磁控溅射mosltxgtmosltxgtmo纳米多层复合薄膜的环境摩擦磨损性能

磁控溅射mosltxgtmosltxgtmo纳米多层复合薄膜的环境摩擦磨损性能

ID:32466448

大小:2.08 MB

页数:58页

时间:2019-02-06

磁控溅射mosltxgtmosltxgtmo纳米多层复合薄膜的环境摩擦磨损性能_第1页
磁控溅射mosltxgtmosltxgtmo纳米多层复合薄膜的环境摩擦磨损性能_第2页
磁控溅射mosltxgtmosltxgtmo纳米多层复合薄膜的环境摩擦磨损性能_第3页
磁控溅射mosltxgtmosltxgtmo纳米多层复合薄膜的环境摩擦磨损性能_第4页
磁控溅射mosltxgtmosltxgtmo纳米多层复合薄膜的环境摩擦磨损性能_第5页
资源描述:

《磁控溅射mosltxgtmosltxgtmo纳米多层复合薄膜的环境摩擦磨损性能》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、浙江大学硕士学位论文摘要本文以金属表面低摩擦和高耐磨性的复合薄膜材料为应用背景,对MoSx/MoS。一Mo纳米多层复合簿膜的沉积制备工艺、组织结构及摩擦磨损性能进行了研究。论文主要探讨了溅射气压和Mos;.Mo层中不同的Mo含量对MoSx,MoS。一Mo纳米多层复合薄膜形貌、微观组织、结构成分和摩擦磨损性能的影响,以寻求最佳的薄膜制备工艺参数,满足MoSz类薄膜在真空和潮湿环境下的应用要求。采用经过高能球磨的层状的MoS2和Mos2+Mo粉末冷压烧结制备靶材,通过直流磁控溅射的方法,在一定的基体温度、基体偏压、溅射功率、溅射气压下溅射制各了MoS。/MoS。一Mo纳米多层复合薄

2、膜。采用xRD、SEM、AFM、EDs等分析测试方法,对通过直流磁控溅射方法制备的Mos,/Mos,一Mo纳米多层复合薄膜的表面形貌、组织结构和成分进行了系统地研究,讨论了不同的溅射气压以及Mos。.Mo复合层中的Mo含量与薄膜形貌、组织结构和成分之间的相互关系。结果表明,在低气压和低Mo含量下制各的薄膜具有良好的基面取向,表面光滑致密,而且具有明显的多层结构。随着溅射气压和Mo含量的增加,薄膜开始向随机取向发展呈柱状生长,表面趋于粗糙,多层结构消失。在对Mos。,Mos。一Mo纳米多层复合薄膜微结构分析的基础上,用涂层附着力自动划痕仪和球一盘式微摩擦磨损试验机分别测试评估了M

3、os,/Mos。一Mo薄膜结合力和摩擦磨损性能,并采用扫描电子显微镜观察了复合镀层的表面磨损形貌。实验结果表明:在低气压(0.24~o.40Pa)下制备的薄膜结合力良好,在高气压(O.80~1.20Pa)下制各的结合力较差。随着复合薄膜MoSx.Mo层中Mo含量的增加,薄膜和基体的结合力有所下降。薄膜的摩擦磨损性能随着Mo含量的增加和溅射气压的升高而降低。另外通过改变实验参数测试薄膜的摩擦磨损性能发现,随着接触应力的提高,薄膜的摩擦系数逐渐下降,而薄膜的摩擦系数和磨损率都相应的随着滑动速度的增加呈先减小后增大的趋势。通过对薄膜环境稳定性的测试发现,在O.24Pa溅射气压下制备的

4、5at.%Mo含量的多层复合薄膜具有最佳的摩擦磨损性能和环境稳定性。关键词:磁控溅射,二硫化钼,纳米多层复合薄膜,摩擦磨损性能浙江大学硕士学位论义Ab虬ra吐AbstractUponthe印plicationbackgmundofsolid1ubricamsandwearresistammaterials,thed印ositionprocess,Ⅱ1icmstructuresandt曲ologicalpropertiesofMoSx/MoSx—Moself-lubricatedconlpositemllltilayerfilmswereinvestigated.Int11isp

5、aper,thee腩ctofdepos“ionpresstlreanddi插eremMocontemsontllemicmsmJcture,morphology,compositionandmbolo百calpmpeniesofMoSx,MoSx-Mocompositemultilayerfilmswasdiscussed,inordertomeetthedemalldofapplicationsinvacuumandinh啪idairTheMoSx,MoSx—MocompositemultilayerfilmswitlldifreremMocontentsweredeposi

6、tedonsteelsubs仃atesusingptlreMoS2target锄dMoS2一Mocomposite乜甥乩whichproduced疗omball-milling2H-MoS2aIldMopoWders.Todeteminet11ee仃ectofargonprcssure,tllecompositefilmswered印ositedatmpressuresbeMeen0.24-1.20Pa,whileotllerdepositionparanleters,suchassubstratetemperaIllre,biasV01tagea11ddepositionpo

7、werkeptconstant.Themicrostmctures,morphology,andcompositionoftl!IeMoSx/Mosx—Mocompositemultilayerfilmsdepositedbyd.cmagnetronsputt谢ngweresystematicallyinVes廿gatedbymeallsofXRD,SEM,AFM,EDS.Therelationshipsbetweend印ositionprcssure,Mocontentsandmicmst

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。