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时间:2019-02-14
《高岭石、蒙脱石层间原位合成纳米银、氧化锌》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、桂林工学院硕士学位论文摘要纳米银具有独特的化学性能、光学性能和电学性能。可以广泛应用于陶瓷材料、环保材料、抗菌和涂料等多种领域。纳米氧化锌是一种新型功能材料,在磁、光电、抗菌消毒、紫外线屏蔽等方面具有特殊的性能和用途。本论文采用化学还原插层法在高岭石层间制各了纳米银,首先研究了时间和温度对DMSO插层高岭石插层率的影响。接着以硝酸银层间取代,以高岭石的层间作为反应器来控制银粒子的大小,借由还原剂水和肼在层间还原出单质银,从而制备Ag/高岭石插层复合物。由红外光谱研究可知,插层作用破坏了层间外羟基间的氢键,银的插入使得高岭
2、石在20=38.11080"38.39420之间出现了一个陡峭Ag(111)的衍射峰。TEM研究表明,Ag已进入层间,但粒径分布较宽,为20.100nm。采用水热插层法以DMSO/高岭石作为前驱体,PVP(聚乙烯吡咯烷酮)做分散剂,银氨层间取代,以高岭石的层间作为反应器来控制银粒子的大小,制备出Ag/高岭石插层复合物。XRD表明,PVP对高岭石进行了表面改性,促进了纳米银粒子在层间的合成,出现明显的Ag的(111)、(200)、(220)、(311)四个衍射峰,并且出现(111)方向上的择优生长。根据小角度出现的(001
3、)衍射峰可知,高岭石层问距由0.716nm被扩大到4.53nm。TEM直观地表现了银在高岭石层间的形貌,粒度分布范围为5-50nm。用水热插层法以银氨作为插层体,分别以钠基和钙基蒙脱石做载体制备出Ag/蒙脱石插层复合物,XrRD表明,纳米银在蒙脱石层间粒度很小,TEM直观地表现了Ag/蒙脱石(钠基)的形貌特征,纳米银粒径分布较均匀,大部分为l-3nm的小颗粒,个别颗粒达到12nm。利用尿素燃烧放热同硝酸锌反应生成氧化锌的原理,以钠基和钙基蒙脱石做载体,层间原位还原,制各出ZnO/蒙脱石插层复合物。钠基蒙脱石层间距被撑大到
4、2.23nm,表明氧化锌进入蒙脱石层间。对高岭石来说,不加液态还原剂在层间合成纳米金属较加液态还原剂合成的分散性较好,颗粒尺度范围较/Ix;对蒙脱石来说,钠基蒙脱石插层比钙基蒙脱石撑开层间距要大。关键词:纳米银;纳米氧化锌;蒙脱石;高岭石;制备IV桂林工学院硕士学位论文AbstractThenano-silverpossessedmanyparticularpropertyjuselikeoptical,chemicalandelectric.Sollano—silverCallbewidelyusedofmanyfie
5、ldslikeceramic.environmentalprotection,antimicrobialandcoating.Thenano·znicoxidepossessedparticularpropertyandapplicationonmagnetic,photoelectric,antibacterialandultravioletscreener.Theintercalationratioofkaolinite—dimethylsulfoxideinfluencedbytimeandtemperaturew
6、asalsobeenresearched.Letthedimethylsulfoxidetobetheprecursor,thensubstitutedbysilvernitrateintheaqueoussolutionenvironment.Usethekaoliniteinterlaminationasreactortocontrolthesilverparticlesize.Thereductanthydrazinehydraterecoverssliverintheinterlayer.Thencharacte
7、redbyinfraredspectrum,canseethattheintercalationperformancebyDMSOdestructinterlayerhydrogenbonds.DMSOformedthenewhydrogenbondswithinnersurfacehydroxylgroupsofkaolinite.XRDshowedthatinsertingofsilvermadethesharpdiffractionpeakoftheAg(111)at20=38.11080"-38.39420app
8、eared.TEMimageindicatedthatthesilverhadalreadyintercalatedintothelayersofkaolinite,buttheparticlesizedistributednonuniformity,20"-100nm.Usethedimethylsulfoxide
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