静电增强超声雾化热解法制备zno薄膜的性能研究

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时间:2019-02-06

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1、上海大学博士学位论文摘要使用静电增强超声雾化热解法制备了ZnO薄膜,用XRD、SEM、PL、RAMAN等手段研究了制备条件对ZnO薄膜形貌、内部缺陷的类型、发光性能、气敏性能的影响;研究了掺杂对ZnO薄膜光学性能、电学性能、气敏性能的影响;并以制备的ZnO薄膜为缓冲层,在Si衬底上生长ZnO纳米阵列和ZnO纳米结构,研究了ZnO纳米阵列在气体电离传感器上的应用。其主要研究结论如下:(1)采用静电增强超声雾化热解方法制备出高质量的ZnO薄膜,并对不同工艺条件下薄膜的结构、成分、形貌、沉积速率、光致发光进行分析,我们发现当前驱体的浓度在O.01~0.005M之间时,衬

2、底温度在400-500。C,当载气量为200--500sccm制备的薄膜的取向性较好,且薄膜平整致密。使用较高浓度前驱体制备的ZnO中,存在明显的蓝光发射峰和绿光发射峰;蓝光发射峰与锌间隙能级有关;绿光发射峰由V血的不同电离态引起;在600。C下氧气氛退火60min后蓝光发光峰和绿光发光峰消失了。(2)评价了不同衬底温度、不同载气条件下制备的ZnO薄膜的电学性能,在衬底温度为440℃制备出了霍尔迁移率为141cm2/Vs,电阻率为9.99f2cm‘1的p.型ZnO薄膜;使用XPS和低温PL分析了在440。C,I]备的P.型ZnO的成分及受主缺陷的类型,该薄膜中受主

3、能级位于价带上160meV和250meV处,并推测其与No和V历有关。研究了晶界对薄膜电学性能的影响,发现载气的类型影响薄膜的导电性能。使用SCM对氧气做载气制备的ZnO薄膜的载流子分布进行了表征。晶界上吸附的氧使得晶粒中的电子耗尽,造成晶粒中空穴的散射作用减弱和晶界附近空穴积累,是引起超高空穴迁移率的原因。(3)制备了Ag掺杂和N掺杂P.型ZnO薄膜,研究了它们的结构、光学性能、电学性能,摸索了最佳的掺杂量。研究了双受主共掺杂理论,揭示了Ag.N共掺杂在理论是可行的。使用共掺杂技术制备ZnO:(Ag,N)薄膜,并研究了该薄膜的结构和光学电学性能。XDR表明共掺杂

4、提高了晶体的质量,霍尔测量表明共掺杂制备的ZnO有较低的电阻和较高的霍尔迁移率;实验表明双受主共掺上海大学博士学位论文杂增强了N和Ag原子的稳定性,提高了掺杂浓度;我们还发现ZnO(Ag,N)与ZnO:Ag相比,薄膜的光学透过率明显提高,Ag.N共掺杂的ZnO电学和光学性能的稳定性较好。(4)使用化学气相传输法在蒸金的硅片生长了ZnO纳米线;通过分析生长不同阶段的SEM,明确了ZnO纳米线的生长遵循VLS机理。使用静电增强超声雾化法在Si上制备了ZnO缓冲层,并在该缓冲层上生长了ZnO纳米阵列。在Si上使用不同催化剂成功生长了ZnO纳米结构,实验发现Cu作催化剂在

5、Si衬底上得到楔状ZnO纳米片,该结构的ZnO纳米片沿【0110]方向生长,纳米片上下表面为+(0001)极性面;纳米片的生长遵循VLS机理,属于六角纤锌矿晶体结构,纳米片的位错和堆垛层错等晶格畸变较少;使用Zn催化在Si衬底上得到长达几百微米的ZnO纳米带。ZnO纳米带沿[0110]方向生长,属于六角纤锌矿晶体结构;纳米带的生长遵循VLS机理。比较了不同使用不同催化剂制备ZnO的PL。实验表明,在缓冲层上Au催化制备的ZnO纳米阵列具有较强的发光强度,Cu催化制备的ZnO楔状纳米片次之,Zn催化制备的ZnO纳米带最弱;这是由于使用不同的催化剂制备的ZnO纳米结构

6、中的缺陷数量和缺陷类型不同造成的。(5)研究了场致电离气敏传感器的工作原理。发现在电场限制区中,气体场致电离产生的电流强度与气体的特性密切相关,可以作为鉴别不同气体的特征。使用有限元软件模拟了纳米线顶端的场强分布,模拟的结果表明纳米ZnO的顶端电场增强因子的最大值约为187。使用不同取向的ZnO纳米棒制作了场致电离气体传感器,研究了不同形貌纳米线制备器件对丙酮的响应曲线,测试表明器件的响应曲线分为三个区,响应曲线与电场增强因子D密切相关。研究了器件对甲苯和丙酮的电离特性曲线。从气体放电电流和击穿电压来看,器件可以明显的区分甲苯和丙酮。测量了器件对NOx化合物的响应

7、,实验表明在较低的浓度下,NOx化合物的浓度电流响应值呈现近似的线性关系,器件的响应速度为17~40s,器件的灵敏度为0.0454-0.007ppm/pA。测量了器件对苯、异丙醇、乙醇、甲醇化合物的响应,实验表明器件对静态极化率较大,电离能低的气体有一定的选择性。(6)测试了不同衬底温度下制备的ZnO薄膜对N02气体的气敏性能;实Ⅱ上海大学博上学位论文验表明550℃制备的粉末状的ZnO薄膜对N02的敏感度较高,并表现出较好的响应.恢复特性;研究了致密的ZnO薄膜厚度对气敏性能的影响,实验表明薄膜对N02的敏感度随膜厚增加而减少;对于550℃制备的粉末状的ZnO薄膜

8、而言,对N

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