pecvd设备介绍

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1、PECVD种类PECVD法按沉积腔室等离子源与样品的关系上可以分成两种类型:直接法:样品直接接触等离子体,样品或样品的支撑体就是电极的一部分。代表:管式PECVD间接法:或称离域法。待沉积的样品在等离子区域之外,等离子体不直接打到样品表面,样品或其支撑体也不是电极的一部分代表:板式PECVDPECVD设备结构示意图限位开关极限保护开关净化系统步进电机PECVDSystemforSiN-AR-coating-ApplicationAntireflectivecoatingHydrogenpassivation(H+)Integratedsurfaceconditi

2、oning14晶片装载区:桨、LIFT、抽风系统、SLS系统;炉体:石英管、加热系统、冷却系统;特气柜:MFC气动阀;真空系统;控制系统;15进料腔(1)加热腔(2)工艺腔(3)冷却腔(4)出料腔(5)进料腔----有预热的作用,在载板进入腔体后,先冲入N2,再进行抽真空;加热腔在工艺中起着加热的作用;工艺腔在等离子及真空条件下,硅烷与氨气在400˚C时反应生成Si3N4,覆盖在硅片表面上;进料腔与出料腔防止特色气体溢出,增加安全性.使电池片体逐渐降低温度LoadChamberRATH&RAU设备结构进料腔加热腔工艺腔冷却腔温度:400摄氏度进料腔:红外加热加热

3、腔、工艺腔:电阻丝加热机械泵、罗茨泵抽真空:GV600无水泵是一个装有3对凸轮爪马达的4冲程泵,包括一台主泵和一台备用泵。EH4200是一种大排水量真空泵,这种泵由一个三相电机通过液态流进行驱动,其允许在较高的压力下进行操作。气压计气压开关温度计电阻丝加热机械泵罗茨泵返回运输马达和sensorsPositionsensorsDriver红外加热出料腔冷却水*6石英管*6温度设置速度设置气压设置设置功率实际功率反射比率角阀气体流量冷却水*42121等离子体源简图2222调节微波功率原则原则一:左边的微波源有问题,不能正常工作,只能通过调右边来补偿.可这样做整体膜都

4、应变厚,而实际是左边影响最大。原则二:微波源与膜厚是左边(右边)对应左边(右边)关系,但实际使用的微波功率比较大,当大到一定程度时,改变某一边的功率对该侧膜厚影响较小,对对称的那一侧膜厚影响较大,并且这种观点为多数人所认同.Thankyousincere!!

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