fqc抽样检验习题(高级)

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1、第6章FQC抽样检验习题（高级）一、填空题1、红外光谱产生的两个条件是：辐射光具有的能量与发生振动跃迁时所需的能量________；辐射与物质间有相互偶合作用，产生___________的变化。2、P型半导体材料，常见掺杂剂为___________，少数载流子是电子，带正电。3、GCL少子寿命测试对象为硅块，测试方法为______________________，使用设备为______________________。4、红外探伤仪IRB30的主要检测项目有______________________。硅锭中的杂质主要是___________和__________两种混合

2、物。5、电阻率是指_________________________________。制程检验中，多晶硅块电阻率测试的管控范围是______________________。6、多晶小方锭崩边要求为：A级小方锭__________，B级_________，C级___________。7、对分凝系数K＜1的杂质，向_______部集中；对于K＞1的杂质，向_______部集中。8、用来衡量硅片表面平整程度的指标有___________和____________。9、硅片表面1cm内线痕条数不超过__________条，超出的判为线痕等外品。10、检验人员在手持硅片以外的东西

3、（__________、笔、章、__________、周转车等），需要带______________，避免污染物与硅片之间的交叉污染。11、一般情况下，一次性PVC手套在检验___________片需要更换一次；如遇___________片，则根据实际情况而定。12、多晶硅片表面微晶单位长度的晶粒个数不超过___________个。13、按数量特征分类，检验可分为____________、______________、________________。14、品管旧七大手法是。15、在品质管理中通常应用的5M是指,5W1H指的是。16、AQL指的是。17、QCC指的是，创始

4、人是。18、ISO9000的精神是:。19、SDCA循环包括______、_____、_____、_____。20、5S中____、____、____是提高效率的基础。二、选择题1、表示制程为两种不同的之分配组合是()直方图。A、离岛型B、高原型C、削壁型D、双峰型2、出货检验时发现产品性能严重缺陷而无法修复且批量不大，如何处理该不合格品()A、重工B、特采C、报废D、挑选3、不合格品处理方式下面哪种不正确()A、允收B、重工C、报废D、让步接收4、ISO9000的受益者是()A、顾客B、员工C、供方D、组织E、以上全是5、制程检验的目的在于()A、防止大批量不良发生B、

5、消除不良产生的原因C、尽可能不让不良品流入下工序D、以上皆是6、过程能力指数应该()进行计算A、收集一些令顾客满意的数据B、在统计控制状态下收集数据C、随机收集数据D、在生产过程无偶然因素影响情况下收集数据7、质量检验的作用包括（）A、监督B、保证C、预防D、以上都是8、考核检验工作的重要指标有（）A漏检率B错检率C检验差错率D以上都是9、推动PDCA循环，关键在于()A、计划阶段B、执行阶段C、检查阶段D、总结阶段10、质量管理的所有工作都是通过()来实现的A、资源B、程序C、组织结构D、过程11、直方图中工程能力不足的形状是()A、峭壁型B、双峰型C、踞齿型D、高原型

6、12、管制图SPC的作用是()A、处理品质不良B、预防不良发生C、为特采提供依据D、提高产能三、简答题1、写出QC旧七大手法，并简要概述其应用的时机和条件。2、请用PDCA循环的思维解释QCC活动的步骤。3、目视管理在现场管理中有哪些作用？4、简要描述出厂检验抽检出现异常时该如何处理？5、现场哪些因素会造成对硅片的污染，谈谈你的看法。6、谈谈你对硅料抽检、过程巡检或硅片抽检岗位的认识。附部分答案：一、填空题1、相等；偶极矩。2、硼、镓。3、微波光电导衰减法；WT-2000D/WT-200PVN。4、杂质、阴影、微晶；碳化硅；氮化硅。5、单位长度及单位截面积内的电阻；1-2

7、.8Ω·cm。6、≤1%；≤1.5%；≤3%。7、头；底。8、翘曲度；弯曲度。9、5条。10、随工单；非洁净纸张；一次性PE手套。11、1500；脏污。12、10。13、免检；全检；抽样检查。14、柏拉图﹑特性要因图﹑直方图﹑管制图﹑散布图﹑层别法﹑查检表。15、人员、机器、材料、方法、环境；What(怎么做)、Why(为什么做)、When(在何时做)、Who(由谁来执行)、Where(在哪里进行)、How(用何方法)。16、允收品质水准。17、品管圈；石川馨。18、说到的一定要写到，写到的一定要做到，做到的一定要有效，即说写