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时间:2019-03-30
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1、临沂大学理学院2011届本科毕业论文(设计)2011届 分类号: 单位代码:10452临沂大学理学院毕业论文(设计)Ni-cu膜的制备及光学性质的研究 姓名 孙玉骞 学号 200707410213 年级 2007 专业 物理学 系 (院) 理学院 指导教师 石绍华2011年5月4日临沂大学理学院2011届本科毕业论文(设计)摘要椭偏测量的基本原理是起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后成为特殊的椭圆偏振光,把它投射到待测样品表
2、面反射出来的将是线偏振光。根据偏振光在反射前后的状态变化(包括振幅和相位的变化),便可测定样品表面的许多光学特性。关键词:椭偏法;Ni-Cu膜;真空镀膜临沂大学理学院2011届本科毕业论文(设计)ABSTRACTThemeasurementofthebasicprincipleisapolarizationoflightthroughtheorientationofthe1/4afterwaveofaparticularsphereofthepolarizationoflight,andputitontothesurfaceofthetestsamplesofref
3、lectionslinewillbepolarization.Accordingtothepolarizationoflightatthebackofthestatechanges(includingamplitudeandphasechange),itcandeterminethesamples.Keywords:Partialmethod;MembraneofNi-Cu;Vacuumcoating临沂大学理学院2011届本科毕业论文(设计)目录1引言………………………………………………………………………………51.1真空镀膜技术……………………………………………
4、………………..…51.1.1真空镀膜技术…………………………………………………..………51.1.2常用的真空镀膜技术简介………………………………………….51.1.3真空蒸发镀膜技术中真空度对蒸发的影响……………………...51.1.4真空蒸发镀膜中应注意的几个问题…………………………….……..71.2薄膜材料……………………………………………………………………....71.2.1薄膜材料发展………………………………………………….………..71.2.2薄膜的应用…………………………………………………………..81.3椭偏法………………………………………………
5、……………………...81.3.1椭偏法的简单介绍…………………………………………………...81.3.2椭偏法的基本原理……………………………………………..…….81.3.3椭偏法的发展与应用…………………………………………………92实验……………………………………………………………………..………92.1实验原理……………………………………………………………...…….92.1.1椭偏法基本原理………………………………………………...…….92.1.2光度法的基本理论…………………………………………………..112.2实验装置…………………………………………
6、………………………..132.3薄膜样品制备过程………………………………………………………..132.4实验内容…………………………………………………………………..142.5实验结果与分析…………………………………………………………..143小结………………………………………………………………………..…..17参考文献……………………………………………………………………………………….18致谢……………………………………………………………………………….19临沂大学理学院2011届本科毕业论文(设计)1引言1.1真空镀膜技术1.1.1真空镀膜技术早在一个多世纪以
7、前,人们从辉光放电管壁上就观察到了溅射的金属薄膜。根据这一现象,后来逐步发展起真空镀膜的方法。真空镀膜技术,在现代工业和科学方面有着广泛的应用。例如,光学仪器上的各种反射膜,增透膜,滤光片等,都是真空镀膜的产物;电子器件中用的薄膜电阻,特别是平面型晶体管和超大规模集成电路也有赖于薄膜技术来制造;硬质保护膜可使各种经常磨损的器件表面硬化,大大增强耐磨程度;磁性薄膜具有记忆功能,在电子计算机中用作存储记录介质而占有重要地位……。因此,真空镀膜技术目前正在向各个重要的科学领域中延伸,引起了人们广泛的注意[1]。1.1.2常用的真空镀膜技术简介真空镀膜中常用的方法是真空
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