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1、国内外多晶硅发展现状本文由srising贡献pdf文档可能在WAP端浏览体验不佳。建议您优先选择TXT，或下载源文件到本机查看。摘要叙述了国内外多晶硅的发展概况对我国多晶硅材料的研究提出几点建议关键词——国内外多晶硅发展现状蒋荣华,染鹜娜卿哪,肖顺珍峨眉半导体材料所,四川峨眉山市讨论了多晶硅生产过程中改良西门子法的几项关键技术,并。半导体硅多晶硅工艺过程中图分类号‘文献标识码文章编号一一一一,一,,,前言在信息化时代的今天高速发展的电子工业,要优点是节能降耗显著、成本低、质量高。,采用综合利用技术,,对环境不产生污染、其主要技术、信息工业的坚强后盾是是大
2、直径对多对棒节能型还原炉技术导热油循电子工业的重要的基础材料,环冷却硅还原炉系统技术还原炉尾气封闭式干法氢化生成,就是半导体硅单晶材料而生产硅单晶的基础材料。回收技术以及副产品技术。就是高纯优质的半导体多晶硅因此,优质的半导。体多晶硅材料已成为现代信息产业的基础之基础目前多晶硅的产品,主要是以改良西门子法生五业硅产的棒状多晶硅为主晶硅为辅,,以流化床技术生产的粒状多,多晶硅硅。随着今后单晶直径增大,石英增涡同时。被要求增大到极限时可能会加大采用连续供料拉晶法从而将加大对粒状多晶硅的需求量与生产量从半导体级多晶硅的质量来看个用“”,。,其纯度可达到,一用户
3、不经腐蚀和清洗便可直接装炉使还原尾气近年,世界多晶硅材料的主要生产厂家的生产,规模都在千吨级经济规模以上主要工序都用计算图多晶硅生产的改良西门子法示意图机控制,设备装备水平高。多晶硅生产采用的技术,几乎都是先进的改良西门子法图这种方法的主几力盯刃,改良西门子法的几项关键技术,大型多对棒节能型还原炉,多晶硅还原炉出于节能降耗的考虑必须大型化与之相适应的电器也必须大型配套大型节能还原炉有几项关键的技术多根金属丝,,炉的内壁加工成镜面减少散热损失热能气量,以提高反应速度采用这种改进的大型还原炉之后——件之后其中的三氯氢硅和四氯化硅被冷凝分离出来然后把分离出的三
4、氯氢硅直接送到还原炉,,缭攫纳翻衅,,,以生产多晶硅而把四氯化硅送到氢化工序经氢化后部分转,,,化成三氯氢硅把氢化后的气体再经分离塔分离出三氯氢硅和四氯化硅再分别把三氯氢硅送到还原系统,,。,炉内可同时加热许再把四氯化硅送到氢化工序这样连续不断地循环进以减少炉壁辐射所造成的热损失,行下去。另外经加压和冷却后的不凝气体主要是,,,使辐射热能反射,,以。氢和氯化氢它们在加压和低温条件下通过特殊的分,,,,提高炉内压力加大供离工艺使氢和氯化氢分离出来把没有杂质和水分的。,加快硅的沉积生成速度,纯氢送往氯化氢合成工序或还原工序利用而氯化氢则送到三氯氢硅的合成工序
5、,其炉产量可以从、还原尾气干法回收的改良前的每炉次吨。、公斤提高到每炉次一能耗低整套工艺都不接触水分只是把尾气中各种成分逐一分离并且不受污染地回收再送回相适应的工序重,,这种大型还原炉的显著特点是产量高质量稳定,,。复利用实行闭路循环式工作四氮化硅,,。目前国外大型还原炉的硅棒的总数大多在氮化反应技术,根以上硅棒长度在以上每炉产量可达,米以上棒直径达到一,毫米用西门子法生产多晶硅时在氯化工序和还原工序都要产生大量的副产物,吨,电耗则大幅度下降达。到每公斤多晶硅耗电—成不但增加了多晶硅生产的单耗而且该物很难处理,‘。大量的、生,导热油循环冷却还原炉工艺技术
6、在多晶硅生产过程中、对环境造成污染,,。。为此大阪钦公司,联合碳化物,还原炉是高耗能设备等公司很早就致力于开展工作,转化成,的研究硅棒的沉积需要电能加热并维持温度在高温状态而炉筒电极和炉底盘则需要冷却,。。世界各大型多晶硅生产厂。也都进行了这方冷却过程会带这面的研究使生产多晶硅仅需补充纯硅和少量作走大量热能,使还原炉内多晶硅棒的热能损失原料成为可能种热能损失大部分是高温硅棒传向低温炉壁的热辐射而损失的其次是气体被加热后而排出还原炉带走了部分热量。我国多晶硅的发展历程及现状我国的多晶硅伴随着整个硅材料工业起步于世纪。要想提高炉筒壁的温度。,就要设法提高炉筒
7、壁冷却介质的温度水℃,以前传统的冷却介质是年代中期‘,到年代中期实现工业化生产,,因水的沸点在℃,故出口温度不能高于,年代初曾一度盲目发展一生产厂家发展到,余技术,而实际工艺过程中未能达到这种较高温度℃左右。家由于这些厂都采用的是传统的西门子法、般都在人们通过探讨,,,采用了导热油,水平低等原因,生产规模小、、各种消耗指标高,、产品质作为还原炉的冷却介质以采用了循环冷却方式因油的成本远比水高因此,所量不稳定污染环境严重加之生产成本逐年增加,便产生了导热油循多数生产厂难以维持生产,以至倒闭,到环冷却还原炉的工艺约,。这种工艺可使直接电耗降低。目前为止生产厂
8、仅剩两家‘,即峨眉半导体材料厂还可综合利用余热和洛阳硅单晶。全国的多晶硅产能由几
