单晶硅太阳能电池表面pecvd淀积sin减反射膜工艺研究

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1、单晶硅太阳能电池表面PECVD淀积SiN减反射膜工艺研究南通大学毕业设计（论文）立题卡2、课题来源是指：1.科研，2.社会生产实际，3.其他。3、课题类别是指：1.毕业论文，2.毕业设计。4、教研室意见：在组织专业指导委员会审核后，就该课题的工作量大小，难易程度及是否符合专业培养目标和要求等内容提出具体的意见和建议。5、学院可根据专业特点，可对该表格进行适当的修改。南通大学毕业设计（论文）摘要等离子增强化学气相淀积氮化硅减反射薄膜已经普遍应用于光伏工业中，其目的是在晶体硅太阳能电池表面形成减反射薄膜，同时达到了良好的钝化作用。氮化硅膜的厚度和折射率对电池性能都有重要的影响。探索最佳的工

2、艺条件来制备最佳的薄膜具有重要意义。本课题是利用Roth&Rau的SiNA设备进行淀积氮化硅薄膜的实验，介绍了几种工艺参数对薄膜生长的影响，获得了生长氮化硅薄膜的最佳工艺条件，制作出了高质量的氮化硅薄膜。实验中使用了椭偏仪对样品进行膜厚以及折射率的测量。关键词：等离子增强化学气相淀积，氮化硅薄膜，太阳能电池，光伏效应，钝化I南通大学毕业设计（论文）ABSTRACTSiNfromplasma-enhancedchemicalvapordeposition(PECVD)iswidelyusedinP-Vindustryasanantireflectionthinfilmonthes

3、urfaceofcrystalsiliconsolarcell.Inadditionthisprocesstakesadvantageofanexellentpassivationeffect.BoththethicknessandrefractiveindexoftheSiNfilmmakeimportantinfluencestotheperformanceofsolarcells.Soitisveryimportanttofindthebestprocessparameterstodepositthebestfilm.Inthispaper,theexperimentofSiNf

4、ilmdepositionwascompletedwiththeequipmentnamedSiNAproducedbyRoth&Rau.Theinfluenceoftheparameterstothegowthofthefilmwasintroducedbasedontheexperiment,andthebestparameterstoproducethetop-qualitySiNfilmwereobtainted.TheSpectroscopicellipsometrywasusedtotestthethicknessandrefractiveindexofthesam

5、plesduringtheexperiment.Keywords:PECVD,SiNfilm,solarcell,photovoltaiceffect,passivationII南通大学毕业设计（论文）目录摘要..........................................................................................................................................IABSTRACT............................................

6、.......................................................................................II第一章绪论...................................................................................................................................11.1太阳能光伏产业发展现状和未来.....................................................

7、..............................11.2晶体硅太阳能电池技术的发展.......................................................................................11.3本课题的主要内容..............................................................................