正文描述:《酸性cucl,2蚀刻废液的再生及铜的回收工艺研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、武汉工程大学硕士学位论文酸性CuCl<,2>蚀刻废液的再生及铜的回收工艺研究姓名:黄凌云申请学位级别:硕士专业:化学工程指导教师:池汝安;朱国才20080401摘要印刷电路板蚀刻过程产生大量的含铜蚀刻废液,其中铜离子的浓度高达140"--1609/L。这种废液不及时处理不仅造成严重的环境污染,而且造成了资源的浪费。随着我国经济的快速发展,对于各种资源的依存度加大,造成了近年来有色金属及稀有金属价格的暴涨。从工业废弃物中回收有价金属,提高二次资源的利用率,对于满足我国国民经济发展的需要具有实际意义。本文以广东某电路板厂的蚀刻废液为原料,分别研究了过氧化氢和氯酸钠为氧化
2、剂时的酸性氯化铜蚀刻废液的再生。研究采用的原料酸性氯化铜蚀刻废液中以过氧化氢氧化剂Cu2+含量为124.S49/L,HCl含量为2.68mol/L;氯酸钠作为氧化剂时Cu2+含量为l15.589/L,NaCI含量为609/L,HCI含量为1.94mol/L。Cu具有很高的回收价值,采用萃取技术分离废液中的铜离子,使铜得到回收,废液得到再生。萃铜后不破坏废液中萃余液成分,萃取溶液的循环再生和氯化铜溶液萃出同时完成,再还原氯化铜就可以得到超细氧化亚铜粉。本文的主要目的是找到一个更经济,更有效的方法再生蚀刻废液,同时回收铜产品。研究结果表明:(1)N235萃取铜的饱和容量
3、较高,可以满足工业生产需要,而且氯离子浓度及蚀刻废液中盐酸的浓度越高,N235萃取有机相萃取的铜浓度也越高;(2)对于氯酸钠为氧化剂的蚀刻废液,萃取级数5级,相比O/A>--4.5/1,萃取率可以达到99.5%以上;反萃级数9级,相比O/A三3.7/l,反萃率可以达到99%以上;(3)对于过氧化氢为氧化剂的蚀刻废液,调节萃取相比O/A2.1/1~3.7/1,级数为5,萃余液中铜离子浓度为17.2---,66.39/L,反萃相比O/A--<4.5/1,级数为9,反萃率都在90%以上;(4)以所得反萃液氯化铜溶液为原料,葡萄糖为还原剂,采用液相还原法制备超细Cu20。反
4、应温度为80℃、反应液相终点控制pH为8。9、葡萄糖与Cu2+摩尔比为O.8时,反应1h,可得到粒度均匀、分散武汉工程大学硕士学位论文性较好的微米级Cu20;制得的Cu20产品纯度高达99.34%,Cu的回收率为99.7%。其常温抗氧化性能良好,产品粒径100%分布在1.8—2.2gm;(5)采用本工艺处理酸性CuCl2蚀刻废液反萃液无废水产生,避免了对环境的污染。该法操作简单,易于控制,并得到了高附加值的Cu20产品,可为电路板蚀刻废液二次资源增值利用提供一条新的技术途径。上述研究为酸性氯化铜蚀刻废液的再生进一步工业化提供了理论和实践基础。同时对于环境保护及资源的
5、综合利用也具有十分重要的意义。关键词:酸性蚀刻废液;萃取;化学沉淀法;制备IlABSTRACTA蹲.eatdealofetchantwastesolutionsproducedintheproductionofp血tedcircuitboardcontainscopperwithhighconcentration,approximately14肌1609/L.WithrapiddevelopmentofeconomyinChina,dependencede觥tosomeresourcesisincreasing,resultinginthesoaringpriceo
6、fnonR爿砌lsm烈alsandraremetals,suchascopper.Therefore,consideringbomenviron】mentalandeconomicalconcerns,itismeaningfulandnecessarytoI.ecovercopperfromtheindustrialwastesandtoaccelerateutilizationofsecondresourcesintheetchingprocess.Inthepresentdissertation,aprocesstorecovercopperfromacidi
7、cCuCl’etchantwasteandregeneratetheetchantsolutionWasputforward,usingtheetchantwastesolutionsfromaprintedcircuitboardenterpriseinGuangdongastherawmaterial,whichcallbesubdividedintotwoetchantwasteliquidduetodifferenceoftheoxidantsaddedinetchingprocess,H202alldNaCl03respectively.Inthefo
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