长期低浓度砷暴露对人群外周血血细胞影响及其氧化损伤机制研究

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1、长期低浓度碑暴露对人群外周血血细胞影响及其氧化损伤机制研究摘要目的：分析长期低浓度碑暴露对人群外周血血细胞的影响，为筛选低浓度碑暴露的早期损伤指标提供依据；检测长期低浓度碑暴露对人群DNA氧化损伤的影响；探讨饮水型碑暴露人群DNA氧化损伤与皮肤损害的关联性，为碑的毒作用机制研究提供一定的依据。方法：选择相邻经济发展均衡的山西大同地碑病区（水碑含量为14.41〜90.34ug/L）和非地神病区（水碑含量为0〜0.87ng/L）2个自然村，饮水年限20年以上本地居民，无传染性、遗传性等疾病，无放射线和理化致病因素接触史156人为调查对象。用

2、全自动血细胞分析仪分析测定人群血细胞参数的变化。原子荧光光谱法测定研究对象体内尿碑水平，ELISA试剂盒测定其血清8-0HdG的含量。由两名经过培训的皮肤科医生确定研究对象皮肤损害的程度。按照皮肤损害程度的不同分为无皮肤损害组（即正常组）、轻度皮肤损害组、中度皮肤损害组和重度皮肤损害组。结果：长期低浓度碑暴露对人群外周血血细胞参数的影响1.1白细胞各项指标：与对照组比较，础暴露组WBC、GRA、GRA%、LYM和LYM%均增加，其中LYM和LYM%的增加有统计学意义（P均〈0.05）；1.2红细胞各项指标：与对照组相比，碑暴露组RBC、

3、HGB、MCH、MCHC和RDW升高，MCV下降，差异均有统计学意义（P均<0.05）；1.3血小板各项指标：与对照组相比，碑暴露组PLT>MPV和PCT下降，PDW升高，差杲均有统计学意义（P均<0.05）o长期低浓度神暴露对人群DNA氧化损伤的影响2.1与对照组相比，不申暴露组的水碑、尿碑和血清8-0HdG含量均增加，且差异均有统计学意义（P<0.05）；2.2多元线性回归分析显示，血清8-OHdG的含量与水碑、年龄和尿ii申呈正相关；2.3免疫荧光检测显示，碑暴露组人群白细胞中的8-OHdG和8-NitroG含量均增加，且8-OH

4、dG和8-NitroG的表达基本一致。1.长期低浓度碑暴露人群DNA氧化损伤与皮肤损害的关联性3.1不同皮损组的尿碑和血清8-OHdG分布差异均有统计学意义（P<0.05）；与正常组相比，轻度、中度和重度皮损组血清8-OHdG含量均增加（P〈0.05）；与轻度和中度皮损组相比，重度皮损组的尿种浓度和血清8-OHdG含量均升高（P〈0.05）；3.2Logistic回归分析显示，年龄和8-OIIdG是碑暴露人群皮肤损害的主要危险因素（0R二9.874,P<0.05;OR二6.084,P<0.05）。结论：1.长期低浓度碑暴露能引起人群外周

5、血血细胞参数的改变。白细胞和红细胞增加，血红蛋白浓度升高，血小板数目明显减少；血小板和红细胞体积异质性增加。3.2.碑暴露可加剧人群DNA的氧化损伤;长期低浓度神暴露人群DNA氧化损伤与皮肤损害之间存在一定的关联性。关键词：低浓度碑暴露；流行病学；外周血血细胞；DNA氧化损伤；皮肤损害；8-OHdG研究背景碑是地壳的组成成分之一，多以化合物的形式存在。常通过天然含碑岩层自然风化溶解和人类活动(金属矿物的开采冶炼、高碑煤燃烧、碎化合物用于玻璃、颜料、农药、药物、纸张、木材、制革、纺织、化肥生产/制造等)污染环境。尤其是近年来大量开发利用地

6、下水源，地域性水体碑含量过高引起的慢性碑中毒，已成为了国际社会面临的最为严峻的公共卫生问题之一。饮水型碑中毒是长期饮用高碑水引起的一种慢性神中毒，也称为地方性础中毒(Endemicarsenism),临床主要表现为皮肤色素异常、掌趾过度角化，皮肤、肺、膀胱等肿瘤高发，月•与高血压、心脑血管病、周围血管病、糖尿病等慢性疾病的发病率升高有关［1］。我国最早20世纪50年代在台湾西南沿海地区发现饮水型神中毒病区,80年代至今，先后在新疆、内蒙古、山西、宁夏、青海、吉林、黑龙江等12省区发现饮水型地础病区［2,3］o市此可见，慢性碑中毒正在对人

7、类健康构成严重的威胁，给社会带来巨大的疾病和经济负担。因而，寻找慢性碑中毒的早期毒作用靶点，探讨碑的毒作用机制显得尤为重要。研究现状及选题依据摄入体内的币申首先进入血液，其中95%〜99%的碑迅速与红细胞血红蛋口结合，再随血流分布和贮存于全身各组织器官，其余的与血浆蛋白结合［4,5］o流行病学调查显示，长期碑暴露人群会产生贫血［6］。动物实验表明，经饮用水神染毒后大鼠全血RBC计数、红细胞压积及血红蛋白含量下降，WBC计数增加［7］。Ferzand等的研究也证实碑染毒会引起机体血液系统的紊乱［8］。这就提示碑进入人体最早作用并产生毒效应

8、的可能是血液系统。因此，有必要对碑暴露人群血液系统的相关指标进行研究。碑中毒作用机制尚不明确，目前认为碑进入细胞后可引起细胞内超氧阴离子自由基(•02-)、疑自由基(•0H)和过氧化氢(H202)等活性氧族