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《dsmc方法论文：dsmc方法 团簇源 团簇的尺寸 引出口的直径》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、DSMC方法论文：团簇源中团簇形成的DSMC模拟研究【中文摘要】团簇沉积成薄膜作为一种新的制膜技术而受到广泛的关注。它不仅能生长通常方法难以复合的薄膜材料,而且还能在比分子束外延法所需温度较低的条件下进行。目前这一技术已被用来制备高性能金属、半导体、氧化物、硫化物和有机薄膜等。由于膜的性质由团簇的性质影响,所以对团簇的形成过程的研究尤为重要。本论文中,我们利用直接模拟蒙特卡洛方法(DSMC),用Fortran语言汇编程序并自建模型,研究了在气体凝聚团簇源和磁控溅射气体凝聚团簇源中影响团簇生长的各因素。该论文的具体内容及结果归纳如下：1.模拟
2、了气体凝聚团簇源在不同的腔长,不同的腔壁温度和不同惰性气体的含量的条件下,Cu团簇的尺寸分布。模拟结果表明：腔的长度越长,产生大团簇的比例越大；腔壁的温度越低,产生的大团簇的比例越大；惰性气体的含量比例越高,产生的大团簇的比例越小；相同的惰性气体含量下,He/Ar比值越高,产生大团簇的比例越大。2.模拟了气体凝聚团簇源的引出口尺寸和中心位置不同的条件下,Cu团簇的尺寸分布以及模拟了随着时间的增长,腔内团簇数变化。模拟结果表明：引出口的直径越大,产生大团簇的比例越小；在引出口的直径相同的情况下,引出口的中心位置偏离坐标...【英文摘要】Thi
3、nfilmsobtainedbyclusterdepositionhaveattractedstrongattentionasanewmanufacturingtechniquetorealizethinfilmmaterialthatcan’tbeproducedinusualwayinthetemperaturethatislowerthanthatofmolecularbeamepitaxialmethod.Atpresent,highperformancemetallicmaterials,semiconductor,oxide,s
4、ulfide,organicfilmsareproducedbythistechnique.Becausethefilm’sfeaturesareinfluencedbytheclusterproperties,sothestudyoftheclustersgrowthprocessesisveryimportant....【关键词】DSMC方法团簇源团簇的尺寸引出口的直径【英文关键词】directsimulationMonteCarlomethodclustersourceclustersizeexitnozzlediameter【目录】
5、团簇源中团簇形成的DSMC模拟研究摘要3-4Abstract4-5第一章绪论8-121.1团簇源概况8-101.1.1气体凝聚团簇源8-91.1.2磁控溅射气体团簇源9-101.2团簇形成的研究近况101.3本文主要工作10-12第二章直接模拟Monte-Carlo方法(DSMC)12-222.1DSMC方法的一般步骤12-132.2DSMC方法模拟中的关键技术13-142.2.1流动计算区域的网格划分132.2.2时间步长的选取13-142.2.3仿真分子数的选取142.3分子作用势模型14-162.4碰撞的力学机制及散射模型16-182
6、.4.1碰撞参数162.4.2碰撞的力学机理16-172.4.3散射模型17-182.4.4碰撞后分子运动速度的计算182.5Maxwel1-Boltzmann能量分布函数18-192.6DSMC方法中物面边界的处理方法19-22第三章气体凝聚团簇源中团簇形成的模拟研究22-343.1模拟方法和参数22-243.2腔的长度对团簇形成的影响24-263.3腔壁的温度对团簇形成的影响26-283.4Ar的含量对团簇形成的影响28-313.5He的含量对团簇形成的影响31-333.6结论33-34第四章引出口的几何参数对团簇形成的影响的模拟研究3
7、4-394.1模拟方法和基本参数34-354.2引出口对团簇尺寸分布的影响35-364.3引出口的中心坐标对团簇的尺寸分布的影响36-374.4时间的变化对腔内团簇数目的影响37-384.5小结38-39第五章磁控溅射气体团簇源中团簇形成的DSMC研究39-455.1模拟模型和基本参数39-405.2不同的带电Cu含量比例对团簇形成的影响40-435.2.1Cu~-含量与Cu~+含量比例相同时对团簇形成的影响40-435.2.2Cu~-含量与Cu~+含量比例不相同时对团簇形成的影响435.3小结43-45第六章结论45-476.1主要结论4
8、56.2研究展望45-47参考文献47-49在学期间的研究成果49-50致谢50-51附录磁控溅射气体团簇源的DSMC方法程序51-87
