pvd镀膜工艺

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1、PVD镀膜工艺PVD镀膜工艺1.装饰件材料（底材）(1)金属。不锈钢、钢基合金、锌基合金等。(2)玻璃、陶瓷。(3)塑料。abs、pvc、pc、sheet、尼龙、水晶等。(4)柔性材料。涤纶膜、pc、纸张、布、泡沫塑料、钢带等。2.装饰膜种类(1)金属基材装饰膜层：tin、zrn、tic、crnx、ticn、crcn、ti02、al等。(2)玻璃、陶瓷装饰膜层：tio2、cr2o3、mgf2、zns等。(3)塑料基材装饰膜层：ai、cu、ni、si02、ti02、ito、mgf2。(4)柔性材料装饰膜层：al、lto、ti02、

2、zns等。3.部分金属基材装饰膜颜色金属基材装饰膜的种类和色调很多。表1为部分金属基材装饰膜的种类及颜色。表1部分金属基材装饰膜的种类及颜色膜层种类色调tinx浅黄、金黄、棕黄、黑色tic浅灰色、深灰色ticxny赤金黄色、玫瑰金色、棕色、紫色tin+au金色zrn金黄色zrcxny金色、银色tio2紫青蓝、绿、黄、橙红色crnx银白色tixal-nx金黄色、棕色、黑色tixzral-nx金黄色3.装饰膜的镀制工艺一．金属件装饰膜镀制工艺比较成熟的镀膜技术有电弧离子镀、磁控溅射离子镀和复合离子镀。下面分别从各类镀膜技术中选取一种

3、具有代表性的典型镀制工艺进行介绍。1)用电弧离子镀的方法为黄铜电镀亮铬或镍手表壳镀制ticn膜。采用小弧源镀膜机和脉冲偏压电源；(1)工件清洗、上架、入炉工件在入炉之前要经过超声波清洗、酸洗和漂洗三道工序。首先是在超声波清洗槽中放入按使用要求配制的金属清洗剂，利用超声波进行脱脂、清洗。清洗之后，进行酸洗，它可以中和超声波清洗时残余的碱液，还能起到活化处理的作用。然后进行漂洗以彻底除去酸液，漂洗时必须采用去离子纯净水或蒸馏水。经过三洗后，即时进行烘干，温度一般控制在100℃左右，时间为1h左右。也可以风吹干后马上人炉。(2)镀膜前

4、的准备工作①清洁真空镀膜室。用吸尘器将真空镀膜室清洁一遍。当经过多次镀膜时，真空镀膜室的内衬板还需作定期清洗，一般是半个月清洗一次。②检查电弧蒸发源。工作前，要确保电弧蒸发源发源安装正确，绝缘良好，引弧针控制灵活,程合适，恰好能触及阴极表面。③检查工件架的绝缘情况。工件架与地之间的绝缘必须须良好，负偏压电源与工件架的接触点点必须接触良好。以上几项工作确保没有问题后，才可以关闭真空镀膜室的门，进行抽气和镀膜。(3)抽真空真空抽至6.6x10-3pa。开始是粗抽，从大气抽至5pa左右，用油扩散泵进行细抽。在粗抽时，可以烘烤加热至15

5、0℃。伴随镀膜室温度的升高，器壁放气会使真空度降低，然后又回升，等到温度回升到6.6x10-3pa时方可进行镀膜工作。(4)轰击清洗①氩离子轰击清洗真空度：通人高纯度氩气(99.999%)真空度保持在2～3pa。轰击电压：800～1000v。轰击时间：10min.此刻在真空镀膜室内发生辉光放电，放电产生的氩离子以较高的能量撞击工件表面，将工件表面吸附的气体、杂质和工件表面层原子溅射下来，露出材料的新鲜表面。②钛轰击真空度：通人高纯度氩气使真空度保持在2x10-2pa。脉冲偏压：400～500v，占空比20%。电弧电流：60～80

6、a，轮换引燃电弧蒸发源，每个电弧蒸发源引燃1～2min。(5)镀膜①镀钛真空度：通人高纯度氩气，真空度保持在2x10-2pa。脉冲偏压：200～300v，占空比50%。电弧电流：60～80a，引燃全部弧源，时间2～3min.②镀ticn真空度：通人高纯度氮气使真空度保持在(3～8)x10-1pa，然后再逐渐加大c2h2气体，随着c2h2气体量增大，色泽由金黄一赤金黄一玫瑰金一黑色变化。控制n2与c2h2两种气体的比例可以达到预定的色度。电弧电流：50～70a。脉冲偏压：100～150v，占空比60%～80%。沉积温度：200℃左

7、右。镀膜时间：10～20min，膜层厚度0.2～0.5μm。(6)冷却镀膜工序结束后，首先关闭电弧电源和偏压电源，然后关闭气源、停转架。工件在真空镀膜室内冷却至80～100℃时，向镀膜室内充大气，取出工件。2)用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制zrn膜。采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源，以及脉冲偏压电源。(1)抽真空5x10-3～6.6x10-13pa本底真空。加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100～150℃。2)轰击清洗真空度：通人氩气真空度保持在2～3pa。轰击电压：800～1000v，脉冲占空比2

8、0%。轰击时间：10min。(3)镀膜①沉积锆底层真空度：通入氩气，真空度保持在sxlo-1pa。靶电压：400—550v，靶功率15n30w/crrr2。脉冲偏压：450～500v，占空比20%。镀膜时间：5～10min。②镀zrn膜真空度：通入氮气，真空度保