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时间:2018-10-11
《利用电浆辅助法进行类钻碳薄膜溅镀速率提昇之研究-yoke.net》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、利用電漿輔助法進行類鑽碳薄膜濺鍍速率提昇之研究StudiesonthePromotionofDLCFilmDepositionRatebyPlasmaEnhancedMagnetronSputteringMethod*高于迦華振宇卓廷彬邱松茂莊道良Y.J.Gao,C.Y.Hua,T.P.Cho,S.M.Chiu,T.L.Chuang財團法人金屬工業研究發展中心MetalIndustriesResearch&DevelopmentCentre(MIRDC)摘要:類鑽碳(Diamond-likecarbo
2、n,DLC)膜具有高硬度、耐磨耗、低摩擦係數等性質,由於具有這些優越特性,因此類鑽碳膜廣泛的用在金屬模具、刀具表面處理等工業應用上。真空物理濺鍍製作之類鑽碳膜雖然具備相當優良的物理、化學特性,但是亦有鍍膜速率極為緩慢之缺點,往往需要長達數個小時的鍍膜時間,為了提昇類鑽碳膜之鍍膜速率,本研究中以電漿輔助法結合PVD真空濺鍍,進行類鑽碳薄膜之製作,並探討鍍膜參數與DLC薄膜鍍膜速率及附著力之關係。Abstract:DLCthinfilmpossesseshighhardness、wearresistanc
3、eandlowfrictioncoefficientcharacteristics.TheadvantagesofDLCcoatingfilmareextensivelyappliedinthesurfacetreatmentindustriesofmetalmolds(dies)、cuttingtools.ThemanufacturingofDLCthinfilmusingvacuumPVDsputteringtechnologyhasexcellentphysicalandchemicalprop
4、erties,however,thedepositionrateisveryslow, usuallytakesseveralhourstodeposittheDLCfilm.TopromotethedepositionrateofDLCcoatingfilm,weusetheplasmaenhancementmethodcombinedwithPVDvacuumsputteringtechnologytoperformthemanufacturingofDLCcoatingfilm,alsoinve
5、stigatethedepositionparametersandrelationshipofthedepositionrateofDLCcoatingfilmandadhesion.關鍵字:類鑽碳膜、電漿輔助、磁控濺鍍、鍍膜速率Keywords:DLC、PlasmaEnhancement、MagnetronSputtering、DepositionRate一、前言類鑽碳膜具有極佳的物理特性、高導熱率與低摩擦係數等優良性質,由於具有這些優越特性,使其在機械、電子、半導體等工業之應用日益廣泛,因為類鑽碳
6、為一種介穩態之碳材料,其組成包括了鑽石形態的sp3四面體結構與石墨形態的sp2平面結構,使的類鑽碳擁有優良的機械特性、熱傳、光學及電化學特性,尤其是在低摩擦、耐磨耗之應用[1-2]。濺鍍法是目前廣泛的使用在半導體、電子元件、光學元件,具備裝飾性及功能性之鍍膜技術,藉由在真空中通入工作氣體形成電漿,並利用氣體離子轟擊靶材表面,撞擊出的靶材原子沉積於基材上即可形成薄膜,優點是對於材料的選擇性極大,幾乎所有材料皆可以使用濺鍍法沉積薄膜[3]。類鑽碳膜雖然具備許多優良特性,但是缺點是使用真空濺鍍法製作類鑽碳薄
7、膜之速率極為緩慢,往往需要數小時以上的製程時間,並且難以達成厚膜化鍍層,也因此基於成本與效率的考量上會限制類鑽碳部份領域之應用。本研究中以電漿輔助模組結合PVD磁控濺鍍,產生熱電子發射與電漿進行反應,可提高電漿內激發物種之濃度並提昇電漿離子密度,以此方式進行類鑽碳薄膜之製作,並探討鍍膜參數與DLC薄膜鍍膜速率及附著力之關係。二、實驗方法與步驟2.1電漿輔助模組本研究使用電漿輔助沉積模組,電漿輔助模組內之鎢絲通入高電流後,達到白熾狀態並釋放出熱電子。一般在室溫狀態時,線材表面之電子沒有足夠能量離開金屬線
8、材,因為能障會阻止電子逃脫,直到施加的能量大到足以使電子越過能障後,電子才能夠脫離金屬線材表面,此時金屬線材被加熱至極高溫,電子藉由熱震動的能量克服能障而產生放電現象,發射出電子或離子,這些放電粒子稱為熱電子[4]。(a)(b)Fig1、濺鍍腔體內之(a)電漿輔助沉積模組,(b)高熱鎢絲釋放熱電子。電漿輔助沉積模組如Fig.1所示,裝設於PVD濺鍍靶材旁,使用之線材為鎢絲,線長150mm直徑0.3mm。模組於PVD濺鍍時同步開啟,藉由熱電子之產生,提昇電
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