ni-mo-er(gd)-mosi复合镀层的制备研究

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2、------------Ni-Mo-Er(Gd)-MoSi2复合镀层的制备研究13/14---------------------------------------------------------------范文最新推荐------------------------------------------------------摘要：本论文用脉冲复合电沉积的方法制备Ni-Mo-Er(Gd)-MoSi2复合镀层，研究了Er和Gd的浓度、正向占空比、施镀时间、正向电流密度、频率对Ni-Mo-Er(Gd)-MoSi2复合镀层的硬

3、度影响，分别用电子扫描显微镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）、电子能谱仪（EDX），摩擦磨损试验机、热膨胀仪对该镀层进行表征。在MoSi2浓度为0.4g/50ml，表面活性剂浓度为0.09g/L下较佳工艺条件分别为：Er3+最佳浓度为0.3g/L、电流密度为18.75A/dm2，频率为2500Hz，占空比为1/2，施镀时间为20min；Gd3+最佳浓度为0.2g/L，电流密度为19.5A/dm2，频率为2500Hz，占空比为1/2，施镀时间为25min。在该条件下制备Ni-Mo-Er-MoSi2以及Ni-Mo-Gd-MoSi

4、2镀层，测得的硬度分别为781.5HV以及877.88HV，与Ni-Mo-MoSi2复合镀层的硬度相比，其硬度均明显增大，分别增大了19.70%以及34.46%。从表征结果中可以知道Ni-Mo-Er(Gd)-MoSi2复合镀层相对于Ni-Mo-MoSi2复合镀层而言，镀层中的Mo含量分别增加12.38%和14.37%，且Si含量也分别增加了1.623%和2.613%。此外，Er和Gd分别进入复合镀层的晶格中，迫使晶格发生畸变，使衍射峰偏移，同时，它们也可以抑制Ni-Mo-Er(Gd)-MoSi2复合镀层的收缩，提高了镀层的耐高

5、温性和耐磨性。而有关用脉冲复合电沉积的方法制备Ni-Mo-Er(Gd)-MoSi2复合镀层的文献还未见报道。7017关键词：脉冲电沉积；Er；Gd；二硅化钼；复合镀层PreparationofNi-Mo-Er(Gd)-MoSi2CompositeCoatingAbstract:ThepaperistousepulseplatingmethodforthepreparationofNi-Mo-Er(Gd)-MoSi2compositecoating.TheeffectsoftheconcentrationofErorGd,pos

6、itivedutycycle,platingtime,theforwardcurrent13/14---------------------------------------------------------------范文最新推荐------------------------------------------------------densityfrequencyofNi-Mo-Er(Gd)-MoSi2compositecoatinghardnesswerestudied.Weuseascanningelectron

7、microscope(SEM),X-raydiffraction(XRD),electronspectroscopy(EDX),frictionandweartester,thermaldilatometertorecivethecharacterizationresultsofthecompositecoating.ItshowsthatwhentheconcentrationofMoSi2is0.4g/50mlandtheconcentrationofthesurfactantsis0.09g/L,theoptimalco

8、nditionswere:Er3+concentrationis0.3g/L,thecurrentdensityis18.75A/dm2,thefrequencyis2500Hz,thedutycycleis1/2andtheplatingtimeis20min;Dd3+co