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时间:2019-02-01
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1、学科:光学工程研究生签字:指导教师签字:反应磁控溅射沉积A1N薄膜特性研究腊魄力坛∥摘要氮化铝(舢N)薄膜具有很多突出的物理化学性质,如高折射率、高光学透射比、化学稳定性好等特点,近年来倍受国内外广泛的关注。氮化铝薄膜还具有良好的耐磨损和耐腐蚀性能,及很高的硬度,是一种很好的光学保护薄膜。目前制备A1N薄膜的方法很多,其中现阶段比较成熟的主要有:激光化学气相沉积法(LCVD)、金属有机化合物化学气相沉积法(MOCVD)、分子束外延法(MBE)等。本文使用反应磁控溅射的方法,利用氮气和氩气混合气体在
2、K9玻璃基底上沉积氮化铝薄膜。通过正交实验的方法,发现氮气浓度和靶功率对薄膜沉积速率影响显著,同时研究和分析了各工艺参数对氮化铝薄膜沉积速率的影响。利用椭偏仪和分光光度计,测试及分析了薄膜的光学性能。测试表明:氮气浓度控制在35%--40%之间,制备的AIN薄膜在波长为632.571rim时,折射率在2.1左右,薄膜透明并且可以保证在很宽的波长范围内,薄膜的消光系数为零。并且在K9玻璃基底上AIN薄膜的峰值透射比达N90%。使用XRD分析薄膜晶体结构,发现本实验方法所沉积的A1N薄膜主要表现在(0
3、02)面的择优取向,并分析不同工艺参数对薄膜结构的影响。使用XPS对AIN薄膜成分进行分析,测试表明:得到了较纯的AIN薄膜,其中砧.N键占90。02%以上。采用402MVDTv数显显微维氏硬度计测试薄膜硬度,测得薄膜本征硬度最高达N2000Iqv以上,并分析了薄膜硬度随工艺参数的变化情况。最后采用轮廓仪测量AIN薄膜的粗糙度,测得薄膜粗糙度在10rim--16rim之间,可见薄膜表面光滑。此外,比较了反应磁控溅射与磁过滤电弧离子镀方法制备AIN薄膜性能,发现薄膜性能变化不大,说明这两种方法都是制
4、备A1N薄膜的理想方案。关键词:反应磁控溅射;氮化铝(AIN)薄膜;光学性能;硬度;微观结构;表面特性StudyonpropertiesofaluminumnitridefilmsdepositedbyreactivemagnetronsputteringDiscipline:OpticalEngineeringStudentSignature:SupervisorSignature:Aluminumnitride(AlN)filmshavereceivedconsiderableinterest
5、foritspredominantpropertiessuchashighrefractiveindexes,hightransmittanceandgoodchemicalstability.Intheopticalprotectmaterialfield,AlNfilmshavehi.ghhardness,excellentwearresistanceandcorrosionresistancetoo.AlNfilmshavebeendepositedusingvariousmethodsin
6、cludinglaserchemical-vapourdeposition(LCVD),metalorganicchemical—vapourdeposition(MOCVD),molecularbeamepitaxial(MBE),etc.Inthispaper,AINfilmsweredepositedbyreactivemagnetronsputteringinAr/N2mixturegasesontheopticalglassK9substrate.Weareaccordingtotheo
7、rthogonalexperiments,andtheanalysisofprocessingparameterondepositingrateofAlNfilms.Itisindicatethat,theN2concentrationandtargetpowermakeanotableimpactOildepositingrate.EllipsometryandSpectrophotometerareusedtodeterminetheopticalpropertiesofA1Nfilms.Th
8、eresultsshowthattheN2concentrationiSform35%to40%SOastomakerefractiveindexofAINfilmsisabout2.1at632.571nmwavelength,theextinctionindexoffilmsarenearlytozeroatawidewavelengthandontheglasssubstratethetransmittanceofA1Nfilmsatenearlyto90%.XRDareap
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