硅片化学清洗总结

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1、为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划硅片化学清洗总结　　半导体工艺化学实验报告　　实验名称：硅片的清洗　　实验目的：1.熟悉清洗设备　　2.掌握清洗流程以及清洗前预准备　　实验设备：1.半导体兆声清洗机　　；SC-2　　实验背景及原理：　　清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱

2、金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。　　我们这里所用的的是化学清洗。清洗对于微米及深亚微米超大规模集成电路的良率有着极大的影响。SC-1及SC-2对于清除颗粒及金属颗粒有着显著的作用。　　实验步骤：目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划硅片化学清洗总结　　半导体工艺化学实验报告　　实验名称：硅片的

3、清洗　　实验目的：1.熟悉清洗设备　　2.掌握清洗流程以及清洗前预准备　　实验设备：1.半导体兆声清洗机　　；SC-2　　实验背景及原理：　　清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。　　我们这里所用的的是化学清洗。清洗对

4、于微米及深亚微米超大规模集成电路的良率有着极大的影响。SC-1及SC-2对于清除颗粒及金属颗粒有着显著的作用。　　实验步骤：目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划　　1.清洗前准备工作：　　仪器准备：　　①烧杯的清洗、干燥　　②清洗机的预准备：开总闸门、开空气压缩机；开旋转总电源；将急停按钮旋转拉出，按下旁边电源键；缓慢开启超纯水开关，角度小于45o；根据需要给1#、2#槽加热，正式试验前提前一

5、小时加热，加热上限为200o。本次实验中选用了80℃为反应温度。　　③SC-1及SC-2的配置：　　我们配制体积比例是1:2:5，所以选取溶液体积为160ml，对SC-1NH4OH：H2O2：H2O=20:40:100ml，对SC-2HCl：H2O2：H2O=20:40:100ml。　　2.清洗实际步骤：　　①1#号槽中放入装入1号液的烧杯，待温度与槽中一样后，放入硅片，加热10min,然后超纯水清洗。　　②2#号槽中放入装入2号液的烧杯，待温度与槽中一样后，放入硅片，加热10min,然后超纯水清洗。　　③兆声清洗10分钟，去除颗粒　　④利用相似相溶原理，使用乙醇去除有机物，然后超纯水清洗并

6、吹干。　　实验结果：　　利用显微镜观察清洗前后硅片图像表面目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划　　清洗前硅片照片　　清洗后的硅片照片　　实验总结：　　清洗过后明显地发现硅片表面不像原来那样油腻，小颗粒明显减少。说明我们此次使用实验方法是正确的，实验结果较为成功。　　半导体硅片的化学清洗技术　　一.硅片的化学清洗工艺原理　　硅片经过不同工序加工后，其表面已受到严重沾污，一般讲硅片表面沾污大致可分

7、在三类：　　A.有机杂质沾污：可通过有机试剂的溶解作用，结合超声波清洗技术来　　去除。　　B.颗粒沾污：运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径≥μm颗粒，利用兆声波可去除≥μm颗粒。　　C.金属离子沾污：必须采用化学的方法才能清洗其沾污，硅片表面金属杂质沾污有两大类：　　a.一类是沾污离子或原子通过吸附分散附着在硅片表面。目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜