本科毕业论文--不同静电场处理番茄种子对其生长的影响

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1、陇东学院2012届本科生毕业论文题目:不同静电场处理番茄种子对其生长的影响专业:园学号:班级:08级园艺班姓名:导师姓名:完成时间:2011.02.25高压静电场种子处理技术对番茄生长效应的研究张玲指导老师:任志刚(讲师)农林科技学院2008级园艺本科班庆阳745000摘要物理农业所包含的内容很广。如声波助长技术,种子磁化、频谱处理技术、空间电场防病促生技术、电子杀虫技术、高频电磁波及激光育种,以及利用射线处理种子的太空育种等,是农业装备机、电、仪技术的有效结合,本课题由于条件所限主要研究高压静电场种子处理技术对番茄生长效应的研究。国外在1950s—1960s年代进行了研究,我国在19

2、60s只进行了一些初步探索,直到1990s才开始大量的研究,根据报道,种子经高压静电场处理后,呼吸强度,根系活力,发芽率和发芽势均有提高,长势好,禾苗整齐粗壮,抗病能力强,成熟早,产量也有不同程度的增加。种子在受到静电场的刺激下,种子蛋白发生凝聚,过氧化氢酶活性提高,电导率降低,ATP含量提高,有利于胚芽吸收和利用,增强了吸水能力,强化了基本营养物质迅速溶解和输送,萌发速度快,幼苗生长快而健壮。但总体来看,对于高压静电场对植物的生长效应大多停留在种子处理以及实验室实验的基础之上,并没有进行系统的田间试验,所以具有一定的局限性使得在农业生产上的应用受到制约。故系统的田间试验对于高压静电场

3、种子处理技术在农业生产中的推广应用具有重大作用。取高压静电场物理因子不同剂量(即不同场强,不同时长的组合)处理番茄种子,然后再大田里栽培,通过对植株的株高,分枝数,叶片数,总产量等指标,选出最优的物理因子处理方案,为后续大棚蔬菜的物理农业体系的形成,提供实际推广依据。1材料与方法1.1供试材料及仪器番茄种子:金棚M215高压静电发生器(GJ--2008型高压静电电源,昆明陆军学院科技开发部研制)1.2试验时间及地点西峰区寨子乡实验基地2.试验及方法2.1.1种子处理方法每组处理项选取饱满和大小一致的种子50粒进行处理。2.1.1.1对照种子处理选饱满度和大小一致的番茄种子20粒,不进行

4、任何物理因子处理。2.1.1.2高压静电种子处理根据所查阅的文献资料得知最佳处理剂量是:375KV/M,10min故处理计量择分别为:275KV/M,375KV/M,500KV/M.各剂量又设置处理时间为5min10min15min为三因素三水平实验。表1高压静电处理场番茄种子实验设计处理电场强度U/d处理效应KV/min场强参数KV*min/mA1A2A3B1B2B2C1C2C3CK20KV/0.08m=27520KV/0.08m20KV/0.08m30KV/0.08m=37530KV/0.08m30KV/0.08m40KV/0.08m=50040KV/0.08m40KV/0.08m

5、0275*5`275*10275*15375*5375*10375*15500*5500*10500*15013752750412518753750562525005000750002.1,2番茄发芽势及发芽率的测定将处理后的番茄种子和对照整齐播种于育苗床地内并标记,保持设施地内温度和水分,使适宜番茄种子发芽。6天后统计出苗率,计算发芽势,10天后再次统计出描数,计算发芽率。2.1.3产量统计方法各水平处理进行全产统计,最后求出单株产量。2.14数据分析方法将番茄植株的叶面积株高茎粗叶片数节数感染指数进行统计后先求平均值,然后结合对照,求出平均增长量,根据各个处理之间的平均增长量进行比

6、较分析,得出每个水平处理效果比较好的前几位。最后结合每个水平处理排列的前几位,比较这几个指标的哪一个处理总体排列所占的比例大,从中选出最优的处理。平均增长率=(处理水平—对照)/对照*100%番茄植株发病率分为六级,分别按占植株叶片比例分为10%,20%,35%,60%100%计算感染指数;感染指数=(病级株数)2.1.3番茄发芽时期相关指标的测定幼苗的培养及发芽率的测定:将处理后的番茄种子和对照组CK整齐种植于设施地内并注明,保持设施地内温度、光照及水分情况。出苗期注意设施地内温度、光照、水分及田间处理措施。一周后统计出苗数,计算发芽率。2.1.5田间试验种子发芽势及其发芽率测定表处

7、理A1A2A3B1B2B3C1C2C3CK发芽率(%)868886969888989890942,1,6株高统计分析表茎粗统计分析表A1A2A3B1B2B3C1C2C3CK12.102.212.301.962.142.362.422.342.262.2822.562.622.712.322.612.822.962.912.682.4833.253.183.152.693.243.43.073.33.113.1843.833.53.373.23.

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