上腭微种植体间接支抗后牙受力的三维有限元分析

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1、学位论文独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。据我所知，除了文中特别加以标注和致谢的地方外，论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果，也不包含为获得直量大堂或其他教育机构的学位或证书而使用过的材料。与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的说明并表示谢意。学位论文作者签名(手写)：签字日期：年月日学位论文版权使用授权书本学位论文作者完全了解南昌大学有关保留、使用学位论文的规定，有权保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁盘，允许论文被查阅和借阅。本人授权南昌大学可以将学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索，可

2、以采用影印、缩印或扫描等复制手段保存、汇编本学位论文。同时授权中国科学技术信息研究所和中国学术期刊(光盘版)电子杂志社将本学位论文收录到《中国学位论文全文数据库》和《中国优秀博硕士学位论文全文数据库》中全文发表，并通过网络向社会公众提供信息服务。(保密的学位论文在解密后适用本授权书)学位论文作者签名(手写)：毯、导师签名(手写)：签字日期：加，5年r月z缈日签字日期：汐／5年y月摘要IIIll[111IIIIIIUlIIIIIIIIY2427748目的：通过三维有限元分析，探讨上腭微种植体间接支抗对后牙在三维方向上的支抗控制作用及其连接的最佳牙位，为正畸临床提供参考。方法：通过CBCT扫描头

3、部获得图像数据，结合Mimics、Geomagic和Solidworks软件，建立四组模拟减数第一前磨牙的上颌骨三维有限元模型，其中模型I模拟加入托槽及0．019英寸×0．025英寸的弓丝且第二前磨牙和第一磨牙连续结扎；模型Ⅱ在模型I的基础上设定腭部微种植体并用0．019英寸×0．025英寸的不锈钢丝将其约束于两侧上颌第二前磨牙上；模型III用0．019英寸×0．025英寸的不锈钢丝将腭部微种植体约束于两侧上颌第一磨牙上；模型Ⅳ用0．047英寸×0．047英寸的不锈钢丝将腭部微种植体约束于两侧上颌第二前磨牙上。在对上颌第二前磨牙分别施加2N近中、骀向、腭向作用力条件下，使用Anasys软件计

4、算比较四组模型中上颌第二前磨牙及第一磨牙牙周膜应力和三维方向的位移。结果：1、当第二前磨牙受2N近中向作用力时，与模型I相比，模型II第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了1．8％和O．3％，最大位移分别减小了0．7％和0．8％；模型III第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了1．8％和0．7％，最大位移分别减小了0．8％和1．2％；模型Ⅳ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了3．7％和1．7％，最大位移分别减小了3．4％和1．2％。2、当第二前磨牙受2N殆向作用力时，与模型I相比，模型II第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了3．7％和2．4％，最大位移分别

5、减小了3．4％和3．0％；模型III第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了2．O％和1．6％，最大位移分别减小了2．1％和2．5％；模型Ⅳ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力明显减小，分别为31．9％和26．2％，最大位移也明显减小，分别为34．2％和22．0％。3、当第二前磨牙受2N腭向作用力时，与模型I相比，模型II第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了7．1％和2．1％，最大位移分别减小了4．6％和4．7％；模型III第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了3．2％和摘要1．6％，最大位移分别减小了2．1％和2．7％；模型Ⅳ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力明显

6、减小，分别为36．8％和31．0％，最大位移也明显减小，分别为46．6％和30．1％。结论：1、腭部微种植体支抗无论连接在上颌第二前磨牙上还是连接在第一磨牙上都能增强对后牙骀向、腭向移动的支抗控制，起到间接支抗的作用，但前者较后者作用大。2、腭部微种植体支抗连接在上颌第一磨牙上对后牙矢状向移动的支抗控制较连接在上颌第二前磨牙上强，但两者支抗控制作用都相对较小。3、增强连接弓丝的刚性，更能增强后牙的支抗，即增强了间接支抗的效果。关键词：腭部；微种植体；间接支抗；三维有限元分析；ABSTRACTObject：Toinvestigatetheeffectofthemicropalatalimpla

7、ntasanindirectanchorageontheposteriorteethbythree-dimensionalfiniteelementanalysis，andtostudythebestconnectionwayofthemicropalatalimplant．Methods：Fourthree．dimensionalfiniteelementmodelofmaxillawithsimulati