锰锌化合物电致阻变薄膜及其异质结的制备与性能研究.pdf

锰锌化合物电致阻变薄膜及其异质结的制备与性能研究.pdf

ID:34547734

大小:2.66 MB

页数:63页

时间:2019-03-07

锰锌化合物电致阻变薄膜及其异质结的制备与性能研究.pdf_第1页
锰锌化合物电致阻变薄膜及其异质结的制备与性能研究.pdf_第2页
锰锌化合物电致阻变薄膜及其异质结的制备与性能研究.pdf_第3页
锰锌化合物电致阻变薄膜及其异质结的制备与性能研究.pdf_第4页
锰锌化合物电致阻变薄膜及其异质结的制备与性能研究.pdf_第5页
资源描述:

《锰锌化合物电致阻变薄膜及其异质结的制备与性能研究.pdf》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、密级桂林电子科技大学硕士学位论文(全日制专业学位硕士)题目锰锌化合物电致阻变薄膜及其异质结的制备与性能研究(英文)Studyonpreparationandpropertiesofmanganese-basedcompoundsandzinc-basedcompoundsresistanceswitchingthinfilmsandheterostructures研究生学号:1208520411研究生姓名:韦长成指导教师姓名、职务:王华教授申请学位门类:工学学科、专业名称:材料工程提交论文日期:2014年10月论文答辩日期:2014年12月

2、万方数据万方数据摘要摘要随着科学技术的迅猛发展,传统的非易失性存储器(NVW)硅基flash存储器遇到了尺寸无法继续缩小的瓶颈,已经限制了flash存储器的进一步发展。因此,寻找下一代非易失性存储器得到了广泛的关注与研究。阻变存储器(RRAM)由于具有低功耗,高存储密度,高操作速度,耐疲劳,长保持,多级存储,与CMOS工艺兼容等优点,使其成为下一代NVW的强有力的竞争者。++本文采用溶胶-凝胶法(Sol-gel)在p-Si或Pt/TiO2/SiO2/Si衬底上制备了Mg0.2Zn0.8O、La0.67Ca0.33MnO3、Mg0.2Zn0.

3、8O/La0.67Ca0.33MnO3、Mg0.2Zn0.8O/ZnMn2O4薄膜,利用XRD与SEM对薄膜进行表征。以各薄膜为基础,构建了不同结构的阻变器件,研究了各器件的阻变性能。主要内容和成果如下:++(1)研究了退火温度对Ag/Mg0.2Zn0.8O/p-Si器件的阻变性能影响。不同退火温度得到的器件都具有优异的双极性电阻开关特性。器件在高阻态的导电机制为肖特基势垒发射,在低阻态的导电机制为导电细丝传导。经过100次循环测试后,不同温度退火的器件均无明显的阻变特性。++(2)研究了退火温度对Ag/La0.67Ca0.33MnO3/p

4、-Si器件的阻变性能的影响。不同温度退火的器件具有双极性的开关特性,器件在高阻态的导电机制遵循肖特基势垒发射,在低阻态的导电机制为SCLC。通过1000次循环测试可知,650℃和700℃退火的器件比经600℃和750℃退火的器件具有更好的抗疲劳特性。随着退火温度的增加,器件的置位电压改变不大,复位电压变小,分布变集中。++(3)在p-Si衬底上制备了具有优异双极性电阻开关特性的++Ag/MZO/LCMO/p-Si异质结构器件。器件表现出优异的、多级的电阻开关特性。器件在高阻态与低阻态的导电机制分别为肖特基势垒发射与SCLC。经过循环测试,器

5、件表现出良好的抗疲劳特性与保持特性。置、复位电压分布较集中。以Pt/TiO2/SiO2/Si为衬底制备了Ag/MZO/LCMO/Pt器件与Ag/LCMO/MZO/Pt器件,由于器件的堆叠顺序不同,得到了两种不同类型的开关类型,器件的置、复位电压相差较大,两种结构器件的导电机制也不同,其抗疲劳特性也有差异。++(4)以p-Si为衬底制备了具有双极性与多级电阻开关特性的++Ag/Mg0.2Zn0.8O/ZnMn2O4/p-Si异质结构器件。器件在高、低阻态的导电机制分别为6肖特基势垒发射和SCLC。器件经过1000次循环测试和10s测试后,高、

6、低阻态阻值无明显变化,表现出了良好的抗疲劳特性和保持特性。统计了器件的100次置、复位电压分布可得:器件的置位电压较小,复位电压较大。关键词:溶胶-凝胶;器件;异质结*本项研究得到国家自然科学基金(No.51262003)的资助I万方数据AbstractAbstractWiththerapiddevelopmentofthescienceandtechnology,thetraditionalnon-volatilememories(NVM)Flashmemorydevicesbasedonsiliconsufferfromthephysi

7、callimitscalingproblem,whichhaslimitedthefuturedevelopmentofNVM.Hence,searchingforthenextgenerationNVWhasbeenwidelyconcernedandstudied.Resistancerandomaccessmemory(RRAM)isconsideredofthepowerfulcandidatesforthenextgenerationofNVWdevicesduetothelowpowerconsumption,highinteg

8、rationdensity,highoperationspeed,excellentdurability,longretention,multistateswitchingand

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。