微电子封装铜线键合可行性研究讨论

微电子封装铜线键合可行性研究讨论

ID:21334302

大小:56.50 KB

页数:7页

时间:2018-10-21

微电子封装铜线键合可行性研究讨论_第1页
微电子封装铜线键合可行性研究讨论_第2页
微电子封装铜线键合可行性研究讨论_第3页
微电子封装铜线键合可行性研究讨论_第4页
微电子封装铜线键合可行性研究讨论_第5页
资源描述:

《微电子封装铜线键合可行性研究讨论》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、微电子封装铜线键合可行性研究讨论1引言最近半个世纪以来,半导体科技的高速发展给我们的日常生活带来了日新月异的变化,如电脑、、数码相机这些生活必备品的诞生,以及它们的快速更新、升级、换代,这一切都归功于半导体技术的飞速发展。紧跟摩尔定律的“神话”,半导体技术革新向着更小、更快、更低功耗、更低成本的目标不断前进。在大环境的激烈竞争下,半导体不同领域的公司都在想尽办法研发出具有市场竞争力的产品或者提供优势服务,包括上游1C设计公司,中游外包服务厂Fab、Assembly、Testhouse,还有下游的材料、设备供应商等

2、。尤其经历了2008~2009年世界范围的金融危机,更加激励半导体技术朝向低成本、髙品质方向不断革新和发展,例如1C设计更加趋于髙密度集成,晶圆尺寸更加趋于大尺寸制造等等。趋于如上的发展方向,芯片的制造成本越来越低,但对于封装厂来说,材料的选用基本没有太大变化,而且随着原材料价格不断上涨(例如金价目前已超过1500美金/蛊司,未来将有超过2000美金的趋势),原材料价格占封装成本中的比例越来越凸显出来,基本上金线成本占所有封装成本的30%左右,而且封装外包厂占据产业下游,更面临价格战的考验。在此种严峻的情况下,封

3、装厂需要找出替代金线键合的方案,目前行业内正在大力研发铜线替代金线键合的方案。因为铜线的价格优势,加之良好的导电、导热、机械性能,替代金线键合并实现量产具有很髙的可行性。但是金线键合已存在半个世纪,加之完善的制程工艺,要完全替代是有难度的,而且铜导线的制备、应用,包括后续产品可靠性方面还存在诸多问题有待解决,例如铜易氧化影响键合质量和产品寿命,铜的硬度较髙容易造成Al垫受损等劣势,同样面临巨大考验。于是封装外包厂应该多同客户、材料供应商、设备供应商合作,共同研究,找出解决方案,将该方案尽快由设想或者小规模生产转变

4、为大规模量产,这样就可以在保证产品品质的前提下大幅降低生产成本,使封装外包商在整个产业链中更具有市场竞争力。2铜导线和金导线比较2.1铜导线优势2.1.1价格2009年11月国际金价突破1000美元/盎司大关,时隔两年,2012年初国际金价已经达到1700美元/盎司,而同期国际铜价约为3.8美元/磅(1公斤=2.2磅=35.274蛊司)。一面是金价持续攀升,一面是电子消费类产品的价格不断走低,封装厂寻找替代金线的新型焊接材料势在必行。在这种严峻环境下,铜导线以其良好的电学、热学、机械特性及低成本优势走进了封装领域

5、研究人员的视野。2.1.2导电率铜线的导电率为0.62pQ/cm,金的导电率为0.42pQ/cm,可见铜的电学特性髙于金导线,即相同直径的键合线,铜比金可以承载更多的电流。2.1.3导热率铜线的热导率为401_k),金的热导率为318.K),可见铜的热导率髙于金导线。因此铜线比金线更加容易将封装中的热散掉,这样就减少了它本身所受的热应力。2.1.4化合物生长率铜铝化合物的生长率低于金铝化合物的生长率,这样将提髙器件封装的可靠性。同时铜相比于金线更适合髙密度细丝引线封装。2.2铜导线劣势2.2.1铜易氧化铜易氧化,

6、这有可能降低材料的使用寿命,并给材料的储存环境和条件带来一定的要求。另外在键合过程中髙温作用容易氧化成CuO,影响焊合性能,降低产品可靠性。2.2.2硬度铜的硬度比金要大,金导线硬度60,而铜导线硬度金球硬度39,而铜球硬度50。氧化的铜会变得更加硬,所以键合就更加困难。3铜导线制备工艺和性能研究如想实现铜导线键合,必须先实现其原材料的制备,所以如何制备适用于低成本、细间距、髙引出端元器件封装的铜导线同样获得半导体材料制造商的关注。3.1焊合导线的性能要求表面清洁,无油污,无拉伸润滑痕迹,无颗粒附加物和其他任何脏

7、污;表面无大于直径5°%的刻痕、凹坑、划痕、裂纹、凸起和其他任何有可能降低器件使用寿命的缺陷;导线在放开即自由伸展时应无明显弯曲,导线的弯曲应不降低其使用性能;导线无轴向弯曲;髙的表面质量;可拉性。由于铜丝球焊在长引线、超微细丝的髙密度封装中的独特优势,作为替代金导线的超微细丝具有广阔的市场前景,但由于其标准要求严格并且加工困难,因此对拉制单晶铜键合导线的坯料性能提出更髙的要求。拉线性能是微细拉线的特性标志。在铜杆标准中,规定了化学成分、延伸率、电阻系数、表观状况和用扭绞试验判断内在缺陷。另外国际有一个参数指标来

8、衡量短线率,即每次短线可拉至的铜线重量:T/B值(T为铜线重量,B为短线次数)。3.2不同单晶铜的性能研究不同晶向弹性模量的差异,如铜单晶的E100=91GPa,E111=165GPa,E110=137GPa,不同取向单晶的应力应变曲线也有很大的差异,铜丝中〈111〉结构为主时,铜丝的刚度大,加工硬化率髙,形变抗力大,键合时劈刀携带铜丝快速冲击可能对硅芯片造成损伤。相反,

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。