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1、Ep,品lJ电路板激光投影成像照明系统均匀性分析本文由keenss1985贡献pdf文档可能在WAP端浏览体验不佳。建议您优先选择TXT，或下载源文件到本机查看。第26卷第3期2009年5月量子电子学报ELECTRONICSV01.26No.3CHINESEJOURNALOFQUANTUMMay2009DOI:10.3069/j.issn.1007-5461.2009.03.020Ep,品lJ电路板激光投影成像照明系统均匀性分析裴文彦-,周金运.,梁国均2,林清华:(1广东工业大学实验教学部,2广东工
2、业大学物理与光电工程学院,摘广东广州广东广州510006;510006)要:针对351nm波长的XeF准分子激光器,自行设计了用于高精度,高产率,大面积且常规抗蚀剂曝光的印刷电路板(PCB)激光投影成像照明系统.根据准分子激光的部分相干平顶高斯光束(PCFGB)理论模型,对微透镜阵列器(MLA)均柬的衍射特性进行了理论分析.由PCFGB分布函数,稳定光强输出的衍射角和菲涅耳一基尔霍夫衍射积分公式.定量分析衍射效应对MLA均束的影响.理论计算表明,微透镜边缘发生菲涅耳衍射和微透镜产生的多光束干涉都能引起
3、光振幅调制,只不过衍射产生的尖峰更明显地出现在光束边缘.同时,由数值积分得到的PCFGB曲线,发现9×9MLA均柬器既能保证多个微透镜产生光束叠加的均匀性,又最大程度地减少了衍射和多光束干涉效应.通过采取加正六边形光阑的方法,不仅能满足大面积无缝扫描光刻的需要,而且能剪裁由衍射引起的光束边缘尖峰.由ZEMAX光学设计软件模拟其效果,显示其加工窗不大于-t-2%.关键词:激光技术;均束器;激光投影成像光刻;XeF准分子激光;印刷电路板;加工窗中图分类号:TN248文献标识码:A.文章编号t1007-54
4、61(2009)03-0360-06UniformityanalysisoftheilluminationsystemforPCBlaserprojectionPElimageGuoqtlrl2,LINQing-hua2510006,China;Wen-yahl,zHoUTeachingJin-yun2,.LIANG(1Experimental2Center,GuangdongUniversityofTechnology,GuangzhouSchoolofPhysicsandOptoelectroni
5、cEngineering,GuangdongUniversityofTechnology,Guangzhou510006,China)re￥-Abstract:For351nmXeFexcimer.anilluminationsystemforPCBlaserprojectionimageusedforhighareaandconventionalphotoresistsexposureisolution,highthroughput,largetheoryticofdesigned.Onthebas
6、isofthemodeloftheexcimer'spartlycoherentflat·topGanssianbeam(PCFGB),thediffractivecharacteris-micro-lensarray(MLA)homogenizeristheoreticallyanalyzed.TheuniformityofMLAhomogenizerinfluencedbytheanglesofindicatesdiffractiveeffectisquantitativelyandisanaly
7、zedbymeansofdistributionofPCFGB,diffractiveconstantintensitythattheFresnel·Kirchhoffdiffractiveintegralformula.ThetheoreticalcalculationamplitudemodulatednotonlybyFresneldiffractionatthemicrolensesedgesbutalsoby日nultiplebeaminterference,anditisjustobvio
8、usthatthespikesproducedbydiffractionemergeinthebeamedges.Meanwhile,forCallthePCFGBCUrVesobtainedbynumericalintegral,itisfoundthat9×9MLAhomogenizerensuretheoverlappinguniformityofthebeamsfromindividualmicrolensesanddecrease基金项目:广东
