多晶硅减反射复合结构的制备与性能_张力典

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1、------------------------------------------------------------------------------------------------多晶硅减反射复合结构的制备与性能_张力典第３３卷　第６期年月光　学　学　报Ｖｏｌ．３３，Ｎｏ．６，多晶硅减反射复合结构的制备与性能２１张力典１　沈鸿烈１，　岳之浩（２１南京航空航天大学材料科学与技术学院，江苏南京２１００１６南京航空航天大学纳米智能材料器件教育部重点实验室，江苏南京２１００１６）摘要　结合传统的混合酸腐蚀法与Ｎ在多晶硅表面制备了减反射复合结构。研究了Ｎｉ辅助腐蚀

2、法，ｉ溅射时间对多晶硅表面反射率、形貌以及光致发光性能的影响。用分光光度计测量了多晶硅表面的反射率，用扫描电镜观察了表面形貌，并用光致发光仪测试了表面的光致发光谱。研究发现，经过混合酸腐蚀与Ｎｉ辅助腐蚀的共同作用在多晶硅表面形成了一种附有细小针柱状微结构的“形腐蚀坑的复合结构，理论和实验分析表明这种复合结后，Ｕ”构具有良好的陷光效果。当溅射Ｎ双重腐蚀后的多晶硅表面在３ｉ的时间为５００ｓ时，００～９００ｎｍ波长范围内的平均反射率最低，仅为１０．１％。关键词　薄膜；光电子学；多晶硅；Ｎ复合结构；减反射ｉ辅助腐蚀；—————————————————————————————

3、—————————------------------------------------------------------------------------------------------------：／中图分类号　ＴＭ９１４．４文献标识码　Ａｄｏｉ１０．３７８８ＡＯＳ２０１３３３．０６３１００２ＰｒｅａｒａｔｉｏｎａｎｄＰｒｏｅｒｔｆＡｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅＣｏｍｌｅｘＳｔｒｕｃｔｕｒｅｓｏｎｐｐｙｏｐＭｕｌｔｉｃｒｓｔａｌｌｉｎｅＳｉｌｉｃｏｎＳｕｒｆａｃｅ　　ｙ１１２１ＺｈａｎＬｉｄｉａｎｈｅｎＨｏｎｌｉｅｕｅＺｈｉｈａｏ　Ｓ　　Ｙ　ｇｇ　１　，

4、２　ＣｏｌｌｅｅｏＭａｔｅｒｉａｌｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄ　ＴｅｃｈｎｏｌｏａｎｉｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｏＡｅｒｏｎａｕｔｉｃｓａｎｄＡｓｔｒｏｎａｕｔｉｃｓ，　　ｇｆ　ｇｙ，Ｎｊｇ　ｙｆ　　Ｎａｎｉｎ１００１６，Ｃｈｉｎａｉａｎｓｕ２ｊｇ，ＪｇｏｒＫｅＬａｂｏｒａｔｏｒＩｎｔｅｌｌｉｅｎｔＮａｎｏ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓａｎｄ　Ｄｅｖｉｃｅｓｏｔｈｅ　ＭｉｎｉｓｔｒｏＥｄｕｃａｔｉｏｎ，ＮａｎｉｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｏ　ｆｙｙｇｆｙｆｊｇ　ｙｆａｎｄＡｓｔｒｏｎａｕｔｉｃｓ，Ｎａｎｉｎ１００１６，ＣｈｉｎａＡｅｒｏｎａｕｔｉｃｓｉａｎｓｕ２　　ｊｇ，Ｊｇ——————————

5、————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------ＡｂｓｔｒａｃｔｃｏｍｂｉｎｉｎｎｉｔｒｉｃａｃｉｄｅｔｃｈｉｎａｎｄＮｉａｓｓｉｓｔｅｄｅｔｃｈｉｎｈｅａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅｃｏｍｌｅｘｓｔｒｕｃｔｕｒｅｏｎ　Ｂ－　　ｙｇｇｇ，ｔｐｍｕｌｔｉｃｒｓｔａｌｌｉｎｅｓｉｌｉｃｏｎｓｕｒｆａｃｅｉｓｏｆｔｈｅｓｕｔｔｅｒｉｎｔｉｍｅｏｆＮｉｏｎｔｈｅｉｎｃｌｕｄｉｎｒ

6、ｅａｒｅｄ．Ｅｆｆｅｃｔｓｅｒｆｏｒｍａｎｃｅｓ　ｙｐｇｇｐｐｐ　，ｍｓｕｒｆａｃｅｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅｏｒｈｏｌｏａｎｄａｒｅｓｔｕｄｉｅｄ．Ｔｈｅｓｕｒｆａｃｅｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅｏｆｔｈｅｈｏｔｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅｒｏｅｒｔ　　ｐｇｙｐｐｐｙ　　ｍｕｌｔｉｃｒｓｔａｌｌｉｎｅｓｉｌｉｃｏｎｗａｆｅｒｓｉｓａｎａｌｚｅｄｂｓｅｃｔｒｏｈｏｔｏｍｅｔｅｒ．Ｔｈｅｍｏｒｈｏｌｏｉｅｓａｒｅｏｂｓｅｒｖｅｄｂｓｃａｎｎｉｎｙｙｙｐｐｐｇｙｇ　　——————————————————————————————————————--------------------

7、----------------------------------------------------------------------------ｅｌｅｃｔｒｏｎｍｉｃｒｏｓｃｏａｎｄｔｈｅｈｏｔｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅｒｏｅｒｔｉｅｓａｒｅａｎａｌｚｅｄｂｈｏｔｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓｓｔｅｍ．ｐｙｐｐｐｙｙｐｙ　　ｉｔｓＩｔｉｓｆｏｕｎｄｔｈａｔＵ－ｓｈａｅｄｅｔｃｈｉｎｗｉｔｈｍａｎｎｅｅｄｌｅｌｉｋｅｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓｉｎｓｉｄｅａｒｅｆｏｒｍｅｄａｆｔｅｒｔｈｅｃｏｍｂｉｎｅｄｎｉｔｒｉｃ　－　　ｐｐｇｙ　　ｅｔｃｈ