sio_溶胶在电沉积法制备cuins_薄膜中的作用

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1、------------------------------------------------------------------------------------------------SiO_2溶胶在电沉积法制备CuInS_2薄膜中的作用 第30卷 第11期 2009年  11月航 空 学 报ACTAAERONAUTICAETASTRONAUTICASINICAVol130No111Nov1 2009  文章编号:100026893(2009)1122229205SiO2溶胶在电沉积法制备CuInS2薄膜中的作用朱立群,陈海宁,李卫平(北京航空航天大学空天材料与服役教育部重点实验室,北

2、京100191)EffectofSiO2SolonPerformanceofElectrodepositedCuInS2ThinFilmsZhuLiqun,ChenHaining,LiWeiping(KeyLaboratoryofAerospaceMaterialsandPerformance,MinistryofEducation,BeijingUniversityofAeronauticsandAstronautics,Beijing 100191,China)摘 要:针对目前电沉积法制备的CuInS2(CIS)薄膜存在S元素含量不足以及微观形貌差的问题,通过在普通镀液中加入SiO2溶胶,

3、采用一步电沉积技术在ITO导电玻璃上制备Cu2In2S预制薄膜,镀液的主要组成为金属盐、硫代硫酸钠和不同浓度SiO2溶胶。在空气气氛中对Cu2In2S预制薄膜进行退火处理以获得多晶的CIS薄膜,并通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、能量色散谱——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------仪(EDS)及开路电位对CIS薄膜的结构、形貌、成分组成及光响应性能进行研究。结

4、果表明:SiO2溶胶浓度为4mL/L时,得到的CIS薄膜的结晶度提高,同时,SiO2溶胶作用下得到的CIS薄膜的表面形貌、。因此,镀液中加入SiO2溶胶有利于提高CIS薄膜的性能,尤其是浓度为4L关键词:薄膜;CuInS2;SiO2溶胶;电沉积;光响应性能中图分类号:TM91212;TQ15311:A——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------Abstract:CuInS2

5、(CIS)thinfilmsandgoodmorphologyarehardtobegrownbythepresenttodealwiththeproblem,Cu2In2SprecursorthinfilmsarepreparedonITOstepelectrodepositiontechniqueintheelectrolytewithSiO2sol.Theelectro2lyticbathusedforpreparationofthethinfilmsconsistsofmetalsalts,sodiumthiosulfate(Na2S2O3)andvariousconcentratio

6、nsofSiO2sol.ThentheCu2In2Sprecursorthinfilmsareannealedinair2atmospheretoen2sureadequatecrystallizationoftheCuInS2thinfilms.SamplesarecharacterizedusingX2raydiffraction(XRD),scanningelectronmicroscopy(SEM),energydipersivespectroscopy(EDS)andopenpotential.Itisfoundthatfilmswithhighercrystallinityarea

7、chievedwhentheconcentrationofSiO2solis4mL/L.Besides,themor2phology,composition,andphotoresponseperformanceareimprovedbyaddingSiO2solintheelectrolyte.Theresultoftheinvestigationindicatesthattheperforma

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