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时间:2018-12-08
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1、纳米级LED突破芯片间传输速率限制 当论及在不同处理器或内存之间提高芯片之间的传输流量时,光子学是一个热门的话题。截至目前为止,微波导、光调变器、输出耦合光闸与光探测器均已成功进行整合了,但要设计理想的微米级光源仍十分具有挑战性。 荷兰爱因霍芬科技大学(EindhovenUniversityofTechnology)的研究人员在最近一期的《自然通讯》(NatureCommunicaTIons)期刊中发表有关「芯片上波导耦合纳米柱金属腔发光二极管」(Waveguide-couplednanopillarmetal-cavitylight-emitTIngdiodesonsilicon)
2、的最新研究。研究人员展示一种接合至硅基板的纳米级LED层堆栈,并可耦合至磷化铟(InP)薄膜波导形成光闸耦合器。 新式纳米级LED(nano-LED)的扫描式电子显微镜图(SEM)显示在金属化之前的制造组件结构。纳米柱LED位于连接至光闸耦合器的波导顶部 这种nano-LED采用次微米级的纳米柱形状,其效率可较前一代组件更高1,000倍,在室温下的输柱状LED示意图。从顶层到底层的堆栈分别是:n-InGaAs(100 nm)/n-InP(350 nm)/InGaAs(350 nm)/p-InP(600 nm)/p-nGaAsP(200 nm)/InP(250 nm)/SiO2/B
3、CB/SiO2/Si 研究人员表示,「由于短距离互连的损耗低,以及整合接收器技术持续进展,这一功率级可望以超精巧的光源实现芯片内部的数据传输。」 研究人员还开发了一种表面钝化方法,能够进一步为nano-LED提高100倍的效率,同时透过改善奥姆接触(ohmiccontact)进一步降低功耗。 编译:SusanHong (参考原文:nano-LEDcouldsupportmulTI-Gbit/sonchiptraffic,byJulienHappich)
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