微细加工技术与设备4.doc

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1、微细加工技术与设备  在分析各种传统检测方法的基础上,研究了小口径非  球面的检测方法,给出了设计实例,实现了非球面曲面的  光学检测,满足了非球面曲面在工程中的应用。图11表2  参4(于晓光)  TQ171.65O436.12007010845的结构、运动方式等进行了阐述。在此基础上,结合装置开展了实验,给出了去除量、压力、粗糙度与时间的关系。研究结果表明,利用该气囊式抛光方法对非球面光学零件进行抛光,效果良好,表面粗糙度可达2nm,该方法能满足中高等精度的加工要求;适合平面、球面、非球面、甚至任意曲面的抛光。图8参9(于晓光)  TQ171.6842007010850环形子孔径拼接干涉

2、检测非球面的数学模型和仿真研究=Mathematicalmodelandsimulationfortestingaspheric  surfacebyannularsubaperturestitchinginterferometry  [刊,中]/王孝坤(中科院长春光机所.吉林,长春  (130033)),张学军//光学精密工程.!2006,14(4).!  527532  利用环形子孔径拼接干涉技术可以不需要补偿器、  CGH等辅助元件就能够高分辨、低成本、高效地实现对大  口径、大相对孔径非球面的检测。介绍了该技术的基本原124mm口径碳化硅质非球面镜面数控研抛技术研究=Research

3、oncomputercontrolledpolishingtechnologyof124mmasphericreactionburnedsiliconcarbidemirror[刊,中]/牛海燕(中科院长春光机所光学技术研究中心.吉林,长春(130033)),张学军//光学精密工程.!2006,14(4).!539544介绍了碳化硅质光学镜面的光学加工流程和加工手理,并基于最小二乘法和Zernike多项式拟合建立了合理  的数学模型,同时对其进行了计算机模拟实验,拼接前后  全孔径相位分布残差的PV值和RMS值分别为0.0079  和0.0027,说明该拼接模型和算法是准确可行的,从而  提

4、供了除零位补偿外又一种定量测试非球面尤其是大口  径非球面的途径。图7参6(于晓光)  TQ171.65O436.12007010846  大口径高次、离轴非球面干涉测量中投影畸变的标定方法  =Calibrationmethodforprojectiondistortionininterfero  metrictestinghighorderandoffaxisasphericsurfacewith  bigaperture[刊,中]/李锐钢(中科院长春光机所光学技术  研究中心.吉林,长春(130031)),郑立功//光学精密工  程.!2006,14(4).!533538  提出了运用

5、干涉仪的Fiducial功能确定干涉仪CCD  的测量坐标系与非球面镜面坐标系的对应关系,然后对两  者关系进行正交化拟合,从而标定出非球面干涉检验中的  投影畸变,并用于某高次、离轴非球面进行干涉检验中的  投影畸变标定,拟合精度为1.96453m。根据标定结果  对干涉测量面形图重构,进行了数控抛光实验,最终面形  精度达到均方根值/20(0.6328m),证明拟合精度完  全满足数控抛光的要求。图8参9(于晓光)  TQ171.682007010847  抛光液的pH值对抛光元件表面粗糙度的影响=Influ  encesofpolishingliquidspHvaluesuponthe

6、roughnessof  polishingcomponentsurface[刊,中]/韩敬华(四川大学电  子信息学院.四川,成都(610064)),冯国英//光学技  术.!2006,32(4).!562564  实验研究了抛光过程中pH值对抛光元件表面粗糙  度的影响。结果表明:抛光液的pH值对抛光元件表面粗  糙度有较明显的影响;抛光过程中抛光液的pH值会随抛  光时间而变化;抛光过程中,当保持抛光液处于微碱状态,  且离抛光粉的等电离点较远时,抛光元件表面具有较小的  粗糙度。图3参15(严寒)  TQ171.682007010848  半球蓝宝石整流罩制造技术研究=Studyon

7、manufactur  ingtechnologyforhemispheresapphiredome[刊,中]/徐岩  (中国空空导弹研究院.河南,洛阳(471009)),李彩双//  光学技术.!2006,32(4).!636638  整流罩在高速飞行中既要对空气进行整流,同时又起  光学窗口的作用。分别从精磨模、精磨磨料、抛光膜层、抛  光辅料、机床速度和压力等方面介绍了一种加工蓝宝石整  流罩的工艺方法

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