附件进口设备技术参数

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1、附件：进口设备技术参数场发射透射电镜序号设备名称技术要求数量1场发射透射电镜1.工作条件1.1电力供应：220V（±10%），50Hz1.2工作温度：18°C-23°C1.3工作湿度：<80%(20°C)1.4仪器运行的持久性：仪器可连续使用1.5仪器的工作状态：较强的防震抗磁能力，工作稳定1.6仪器设备的安全性：符合放射线防护安全标准和电器安全标准2.设备用途：2.1用于二维和三维尺度对材料科学进行快速、精确的形貌观察和微区的晶体结构和定量表征，选择特定设计的样品台进行原位动态实验。本系统主要有电子光学系统、高

2、压系统、真空系统等部分组成。3.技术规格3.1分辨率3.1.1信息分辨率：≤0.12nm（要求现场验收）3.1.2点分辨率：≤0.25nm（要求现场验收）3.1.3扫描透射分辨率：≤0.16nm（要求现场验收）3.2加速电压3.2.1加速电压：20kV–200kV高压范围内连续可调，包含20kV,80kV,120kV,160kV和200kV的常用高压3.2.2加速电压全程范围内切换仅需通过软件控制完成3.2.3高压稳定性：≤1ppm/10min3.3电子枪3.3.1电子枪类型：超高亮度高稳定度的肖特基场发射电子枪

3、3.3.2束流：1nm束斑电流≥1.0nA3.3.4高亮电子枪，探针电流≥150nA@200kV3.3.5束斑漂移：<1nm/min13.3.6最小能量分辨率：≤0.7eV3.4最小束斑尺寸3.4.1平行光照明模式：最小束斑≤1.2nm3.4.2汇聚束照明模式：最小束斑≤0.5nm3.5会聚束电子衍射（CBED）3.5.1最大衍射角：≥±13°（半角）；最大接受角≥100°3.6透镜系统3.6.1球差系数：≤1.5mm3.6.2色差系数：≤1.6mm3.6.3最小聚焦步长：≤3nm3.6.4恒功率设计，消除在不同

4、模式切换以及放大倍数调整时产生的热效应，保证成像与分析的超高稳定性3.6.5全自动光阑系统，包括全自动化一级、二级聚光镜光阑，及选区光阑和物镜光阑，最好是带位置记忆功能3.7TEM放大系统3.7.1放大倍数：不窄于25-1,500,000倍3.7.2放大倍数重复性：<1.5%3.8相机长度：最小≤12mm；最大≥5700mm，保证选区衍射和高阶衍射成像并能通过CMOS拍照。3.9扫描透射(STEM)3.9.1分辨率：0.16nm3.9.2配置更先进的高角环形暗场探头（HAADF），保证TEM能拍摄高分辨明场BF像

5、的同时，STEM能快速拍摄高质量的暗场DF像和高角环形暗场HAADF像3.9.3STEM放大倍数：150-230M倍3.9.3TEM与STEM模式相互切换后所需热稳定时间小于30秒，保证BF、DF和HAADF图像采集的无缝式切换3.10样品台3.10.1五轴优中心高精度自动样品台，观察点位置可以标记存储并返回3.10.2最大倾斜角度：±90°3.10.3最小样品倾斜角度不小于(α/β)±30°/±30°3.10.4样品移动范围：X,Y≥2mm；Z≥0.75mm3.10.5样品漂移速率（使用标准样品杆）：≤0.5n

6、m/min3.10.6配备单倾样品杆一根，高灵敏低背景双倾样品杆一根3.11能谱仪探测器3.11.1对称式的双电制冷能谱，无窗设计，集成在电镜极靴内，可灵活拆装，保留升级到四个能谱的接口3.11.2能量分辨率：≤136eV(Mn-Ka)，在输出计数率10kcps内保持不变3.11.3元素分析范围：从B（5）-Am（95）3.11.4最大输入计数率：≥500Kcps3.11.5EDS立体角：≥0.45srad3.11.6EDS最高耐热温度：≥1000°C，保证后期的加热升级3.11.7可进行快速原子级尺寸的点、线、

7、面的定性定量分析，全息面分布分析，具有谱峰剥离和谱峰重构功能3.11.8对于纳米级球状样品，在不转动样品的前提下，能从多角度收集X射线性能3.12.9面分布分析最快速度：≤10μs/pixel3.12.10可同步实时进行STEM图像采集和EDS分析3.12数字化照相系统成像相机是透射电镜的必要附件，用于透射电镜形貌像和电子衍射花样的数字化像的记录，具有数字化图像处理的功能，具有快速的连续记录功能，与所购电镜完美匹配。3.12.1双相机图像采集系统，配置光子和电子之间可直接转换的CMOS相机一个，光纤耦合CCD相机

8、一个，与电镜一体化。3.12.2CMOS相机最大像素：≥40964096，像素大小：≥14um14um3.12.3安装方式：底装3.12.4具有较高的读取速度，适合拍摄动态录像功能，拍摄速度应不小于25fps@512kx512k3.12.5具有大的动态范围可以快速直接拍摄衍射花样和低剂量图像3.12.6配置的CMOS相机应支持可拔插设计3.12.7支持客户根据电镜语言进行