预析出对7a55铝合金组织与腐蚀性能的影响

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1、摘要7A55铝合金为时效硬化型合金,具有高的综合力学性能,广泛应用于航空航天领域,但该合金强化处理后强度高时其抗腐蚀性能较差。本文作者研究了固溶后预析出温度、时间以及时效对该合金的组织、力学及腐蚀性能的影响规律,探讨了其影响机理,以期为高性能铝合金的生产提供实验与理论依据。结果表明:1)固溶后预析出处理明显提高了7A55铝合金的抗晶间腐蚀和剥落腐蚀性能,但降低了合金的力学性能;随着预析出温度的降低,高温析出相增多;时效时弥散强化相密度变小,使得合金的力学性能降低。而晶界平衡相由链条状连续分布变为断续分布;高温阶段的析出相使得腐蚀在晶界处的局部化降低,从而使合金的抗腐

2、蚀性能提高。在440℃预析出,合金的综合性能最好,其硬度为185.5HV,抗拉强度为545MPa,延伸率为9.8%,而晶间腐蚀等级为3级,剥落腐蚀等级为EB。2)固溶后于44012预析出处理时,随着时间的延长,7A55铝合金的硬度和强度先升高后降低,5h有最高值;而抗晶间腐蚀和剥落腐蚀性能也是先提高后降低。从440℃保温0.5h到5h过程中,时效时基体析出相更加均匀、弥散,晶界平衡相不均匀性增强,使得合金的抗拉强度由545MPa提高到610MPa,晶间腐蚀最大深度由140pro减小至100“m,而剥落腐蚀等级也由EB+提高到EA+;而从5h到10h过程中,弥散析出相

3、长大,晶界不连续性又少量降低,导致合金的抗拉强度由610MPa降到575MPa,晶间腐蚀最大深度由1001.an增大至1101xm,而剥落腐蚀等级也由EA十降低到EB.。440。C预析出5h时,合金具有良好的力学性能和抗腐蚀性能。3)440℃/0.5h预析出处理后再进行双级时效处理时,合金的基体强化相发生改变;更加均匀弥散,使强度和延伸率明显增大。而晶界不连续性增强使合金的抗腐蚀性能也提高;随着预时效温度的升高,力学性能和抗腐蚀性能提高。从120℃/24h到100℃/12h+120℃/24h处理后,合金的抗拉强度由545MPa逐渐提高至610MPa,而最大晶间腐蚀深

4、度由110pm减小至85pm,剥落腐蚀等级由EB提高到EA.。关键词:7A55铝合金,固溶后预析出,力学性能,晶间腐蚀,剥落腐蚀ⅡABSTRACTJnleage-hardenable7A55aluminumalloyhasbeenwidelyusedinaerospaceindustryduetoitshighmechanicalproperties,butthealloyhaslowresistancetocorrosionwhenthestrengthishighafterstrengthening.珏einfluenceofthepre-precipitati

5、ontemperatureandtimeaftersolutionandageingonthemechanicalpropertiesandcorrosionresistanceofaluminulnalloy7A55Wasinvestigated.Thefollowingresultscanbeinvolved:1)Pre-precipitationincreasedtheresistancetointergranularcorrosionandexfoliationcorrosion.butdecreasedthemechanicalproperties.Wit

6、hthedecreaseofpre-precipitationtemperature,thedensityofprecipitatesformedduringhiglltemperatureinthematrixWasreduced,soWasthedispersedphasesduringtheageing,whichledtolowerhardnessandstrength.Meanwhilethegrainboundaryprecipitateswerediscontinuouslydistributed,together、Ⅳinltheprecipitate

7、sformedduringhigIltemperature.Thephasestransformingbehaviorswasthereasonfortheimprovedresistancetocorrosion.Pre-precipitationat440℃ledtogoodcombinationofthepropertieswiththehardnessof204HV、obof545MPa、intergranularcorrosionrankof3andexfoliationcorrosionofEB.2)Withthetimeofpre-precipit

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