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《钨丝的连续电解抛光_陈和》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在行业资料-天天文库。
1、归‘一产一,件峨觅澳红‘皿立早立血1;研究与试寺}l心,甲万下下下甲下万勺钨丝的连续电解抛光陈和(污庆f义丧材料研‘左所).JJ妇..~、flJ一舌众所周知,电子管及灯泡工」}二需要一‘。一种参考价值的结果一,.’表面光洁,没自石墨涂卞文所用的装置在以前的文献几‘而目买的钨勺1丝材中已“”,这种自丝通常是采月l清洗的方法来获经介绍过了这里只是对电解槽的结构略加,、酸。得清洗方法化学或电解抛光性或碱修改进液方式改为从每个槽段的底部均匀性、。;/、。溶液熔盐或水溶液等六种其中以碱性进液槽段数由原来的五个加长为个另水溶液中进行电。,,解世光的方法为最佳外控温系统亦作了改劝使电解液既能冷一,。丝
2、材的连续电抛光工艺还可用来制造直却又能加热控温精度也有了提高电解槽,,,一径精密的必5~12州的超细丝材并具有模的示意图见11l)是两个镍电极个放l。,,于仓法所没有的一些优兵在槽段l另一个放在槽段珊中不放在槽丝材的连续电抛光过程与静态电抛光相段珊处的原因是为了避免丝材存溶液出口处,,。比有种种独特的地方在多槽段结构的电不均匀抛光的影响。有,;P接正极,解槽中尤其是这样关钨丝在这种过程中当S少IJ直流电源时l叮姚一,。,内抛光千导中aO月溶液中连续为尚未见有报为了认识钨丝P接负极那末钨丝在N,一,古抛光:二艺的特点我们定量J也观察了各项电解抛光时发生的反应泛每个槽段中处于工艺参数与钨丝
3、减径鼠的关系,得到了很有正电位的钨丝表面有,1多J下}刃.卜一了.!{!7!}刀}{皿!⋯}L!犷1尸,艺尸尹,,侧,宁户,了行,图l、电解槽示意图},=电极,B=钨些,I~珊一他段编号。一1矛厂O一2+42e一’Z不犷于SOH一月0+6砰+ZOH+ZHO附O‘一2+3H:个每个槽段中处于负电位的钨丝表面有或写成:一一:eZO一‘+Z2ZH0+Z一HH个丫+2万〔2011+2万0Naz班O一+,:一因此锡丝在电解时总的反应为3H;个归‘一产一,件峨觅澳红‘皿立早立血1;研究与试寺}l心,甲万下下下甲下万勺钨丝的连续电解抛光陈和(污庆f义丧材料研‘左所).JJ妇..~、flJ一舌众所周知,
4、电子管及灯泡工」}二需要一‘。一种参考价值的结果一,.’表面光洁,没自石墨涂卞文所用的装置在以前的文献几‘而目买的钨勺1丝材中已“”,这种自丝通常是采月l清洗的方法来获经介绍过了这里只是对电解槽的结构略加,、酸。得清洗方法化学或电解抛光性或碱修改进液方式改为从每个槽段的底部均匀性、。;/、。溶液熔盐或水溶液等六种其中以碱性进液槽段数由原来的五个加长为个另水溶液中进行电。,,解世光的方法为最佳外控温系统亦作了改劝使电解液既能冷一,。丝材的连续电抛光工艺还可用来制造直却又能加热控温精度也有了提高电解槽,,,一径精密的必5~12州的超细丝材并具有模的示意图见11l)是两个镍电极个放l。,,于
5、仓法所没有的一些优兵在槽段l另一个放在槽段珊中不放在槽丝材的连续电抛光过程与静态电抛光相段珊处的原因是为了避免丝材存溶液出口处,,。比有种种独特的地方在多槽段结构的电不均匀抛光的影响。有,;P接正极,解槽中尤其是这样关钨丝在这种过程中当S少IJ直流电源时l叮姚一,。,内抛光千导中aO月溶液中连续为尚未见有报为了认识钨丝P接负极那末钨丝在N,一,古抛光:二艺的特点我们定量J也观察了各项电解抛光时发生的反应泛每个槽段中处于工艺参数与钨丝减径鼠的关系,得到了很有正电位的钨丝表面有,1多J下}刃.卜一了.!{!7!}刀}{皿!⋯}L!犷1尸,艺尸尹,,侧,宁户,了行,图l、电解槽示意图},=电极
6、,B=钨些,I~珊一他段编号。一1矛厂O一2+42e一’Z不犷于SOH一月0+6砰+ZOH+ZHO附O‘一2+3H:个每个槽段中处于负电位的钨丝表面有或写成:一一:eZO一‘+Z2ZH0+Z一HH个丫+2万〔2011+2万0Naz班O一+,:一因此锡丝在电解时总的反应为3H;个连续抛光过程中的丝速相当于静态过程。越大的这种关系这个现象可用极化抛光效「l。,。{的时间参量从推导得知当其他条件固应来解释在图3上也可看到、。越小抛光定,。时丝材的减径率(或减径量)与丝速成效率越高的结果当然在制备细丝时应综合。!。泛比主个推论是与实验结果一致的从图考虑经济效果及工艺效果来确定原始丝材的;;卜_可
7、见.叩随着:,的增大而下降,大致上呈直径。:。.仗曲线的关系电压不同的曲线形态相似4液温:l,。,戈位表明丝速越高对减径量的影恫越小温度提高会促使化学反应速度加快钨的电解反应也不例外。法拉第定律是对任何,温度都适用的在静态过程中温度升高导致溶液电阻的减小,正极电流密度的加大造成抛光失重的增加。在连续过程中温度升高后,同样也减小溶液电阻于是槽段中原来的清洗电流、抛光电流与极化抛光电流都会加,。大也造成减径量的增加,事实上在连续抛光过程
