多晶硅硅片清洗后废水回收与利用本科学位论文.doc

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1、乐山职业技术学院毕业论文乐山职业技术学院毕业论文（2015届）题目多晶硅硅片清洗后废水回收与利用系部新能源工程系专业光伏材料加工与应用技术班级光伏12级1班学号201201320113姓名赵瑜川指导教师张东2015年3月7日16乐山职业技术学院毕业论文目录摘要…………………………………………………………………………………………3引言…………………………………………………………………………………………3一、多晶硅硅片清洗综述……………………………………………………………………3（一）原理…………………………………………………………………

2、……………41.多晶硅硅片清洗的基本概念…………………………………………………………42.多晶硅硅片清洗的处理方法…………………………………………………………4(二）危害………………………………………………………………………………51.多晶硅片的各个环节清洗中的废水…………………………………………………52.化学试剂中的有害物质危害对人体危害……………………………………………63.多晶硅硅硅片的清洗带给周边环境的危害…………………………………………6二、多晶硅硅片废水回收利用……………………………………………………………7（一）介绍…

3、……………………………………………………………………………71.经济效益的分析………………………………………………………………………72.意义……………………………………………………………………………………8（二）方法………………………………………………………………………………81.全自动软化水设备……………………………………………………………………82.纯水制备………………………………………………………………………………9结论…………………………………………………………………………………………14谢辞…………………………………………

4、………………………………………………15参考文献……………………………………………………………………………………1516乐山职业技术学院毕业论文多晶硅硅片清洗后废水回收与利用新能源工程系光伏12-1班赵瑜川【摘要】太阳能是一种重要的、新的、有效的可再生清洁能源，其储量巨大，没有环境污染，充满了诱人的前景。多晶硅是太阳能电池的重要原料，但其加工废水也给环境污染带来了巨大负担。本文通过对多晶硅加工废水的研究，提出一种资源循环利用，废水零排放的途径，解决多晶硅生产中的水污染问题。【关键词】多晶硅硅片废水回收纯水制备引言：硅片在一系列的加工过

5、程中，会受到来自设备、工装、磨料以及环境等各方面的种种沾污，这些沾污需要利用多种化学物理的方法进行去除，就是硅片清洗。硅片在经过每一道工序加工后，都要进行清洗。这几年来，自欧盟、美国对中国光伏行业掀起"双反"调查后，中国的太阳能光伏行业面临紧张的局势。对于出口销售的高额关税，任何一家光伏企业表示无奈，于是只能降低自己的加工成本，国内太阳能企业出现发动全员创新、降低能源浪费的高潮。晶体硅在切割成为硅片后势必要经过自来水和腐蚀性溶液清洗，为了保证清洗质量，导致目前存在问题：硅片清洗机在运行中排出的废水很干净，这些水源源不断地通过地沟排出厂

6、区，形成周边生态环境的污染和造成一种非常严重的浪费硅片车间需要用水较多，大致分为三类：清洗硅片、清洗硅块、清洗设备及工装。其中清洗硅片为最后一道工序，需要的水洁净度较高，清洗硅块要求使用水的洁净度较低。清洗设备及工装主要包括过滤网的冲洗、超声波水槽、化胶槽以及预清洗设备，对水质要求也不高。16乐山职业技术学院毕业论文一、多晶硅硅片清洗综述综述（一）原理1．多晶硅硅片的基本概念1.1高纯的概念:半导体，在希腊文中的含义为“清洁”，半导体对于杂质的敏感性决定了其工艺过程中注重洁净的特点。硅属于半导体，当然也同样注重洁净，高纯的概念不只是在

7、器件生产中需要建立，即使在硅片加工中，也应从头至尾贯穿其中。1.2硅片经过不同工序加工后，其表面已收到严重沾污，一般讲硅片表面沾污大致可分为有机沾污、颗粒类杂志沾污和金属杂质沾污三类。①有机杂质沾污：有机沾污通常有机试剂的溶解作用，结合超声波清洗技术去除。②颗粒杂志沾污:一般采用物理方法去除。可以采用机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径≥0.4um的颗粒，利用兆声波可去除≥0.2um的颗粒。③金属杂质沾污：必须用化学的方法才能去除2.多晶硅硅片清洗的处理方法2.1化学清洗：化学清洗就是利用各种化学试剂对各种杂质腐蚀、溶解、氧化及络合作用

8、，去除硅片表面的杂质沾污。①用有机溶液去除硅片表面的有机杂质沾污：一般使用甲苯、丙酮后，再使用乙醇进行处理，然后才能用水冲洗。②无机酸及氧化还原反应在硅片化学清洗中的应用：利用盐酸、硝酸、硫酸和氢氟酸等去除硅片的表面杂质