.Finally,theeditormod
6、uletogeneratecomplicatepatternscomposedwithinstancedcellsrepositionedatallanglesandfunctioncurvesarealsorecommended,whichcanbeeasilycalledintheintegratedcircuitboardeditorsoftwareofLEdit.Keywords:electronbeamdirectwriting(EBDW);electronbeamproximit
7、yeffectcorrection(EPC);matchandmixedlithography;patterndataprocess;LEditpatterneditorDOI:10.3969/j.issn.1671-4776.2011.06.001EEACC:2500收稿日期:2011-02-18基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2006CB0N0604);国家自然科学基金资助项目(61078060);基础科研项目(B1020090022)Email:chenbq
8、@ime.ac.cn2011年6月微纳电子技术第48卷第6期345陈宝钦:电子束光刻技术与图形数据处理技术[1-2]近效应校正商业软件,但是由于邻近效应本身是一0引言种非常复杂的综合效应,与设备、材料和工艺等条电子束曝光技术实际上是一种传统的曝光技件都有很大的关系,目前还没有一种商业软件能够理想地解决这方面的问题,尤其是在电子束纳米加术,由于它的束斑尺寸达纳米尺度,是实验室条件工技术方面,如何有效地抑制邻
