欢迎来到天天文库
浏览记录
ID:14947463
大小:1.47 MB
页数:32页
时间:2018-07-31
《太阳能电池pecvd装置设计》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、毕业设计设计题目太阳能电池PECVD装置设计_______学生姓名王真_学号20090761专业班级机械设计制造及其自动化09-10班指导教师干蜀毅院系名称机械与汽车工程学院2013年6月4日目录中文摘要1英文摘要21绪论31.1我国太阳能电池的发展现状及展望31.2PECVD技术的最新进展与应用42PECVD原理及沉积工艺参数42.1PECVD原理及沉积过程42.2PECVD沉积技术工艺参数53PECVD沉积镀膜生产线73.1PECVD沉积镀膜生产线的组成73.2PECVD技术分类及优缺点比较84PECVD
2、设备构成及各部分功能.................................................................................105PECVD沉积镀膜真空室的设计要求与原则105.1设计参数105.2PECVD沉积镀膜真空室的主要设计原则115.3PECVD沉积镀膜室对抽气系统的要求116PECVD沉积镀膜室主要部分的设计与计算126.1真空室壳体的设计与计算126.1.1真空室壳体的类型选择136.1.2真空室壳体的计算与校核136.1.3真空室的AN
3、SYS分析.........................................................................................146.2抽气系统的设计与计算186.2.1选泵与配泵186.2.2抽气时间的计算196.3布气系统的设计..............................................................................................................
4、...216.3.1布气系统的作用....................................................................................................216.3.2布气系统的结构.....................................................................................................226.4机架的设计与计算236.4.1PECVD
5、真空镀膜室总重估机架...........................................................................236.4.2机架的结构设计与校核.................................................................................24结论25致谢26参考文献28太阳能电池PECVD装置设计摘要:世界能源消耗持续增加,全球范围内的能源危机形势愈发明显,缓解能源危机、开发可再生能
6、源已势在必行,太阳能电池的应用普及已经成为一种趋势。由于温度低,效率高等一系列优点,等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD)近年来在太阳能电池板镀膜技术中得到了广泛发展与应用。文中在对等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD)的工作原理分析的基础上,阐述了等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD)的主要工艺流程和影响参数,并介绍了PECVD镀膜生产线的组成及工作过程,从而对PECVD镀膜设备进行可行性的方案设计。文中主要对真空沉积室、真空抽气系统、布气系统、以及机架进行了设计,方案中选用了分子泵作为主泵、机
7、械泵作为前级泵,并设计了全新的布气装置,优化了整个系统。关键词:太阳能电池,等离子体增强化学气相沉积技术,镀膜,真空,布气装置29ThedesignofthesolarcellPECVDdevicetechniqueAbstract:Withtheenergyconsumptionoftheworldcontinuestogrow,globalenergycrisissituationbecomesincreasinglyvisible.Relievetheenergycrisisanddevelopment
8、ofrenewableenergyhavebeenimperative.Itisatrendtouseofsolarcellsallovertheword.Becauseoflowtemperature,higherefficiencyhigherandanatherseriesofadvantages.Plasmaenhancedehemicalvapordepositionhasbeenwide
此文档下载收益归作者所有