高铝青铜cu14alx及其作粉体涂层腐蚀行为研究

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1、硕士学位论文摘要课题组开发研制的高铝青铜Cu．14A1．X合金是一种优秀的耐磨、耐蚀材料。本文就元素Fe、co对于高铝青铜铸态显微组织结构及耐腐蚀性以及腐蚀行为进行了初步研究。并进一步将这种高铝铜合金制成粉体涂层材料，对其显微组织结构耐腐蚀性以及腐蚀行为进行了初步的探索。本文运用金相显微镜、X射线衍射、电子探针、扫描电镜等方法研究了不同Fe、co含量的新型高铝青铜Cu．14A1．X合金和涂层的显微组织。结果表明：对含Co量不同的铸态合金，其组织由B7+Y：+K相组成；对含Fe不同的铸态合金，其组织均由丫2、p’、K及0【相组成。涂层其组织由Y：+B7+K相组成。通过静态浸泡腐蚀

2、试验、扫描电镜(SEM)、能谱等方法研究了Fe、Co含量不同的高铝青铜Cu一14％A1．X合金在3．5％NaCl溶液中的耐蚀性能及腐蚀行为。结果表明：各种合金在3．5％NaCl溶液中具有较好的耐腐蚀性能。不同Co含量高铝青铜合金在3．5％NaCl溶液中的腐蚀速率随微量元素Co含量的不断增大，腐蚀速率先减小后增大，在Co含量为5．5％达到最小值。不同Fe含量高铝青铜合金在3．5％NaCl溶液中的腐蚀速率随微量元素Fe含量的不断增大，腐蚀速率先减小后增大，在Fe含量为5％达到最小值。在3．5％Nacl溶液中，合金中的Y2相和B7相、a相、K相相比，具有优先腐蚀倾向。通过对腐蚀前后微

3、区成分的分析可见，合金在这几种腐蚀介质中发生的主要是脱铝腐蚀。通过雾化制粉、等离子喷焊的方法在碳钢基底上制备粉末涂层，并利用静态浸泡腐蚀试验、扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)等方法研究了涂层在3．5％Nacl、5％H2S04、10％HCl溶液中的耐蚀性能及腐蚀行为。结果表明：涂层在3．5％NaCl溶液、5％H2S04溶液、10％HCl溶液中具有较强的耐腐蚀性。涂层发生的主要也是脱铝腐蚀。关键词：高铝青铜；组织；腐蚀；脱铝；涂层高铝青铜及其涂层腐蚀行为的研究AbstractHigh—AlbronzeCu一14A1一Xisanexcellentcorrosionresistant

4、andweafresistancea110ywhichwasdeVelopedbytheresearchersinourlaboratory．ThisarticleprobeintotheinnuenceofCo，Feontheas—castmicrostructure，andcorrosionresistanceandbehaViorofthehigh—A1bronze．AndthisarticlealsoprobeintothecorrosionbehaviorofaluminumbronzeCu-14％Al—Xcoatings，andcoatingsmicrostruct

5、ure．As—castandcoatingsmicrostructureofhigh—Albronzesampleswithdif诧rentmassfractionofCo，FewereobserVedandanalyzedbyMEF3，XRDandEPMA，etc．．Theresultsindicatedthat：tothediffbrentcontentsofCoelementofas—castalloys，microstructureofa11thealloysconsistofp7+丫2+Kphases，tothedif．f．erentcontentsofFeeleme

6、ntofas-castanoys，microstructureofa11thea110ysconsistofp7+丫2+K+aphases，andthemicrostructureofthecoatingsconsistofp7+Y2+Kph4ses．Thecorrosionresistanceandbehaviorofthehigh-AlbronzeCu一14％Al-XwithdifferentmassfractionofCo，Feelementin3．5％NaClsolutionwereinVestigatedbyusingStaticImmersingCorrosiont

7、est，scanningelectronmicroscope(SEM)，EPMA，etc．TheresultsshowthatthecorrosionresistanceofCu一14％Al—Xisgoodin3．5％NaClsolutions．ThecorrosionrateriseswiththeraisingcontentofCoelementfirstdeclinedthenincrease．WhentheCocontentof5．5％thealloy’scorrosionresis