光学直接监控技术在镀膜中的应用

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10、fk%{f}~q%_ic‘ab光学直接监控技术在镀膜中的应用&哈哥顿哈咯I高茨曼瑞纳I克鲁哥维纳I祖勒阿冯(德国莱宝光学有限公司I阿兹瑙k%&’-$$*摘要!展

11、示真实的工艺结论I介绍在基片本身或监控片上进行光学直接监控的方法应用于大面积(最大基片盘直径w"+##nn*镀膜的成功经验’直接监控技术可以最快速的再现高难度的设计要求I保证大面积I高精度镀膜设备上的高成品率’文中列举的各类多层膜的实验结果清楚地证明了这种强大的监控手段的应用潜力’可使用直接监控方式镀膜的膜系包括截至滤光片I偏振膜I分光膜以及多腔带通滤光片’所有这些膜系都是在{

12、fk(等离子辅助沉积*和{f}~q(等离子体辅助反应磁控溅射*的方式下完成的’实验的重复性和均匀性体现了直接监控的优势’在塑料基底上应用等离子体辅助工艺的关键在于调整离子源或等离子源本身’他们

13、改变热度和等离子轰击的能力通常是工艺的关键因素I从而使工艺更适合于象塑料这样对温度和等离子轰击敏感的基材’关键词!光学直接监控%大面积上的高成品率%等离子辅助沉积%等离子辅助反应磁控&收稿日期!)##&%#&%’#作者简介!,fl*k^}(,imm[("-&$%*I男I汉堡人I德国汉堡大学物理系博士I主要从事镀膜工艺方面的研究’第$期o(pqN#Zro?667Kstuv"N:64A<75<:A?C;7;:<76:;8:;=4579:<:7;5C?;<9lnml溅射!塑料基材中图分类号"#$%$!&’$%文献标识码"()*+,-./01,2.+&345