硅外延装备工艺控制软件设计与实现

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1、AthesissubmittedtoZhengzhouUniVersityforthede铲eeofMasterDesignandImplementationofProcessCon仃01So行w2ureforSiliconEpita妇alEquipmentByW．eiChenSupervisor：AssociateProfessorJiansheGaoMecha仃onicsEngineeringSchoolofMechanicalEngineeringMay，2014学位论文原创性声明本人郑重声明：所呈交的学位论文，是本人在导师的指导下，独立进行

2、研究所取得的成果。除文中已经注明引用的内容外，本论文不包含任何其他个人或集体己经发表或撰写过的科研成果。对本文的研究做出重要贡献的个人和集体，均已在文中以明确方式标明。本声明的法律责任由本人承担。学位敝作者僻反日期：功／参年乡月

3、；D日学位论文使用授权声明本人在导师指导下完成的论文及相关的职务作品，知识产权归属郑州大学。根据郑州大学有关保留、使用学位论文的规定，同意学校保留或向国家有关部门或机构送交论文的复印件和电子版，允许论文被查阅和借阅；本人授权郑州大学可以将本学位论文的全部或部分编入有关数据库进行检索，可以采用影印、缩印或者其他复制手段保存论

4、文和汇编本学位论文。本人离校后发表、使用学位论文或与该学位论文直接相关的学术论文或成果时，第一署名单位仍然为郑州大学。保密论文在解密后应遵守此规定。学位敝作者骷砍日期：劢f争年§月扣曰摘要摘要作为集成电路生产线重要前端工艺装备之一，硅外延装备负责硅片的外延工艺处理，在给定的外延衬底上生成一层导电型、电阻率，厚度与晶格结构等都满足严格要求的新单晶层，对后续工艺的顺利进行和最终产品的质量有着至关重要的影响。本文以某型号硅外延装备为研究对象，旨在完成其工艺反应系统控制软件的设计与开发工作。首先分析了装备工艺反应系统的主要功能及其硬件结构的特点，结合工艺反

5、应系统控制软件的用户需求，采用UML建模语言建立软件的需求模型，以提供软件设计的依据。然后，阐述了软件架构的基本概念与设计原则。在此基础上，依据软件需求模型，运用层次化、模块化设计方法完成工艺控制软件的架构设计，并通过UML语言建立软件各个层次的静态模型。为实现软件功能模块的设计，引入设计模式这一方法。对设计模式的概念、类型，以及常见模式进行分析研究，然后根据软件架构设计所划定的功能模块的特点，确定合理的设计模式完成其设计工作，并采用UML语言建立其静态模型。最后，在．Net环境下，采用Cjfj}编程语言完成代码的编写工作，并分别从单元测试、集成测

6、试和系统测试这三个层面对软件进行测试。结果表明，所研发软件能够很好地满足用户要求；此外，层次化、模块化设计方法和设计模式的运用获得了装备控制软件的易扩展、易维护等特性，以及升级换代时快速市场响应的能力。目前该软件已成功用于硅外延装备的实际控制，保证了装备工艺反应系统的稳定可靠运行。本文所采用的软件设计思想和方法，对具有类似特征的装备控制软件的设计与开发有着一定的指导与借鉴意义。关键词：集成电路硅外延装备需求模型软件架构设计模式AbStraCtAsoneoft11ecmcial丘ont—endprocessequipmentsforintegrate

7、dcircuitmallufac嘶nglille，Silicon印ita)【ialequipmentisresponsibleforacmevillgmeepita)dalprocessof靴血rs．Bycreatinganewsinglec巧stallayerⅥ柑chrequirest11econductiV畸咖e，resiStiV咄thjcknessaIld也elattices觚cturetomeetaIlexactcntenonona西venepita)(ialsubstrate，ithaSavitaJinnuenceonmesmootmvm

8、血goffollow-upprocess，eventhequal蚵ofthefmalproducts．TakiIlgceml咖lesilicon印ita)(ialequipmentaStheobjectofsmdy，thisp印erisaimingtocompletet11edesigllanddeVelopmentofthecontrolsofhⅣarefort11eprocess陀actionSystem．FirStly，themain‰ctionsoftheprocessreactionsyStemiIlnleequipment，a11d1t

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