磁控溅射复合金属氮化物薄膜和纳米多层膜的摩擦磨损性能

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时间:2019-05-12

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1、浙江大学硕士学位论文磁控溅射复合金属氮化物薄膜和纳米多层膜的摩擦磨损性能姓名:顾斌申请学位级别:硕士专业:材料科学与工程指导教师:涂江平20070601浙江大学硕£学位论文AbstractOwningtothehighhardness,goodoxidationresistanceandmanyotherexcellentproperties,transitionmetalnitridenano-cumpositeandnano-multilayeredfilmsCallimproveperformanceofcuttingt

2、oolsandextendtheirlife-spans,whichwouldresultinpromisingprospectsinindustrialapplication.Uponthis,thepresentworkisdedicatedtoimprovethetribologicalpropertiesofthefilms.Ti-Si-NnaonocompositefilmsandCr-W-N,Cr-Mo-NseriesfilmswerefabricatedthroughDCmagnetronsputtering.E

3、ffectsofdepositionparametersonmierostrueture,adhesionstrengthandtribologicalpropertieswereinvestigatedtoobtaintheoptimaldepositioncondition.Compositetargets,withSiembeddedinTitargets,wereusedtodepositTi-Si-Ncompositefilmswhilesubstratetemperature,biasandpowerdensity

4、wereconstant.Themicrostruemre,morphologyofcross-sectionand$nrface,chemicalcomponentofcompositefilmswerecharacterizedbyX-raydiffxaction(XRO),high-resolutiontransmissionelectronmicroscope(HRTEM),scanningelectronmicroscope(SEM),atomicforcemicroscope(AFM)andenergydisper

5、siveX-rayspectroscope(EDS)respeetivdy.Scratchtestswereappliedtodeterminetheadhesionstrengthofas-depositedfilms.Thetribologiealbehaviorwasinvestigatedusingaball·on-disktribometerinbotllvacuumandhumidair.Therelationshipbetweenmicrosturcture,morphology,propertiesanddep

6、ositionpressurewerealsodiscussed.ItwasfoundthatthecompositestruetureofTi-Si-Nfilms,nanocrystallineTiNembeddedinamorphousSi3N4matrix,wasconfirmedinthiswork.Theincreasingdepositionpressureresultedintheappearanceofcolumnarstructure,decreaseinthefilmdensity,increaseinth

7、esurfaceroughness,anddeteriorationoftheadhesionstrengthandtribologicalproperties.TheadditionofSiinthecompositefilmscouldimprovethetribologiealperformanceofthefilms.髓eCr-W-N.Cr-Mo-Nseriesfilmswerealsodepositedbymagaetronco-sputteringusingpuremetaltargets。Thevariation

8、ofthestructureWasachievedbyalteringrotationvelocityofthesubstrateholder.MicrostruetureandmorphologyofthefilmsWCI"echaracterizedbyXRD,SEM.R

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