GB10121-88 钢材塔形发纹磁粉检验方法

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1、中华人民共和国国家标准UDC皿二14:.匆.18钢材塔形发纹磁粉检验方法GB10121-88Steelproducts-MethodformagneticparticleInspectionoftowersample1主题内容与适用范围本标准规定了磁粉检脸方法的概要、检验设备、磁粉材料、检脸系统的性能及灵敏度的测定、试样的制备、检验条件及步骤、磁化电流类型、磁场方向、磁场强度、检脸结果的评定及脸收、检验人员职责及要求、磁粉磁性及粒度测定方法、磁悬液的配制与测定、人工标准试块等。本标准适用于检验铁磁性钢材塔形表面或近表面发纹及其他缺陷。对于铁磁性的毛坯件、半成品(钢坯、

2、铸件和锻件)及成品也可参照本标准检验。本标准为一般性通用磁粉检验方法标准，如有特殊要求时，可按供需双方协议执行。2引用标准GB3721磁粉探伤机8方法.要8.1原理磁粉检验方法是基于铁磁性材料因连续性的改变，如发纹等缺陷的存在，磁力线会发生畸变这一原理。如果这种缺陷位于被磁化试样表面或近表面时，则磁力线将在表面畸变，这种状态，术语上称为“漏磁通”。当存在漏磁通时，假如将细磁粉撒布在有发纹处，则磁粉被吸附在此处，这种磁粉的聚集在适当的光照条件下可用肉眼或借助不大于10倍放大镜观察到。磁粉检验虽然有各种方法，但都是基于磁粉会保留在漏磁通处这一原理。8.2检验方法8.2.1

3、被检验试样必须进行磁化。5.2.2试样磁化必须施加标准中规定的磁粉。忿.2.8对磁粉的任何聚集都必须进行详细观察和说明。8.8磁化8.8.1塔形试样应采用直接通电进行磁化。由于被磁化物体中缺陷的存在，会切断磁力线的正常通路产生漏磁通。8.8.2由于发纹沿钢材轴向分布，因此对钢材塔形试样要进行周向磁化，使感应的磁力线与发纹成垂直方向，从而实现合适的磁粉检验。8.8.8磁场必须有足够强度，以便能显示那些拒收的发纹，但也不能太强，以至造成磁粉局部过多聚集产生不相关显示，而掩盖真正发纹的磁痕。3.4磁痕的观察和判断被检验塔形试样在磁化过程中施加磁悬液后，磁粉会聚集在漏磁通处，

4、这些磁粉聚集表明了磁场的畸变，并称之为磁痕，应在不触动磁粉的情况下检验试样被磁化处有无磁痕，并对有磁痕的试样作出处理。8.5典型磁痕中华人民共和国冶金工业部1888一11一25批准1二0一01-01实旅GB10121-883.5.1一般表面发纹产生的磁痕都是细而清晰的图形。3.5.2近表面发纹产生的磁痕略比表面发纹产生的磁痕模糊些。这些磁痕并不细狭而是较宽，并且磁粉聚集也不密实。8.5二由于碳化物条带或碳化物形成元素偏析、金相组织变化而引起磁导率变化，在强磁场下会产生不相关显示，试样经热处理后采用剩磁法检验，不相关显示即可消失。4检验设备4.1检验设备性能及灵敏度，应

5、符合GB3721的规定。设备的构造和装配应能很据需要进行灵活调整。检验钢材塔形试样时应能进行周向磁化。4.2凡能满足4.1要求的交流或直流磁粉检验设备均可使用。4.8检验设备应加强维护和保养，每年鉴定一次，如有故障随时进行鉴定。5磁粉材料5.1检验发纹时，应使用荧光或非荧光磁粉。磁粉应具有高磁导率，便于磁化和被吸附到有缺陷处，同时又要有较低的顽磁性，以避免磁粉互相吸引(形成磁粉团)。用磁性称f法检验时，对于非荧光磁粉其称最值不少于7g.荧光磁粉的称f值可另行选择。5.2磁粉的粒度，用酒精沉淀法测定，粒度均匀的磁粉沉淀柱高度不低于180mm,5.匀磁粉对分纹显示程度.应

6、能使标准试块上的人工缺陷磁痕.显示清晰。检验系统的性能及灵敏度的浦定6.1磁粉检验系统的性能及灵敏度(即磁粉材料、设备、操作步骤和方法，磁场强度等的综合性能)应定期进行校对，以使检验系统保持正常性能。二之采用带有缺陷的试样进行检验，是测定磁粉检验系统的性能和灵敏度可靠而有效的方法。使用带有实际生产检验中常见类型和严重程度的已知缺陷的典型试样，如果在钢材塔形试样上找到上述缺陷，则说明整个检验系统的性能满足生产检脸的要求。二8人工标准试块是测试设备的性能、灵敏度及磁悬液是否正常的工具，其测试方法详见附录C(补充件)。二4应备有的设备仪器二磁场指示器，b.磁粉磁性测定仪，c

7、.磁粉粒度测定管，d.磁悬液浓度测定管。试样的制备1试样截取的部位、数里、规格及试样状态，应按有关标准或供需双方协议规定执行。::2经加工后的试样其表面粗糙度RaM为1.6[+m，两端平整无斜度、无锈蚀、无划伤、不受砂子、纤维屑、油垢、涂料等污染，清洁干净。8检验条件和步骤二1检验条件二1.1磁粉检验设备应安装在单独的房间内，使用单独的电源供电，室内保持清洁干净，室温控制在15℃以上。8.2照明强度的控制皿。2.1非荧光磁粉检脸的白光强度应定期复查，以保证被检验试样表面具有不小于2000lx白光照GB10121-88度。二1.2.2荧光检验时，在距光