亚微米光刻质量的控制技术分析

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1、目录目录第一章绪论.....................................................................................................................11.1集成电路的发展概述...............................................................................................11.2光刻技术的发展................................................

2、.......................................................31.2.1离轴照明...............................................................................................................41.2.2移相掩膜技术.......................................................................................................51

3、.2.3光学邻近效应校正...............................................................................................71.3光阻的性质作用.......................................................................................................81.4本论文研究的意义............................................................

4、.......................................8第二章光刻机的结构及光刻原理...............................................................................102.1光刻系统介绍.........................................................................................................102.1.1曝光系统介绍...............................

5、......................................................................102.1.2NSR的结构........................................................................................................102.2光刻原理和成像条件............................................................................................

6、.162.3光刻工艺流程.........................................................................................................162.3.1晶圆的表面清洗.................................................................................................172.3.2气相沉积底膜....................................................

7、.................................................182.3.3光阻的旋转涂布.................................................................................................192.3.4前烘.........................................................................