关于申报2007年中关村科技园区专利促进资金支持的通知

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1、申报书编号：□国内专利申请□专利授权□国外专利申请中关村科技园区专利促进资金申报书申报单位名称：（公章）单位法定代表人：单位所在园区或专业园：填报日期：年月日—13—填写说明一、填报要求：申报表中各项内容必须如实填写，并严格按照申报表的格式填报。各项栏目不得空缺，如无某项内容时则填“无”；申报单位名称需填写全称。申报书及相关材料一律采用A4大小的纸，按顺序将申报书及其相关材料装订成册（一式二份），并在申报通知规定的时间内送至中关村知识产权促进局（北京市海淀区知春路23号量子银座3层）审核，所有材料均需提交原件及复印件，原件审核后退回

2、。二、指标说明：1．企业法人代码：应采用国家统一规定的企业法人代码，没有企业法人代码的企业应先办理企业法人代码证。(格式XXXXXXXX—X)2．技术领域代码（6位）：应根据企业主要业务活动性质，按照科技部依据《高新技术领域代码》编制的分类代码规定填写。具体请见附件《高新技术领域代码》对照表。3．所在园区或专业园：海淀园、丰台园、昌平园、电子城科技园、亦庄、德胜园、健翔园、雍和园、石景山园、通州园和大兴生物医药基地。4．中关村信用等级：指由中关村管委会指定的信用评级服务机构出具的企业信用评估报告的等级。可在中关村科技园区网站(htt

3、p://www.zgc.gov.cn)和中关村企业信用促进会网站（http://www.ecpa.org.cn)上查找，企业提供信用报告或征信报告。5．大专院校办的企业：指经国家教育主管部门批准成立，国家承认学历并颁发学历证明的大专院校创办领办的企业。6．科研院所办的企业：指地市以上政府部门所属独立研究与开发机构创办的企业。7．留学人员办的企业：指获得国外大学本科以上学历的公派、自费留学人员，或在国内已取得中级（含中级）以上专业技术职务任职资格，并到国外高等院校、科研机构进修、访问、合作研究一年以上的访问学者和进修人员创办领办的企业

4、。8．项目起始时间：指本项目申请园区资金支持的时间。即为企业申请的时间，必须为申报书填报的时间一致。9．科研院所整体转制企业：指1999年1月1日以后地市以上政府部门所属独立技术开发型科研机构整建制转型为科技企业或进入国有大中型企业（或企业集团）的企业。—13—一、申报企业基本情况表申报企业名称法人代码□□□□□□□□－□所在园区或专业园通讯地址邮编联系人联系电话手机号码传真E-mail企业法定代表人情况姓名身份证号码联系电话手机号码单位注册时间注册资金（万元）其中外资（含港澳台）比例%开户银行帐号中关村信用等级注册登记时单位经济类

5、型□□01.国有企业02.集体企业03.股份合作企业04.联营企业05.有限责任公司06.股份有限公司07.私营企业08.港、澳、台商投资企业09.外商投资企业10.其他企业申报单位现状□□□（请选择下列符合企业现状的代码填写）（可多选）1．瞪羚企业2．认定的软件企业3．大专院校办的企业4．科研院所办的企业5．科研院所整体转制企业6．留学人员办的企业7.产学研结合8.其他附件材料□企业营业执照□高新技术企业证书□中关村企业信用等级报告职工总数人其中大专以上人员人其中研究开发人员人知识产权工作管理机构知识产权部门工作人员总数专职兼职负

6、责人电话手机电子信箱联系人企业已申请专利数项其中申请人为企业的项—13—专利情况发明专利申请项其中申请人为企业的项已获专利授权数项其中权利人为企业的项发明专利授权数项其中权利人为企业的项—13—二、资金申报表中关村科技园区国内专利申请资金申报表申报单位申报理由根据《中关村科技园区专利促进资金管理办法》的规定，我公司2007年6月1日至2008年5月31日，申请国内专利件，其中发明件，实用新型件，外观设计件，且发明专利申请量占70%以上，符合资助条件，申请万元的资金支持。国内专利申请情况明细表及专利申请受理通知书复印件附后。法定代表人

7、签字公章年月日所在园区（专业园）管理机构推荐意见同意推荐。批准人：盖章年月日—13—中关村知识产权促进局审核意见经审核，该公司2007年6月1日至2008年5月31日，申请国内专利件，其中发明件，实用新型件，外观设计件，且发明专利申请量占%，符合《中关村科技园区专利促进资金管理办法》的规定，核定资助金额万元。初审人复核人盖章年月日国内专利申请情况明细表申报单位（盖章）序号专利申请号专利申请日专利名称发明专利申请123456789101112—13—实用新型申请12外观设计申请12如果上表不够，请按此格式另附页。—13—中关村科技园区

8、专利授权资金申报表申报单位申报理由根据《中关村科技园区专利促进资金管理办法》的规定，我公司2007年6月1日至2008年5月31日，件国内专利申请获得授权，其中发明专利件，实用新型专利件，外观设计专利件；件国外专利申请获得授权，且发明