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《酞菁光盘染料的合成、表征及功能性应用的研究（可编辑）》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在教育资源-天天文库。
1、酞菁光盘染料的合成、表征及功能性应用的研究中国科学技术大学硕士学位论文酞菁光盘染料的合成、表征及功能性应用的研究姓名:高德涛申请学位级别:硕士专业:应用化学指导教师:闫天堂;彭必先2001.6.1中国科学技术大学硕士学位论文高德涛摘要摘要在过去?年的时间里,不论在学术界还是在工业界,人们对染料的关注正从传统的染料化学转向功能性染料。功能性染料在各种高新技术领域如:光存储、光导、化学传感器、光伏打电池、非线性光学、光致变色、液晶显示等方面的成功应用激发了科学家们极大的热情。很多科学家正致力于筛选性能优良的新型功能性染、一料,以应用于各种高新技术领域。广,本文是针
2、对酞菁作为光记录的材料,研究了酞菁染料的结构周环取代基的类型、,位置、数量与基本物理、光物理性质之间的关系。佐有机溶剂中的低溶解度使得大多数酞菁染料不能满足实用化的要求。另外,酞菁染料的最大吸收波长、熔点、热失重等基本的性质也是酞菁染料实用化要考虑的基本因素。在众多酞菁染料的相关文章,中,多数酞菁染料周边苯环上的取代基都是直链烃基和直链烷氧基√本文的研究重点/则是歧化度更高的取代基。因此,我们选择了几种位阻较小的卤代烷正丁基溴、仲、丁基溴、叔丁基溴、正戊基溴、仲戊基溴、异戊基溴、正辛基溴作为取代基的原料,合成了七种歧化度、长度不同的八烷氧基取代的酞菁染料和三种
3、四烷氧基取代的酞菁染料,其中九种是撕拙合物。考虑到高歧化的烷氧基对于提高酞菁染料在有机溶剂中的溶解度有利,本文设计合成了几种异构化和歧化的高级醇,二甲基一一戊醇,/,,,三甲基一一戊醇,三乙基甲醇和相应的卤代烷。以其为取代基的原料,试图合成新的八烷氧基取代的酞菁染料,但由于取代基位阻太大,未能成功。本文系统的研究了烷氧基的长度、歧化度对酞菁染料熔点、热稳定性、溶解度、最大吸收波长摩尔消光系数等基本性质的影响。在酞菁染料实用化的过程中,为了调节酞菁染料的吸收波长与现行半导体激光波长相匹配,我们采用了溴化的方法来微调酞菁染料的最大吸收波长。在研究中,我们发现,酞菁
4、染料一四正戊氧基钯酞菁溴化后,一些基本性质熔点、稳定性、溶解度等也发生了相应变化。基于实验结果与分析数据,本文提出了可能的热失重机理,并给予了分析与讨论。关键词:酞菁染料,光记录,功能性染料中国科学技术大学硕士学位论文高德涛摘要?,、.,,,,,,,.?..,。,,,,,.?,.,一一,,一一.,,,??,,,,.,.,中国科学技术大学硕士学位论文高德涛摘要,.,.:.,,中国科学技术大学硕士学位论文高德涛第一章文献综述第一章文献综述.??光盘染料发展概况?..光盘的定义,特点及分类光盘是继缩微技术始于年代和磁性存储介质始于年代之后由公司己于年推出的一种崭新的
5、信息存储系统。这种系统以其高密度,大容量,随机存取和不易擦伤等优势而迅速发展起来。美国,德国,日本,荷兰和加拿大的一些公司已开发出性能赶上和超过磁性材料的产品。光盘的分类有很多种,如按其工作方式可分为只读式光盘存储系统,,一次写入光盘,或叫,和可擦重写光盘存储系统;根据有机介质在激光作用下变化形式可分为可逆型和不可逆型。..光盘简要原理光盘是利用激光写入和读出信息。激光照射后使微光斑区介质发生物理或化学变化,从而使该微区的光学参数变化来记录信息。读出时用一束比写入激光弱的激光扫描记录层,在信息微点的地方,光程差为/的两束激光发生干涉,变暗,几乎不反射,反之则全
6、反射,反射回来的激光经光电二极管检出点信号,将记录在光盘上的信息还原为原来的模拟或数字信号。不可逆型记录中主要有形成洞或坑,形成气泡和颜色等几种,可逆型记录中主要有表面变化,液晶相变和光致变色等几种形式。..光盘的结构及其材料光盘可采用多种结构,但一般至少要有两部分组成,即支持基片和记录介质层。根据对各种性能的不同要求,记录介质层的亚结构还可细分为记录层和其它组成部分如:反射层,表面层,介电层,或保护层等,从而组成具有多功能的层结构。单层结构:在基片上涂一层吸收激光的记录介质。主要适用于形成坑或洞的不可逆记录,但不能满足信噪比的要求。双层结构:先将铝或铋直接沉
7、积在基片上,再把染料涂于铝或铋形成的反射层上。三层结构:在反射层与记录层之间涂上一层介电层,可以在反射率低的盘面上记录引起反射率升高的信息。常用的可录光盘的结构为下图所示:??里型兰垫查叁兰堡主堂垡堡兰生竺堡笙::兰坚竺堡幽?司录光盘?的结构图下面介绍各层的材料:衬底层衬底或基片是光记录介质的支承体,光盘机械强度的提供者,同时也对记录层有一定的保护作用。目前实用的光盘衬底材料通常为光学玻璃如氧化铝硼硅酸盐玻璃,铝片,聚碳酸脂和聚甲基丙烯酸甲酯,聚苯乙烯和聚氯乙烯等。隔热层隔热层一般置于记录层和衬底层或反射层之间,其作用在于限制热量向衬底或反射层散失,从而提高刻
8、写灵敏度,也就可以降低激光刻写阈值功率
