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时间:2019-03-08
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1、陆昉上课时间:周二3-4节;周五5-6节(双周)地点:HGX208光华楼西辅楼208室办公地点:综合楼201室;Tel:13661653594Email地址:fanglu@fudan.edu.cn课件下载:ftp://10.107.0.48课程简介¢课程性质半导体研究领域的专业基础课量子力学统计物理¢课程特点内容广、概念多、注重解决实际问题¢课程要求固体物理着重物理概念及物理模型基本的计算公式¢课程成绩半导体物理平时30%期末考试70%(半开卷)半导体半导体半导体¢不无故缺课,认真完成习题材料器件工艺¢参考书<<半导体物理学>>钱佑华<<半导体物理
2、学>>叶良修半导体集成电路绪言一、什么是半导体(semi-conductor)?导体半导体绝缘体电阻率ρ10-6~10-410-4~1010>1010(Ωcm)LLR=ρSS二、哪些因素影响半导体的电阻率?杂质对半导体电阻率的影响硼/1百万磷/1百万硅2x1050.2Ωcm2x105硅的纯度仍高达99.9999%温度对半导体的影响ρ纯硅纯硅:T=300Kρ=2x10:T=300Kρ=2x105ΩΩcmcmT=320Kρ=2x104ΩΩcmcm半导体金属的温度系数是正的金属?T半导体的温度系数是负半导体的温度系数要比金属大的多?光照对半导体的影响硫化
3、镉(CdS)半导体薄膜,无光照时的暗电阻为几十MΩ,当受光照后电阻值可以下降为几十KΩ。气体、压力、磁场等对半导体电阻率都产生较大的影响三、半导体的发展历史及前景ò第一阶段:现象观察(1833-1931年)*1833年:M.Faraday发现半导体所具有的负电阻温度系数ρ半导体金属T*1873年:W.Smith首次发现半导体的光电导效应*1874年:F.Braun首次发现半导体的整流效应1883年:制造出硒整流器1927年:制造出氧化亚铜整流器*1879年:Hall首次发现Hall效应(半导体RH>0,RH<0)*1931年:H.Dember首次发
4、现了光电池效应ò第二阶段:理论指导*1931年:A.H.Wilson通过解薛定谔方程发展了能带理论*1942年前后,多位科学家提出了基本类似的整流理论ò第三阶段:晶体管诞生*1947年:Bardeen等人制造了第一个晶体管JohnBardeenWilliamBradfordShockley诺贝尔WalterH.Brattain1956晶体管的三位发明人:巴丁、肖克莱、布拉顿ò第四阶段:集成电路出现*1958年:杰克-S-基尔比发明第一块集成电路SSIMSILSIVLSIULSIGSI2233557799元件数<1010~1010~1010~1010
5、~10>1022446688门数<1010~1010~1010~1010~10>10*1966年:形成大规模集成电路*1971年:英特尔公司研制出诺贝尔第一块CPU集成电路4004(4位)*1973年:8008(8位);2000*1978年:8086(16位);……1946年,世界上第一台电子计算机诞生,重30吨,用18000个电子管,电子管寿命有限,平均工作时间2.5小时第一个微处理器PENTIUM4微处理器芯片(0.18微米,1.7GHz,4200万个元件)2001年集成电路发展的Moore定律(1965年):晶体管数目(集成度)每十八个月增长
6、一倍(即每三年增至四倍)808080868028680386PentiumPro80486Pentium109动态随机存储器256Mb▲864Mb10DRAM▲16Mb807867▲●10●4Mb●Pent.Pro▲1MbPentium106▲●80486的晶体管数256Kb上▲●8038610564Kb▲●8028616Kb●80864▲104Kb▲微处理器1Kb●●8080/8085▲●单位芯片3●40048008Microprocessors101970197519801985199019952000年份微电子->纳电子0.250.2沟道长度
7、0.15(微米0.1)0.0501997199920012003200620092012上海IC产业发展战略目标年份2000200520102015销售收入(亿美元)7301655005年平均年增长率(%)344125国内IC应用市场占有率2%9%30%50%国际市场占有率043%0.43%1%3%5%生产线技术水平8"/0.358"/0.1812"/0.1012"/0.05•上海贝岭:7.88亿美元,6英寸,0.5~0.35微米•华虹NEC:12亿美元•上海宏力:16亿美元,8英寸,0.25微米•上海中芯国际(SMIC):30亿美元,8英寸,02
8、50.25微米•上海华力微电子有限公司:145亿RMB,12英寸,20102010--11--1919投产浦东构造“世界级
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