氧化铝焙烧生产工艺.

《氧化铝焙烧生产工艺.》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在教育资源-天天文库。

1、焙烧车间生产任务将分解车间送来的AH料浆通过平盘过滤机过滤，得到合格的氢氧化铝；将合格的氢氧化铝通过气态悬浮焙烧炉高温焙烧成合格的氧化铝；将氧化铝产品通过包装或罐装后外运或贮存到堆栈。成品过滤氢氧化铝焙烧氧化铝包装及堆栈焙烧车间工序组成平盘过滤机结构组成成品过滤工序平盘过滤机工作原理工艺流程及知识点生产指标控制平盘结构组成成品过滤工序的主体设备是平盘过滤机，过滤面积62M2,德国道尔生产。结构组成：水平圆盘、平盘驱动、缷料螺旋、螺旋驱动、布料系统、洗涤系统、错气盘、分配盘、集中润滑系统。水平圆盘平盘驱动平盘结构组成平盘结构组成布料系统洗涤系统平盘结构组成卸料螺旋集中润滑系统平盘结构组成错

2、气盘分配盘平盘结构组成平盘结构组成平盘工作原理分离后的AH用第二弱滤液进行一次洗涤，用第一弱滤液进行二次洗涤，用90℃热水进行第三次洗涤，以降低AH产品中的杂质。最后得到附水5.5%、附碱0.06%以下的AH滤饼。平盘过滤机集过滤、洗涤为一体。分解来的AH浆液在平盘过滤机上利用真空所造成的压力差，借助过滤介质的作用，使AH固体与母液分离。分离后的母液送分解细精种沉降槽，强滤液送蒸发原液槽，第一弱、第二弱滤液作为洗液返回平盘过滤机。工艺流程及知识点工艺流程及知识点真空的来源工艺流程及知识点保留残余滤饼的意义AH滤饼在洗涤过程中，水分通过真空泵由上而下的吸干，因此底层物料含水量会大一些，洗涤

3、效果（附碱）也会与上层存在差距，这样操作可以保证产品质量。工艺流程及知识点反吹风的目的经过螺旋卸料后，盘面上还存有少量的滤饼被压实在滤布上，增加了过滤阻力，因此必须设置反吹风，将残存滤饼吹松，使滤布再生，进行下一轮的过滤。生产指标生产指标控制AH附水≤5.5％AH附碱≤0.06%母液浮游物≤3g/l母液全碱≥130g/l洗水加入量：30m3/h0.4t-水/t-AH真空度0.03～0.05MPa反吹风：0.05MPa滤饼厚度：70～80mm残存滤饼厚度：10～13mm指标控制洗水量大、真空度低、滤布透气性差（结硬、反吹风、物料粘、粒度细）AH附水高洗水量小、洗水温度低、真空度低、滤布透气

4、性差（结硬、反吹风、物料粘、粒度细）AH附碱高生产指标控制指标控制真空阀门开度小、系统有泄漏、真空泵进水量小、滤布破损严重真空跑碱：真空泵工作液封水进水带碱、真空度过高、受液槽或气液分离器下料管堵塞、滤液槽液位控制过低跑真空真空度低生产指标控制主要控制指标滤布有破损、真空度高母液浮游物高洗水加入量：30m3/h0.35t-水/t-AH反吹风：0.05MPa滤饼厚度：70～80mm残存滤饼：10～13mm其他生产指标控制焙烧的目的氢氧化铝焙烧工序焙烧的原理工艺流程及知识点生产指标控制焙烧系统组成焙烧的目的把氢氧化铝中的附着水、结晶水脱除，并完成γ－Al2O3向α－Al2O3的转变，生成物理

5、和化学性质符合电解要求的氧化铝。焙烧的目的Al2O3SiO2Fe2O3Na2O灼减AO-198.60.020.020.51.0AO-298.50.040.020.61.0AO-398.40.060.030.71.0一、氧化铝的化学纯度电解用铝的要求焙烧的目的二、氧化铝的物理性质安息角：物料在光滑平面上自然堆积的倾角。安息角大的氧化铝在电解质中易溶解，在电解过程中能够很好地覆盖于电解质结壳上，飞扬损失也小。电解用铝的要求焙烧的目的二、氧化铝的物理性质α-Al2O3含量：反映了氧化铝的焙烧程度，含量越高焙烧越充分。α-Al2O3的含量增多使氧化铝的吸湿性降低，但α-Al2O3在电解质中的溶解

6、性能较α-Al2O3差。电解用铝的要求焙烧的目的二、氧化铝的物理性质容重：在自然状态下单位体积物料的重量。容重小的有利于在电解质中的溶解。电解用铝的要求焙烧的目的二、氧化铝的物理性质粒度：物料的粗细程度。粒度过粗在电解质中溶解速度慢，甚至沉淀；过细则容易飞扬损失。电解用铝的要求焙烧的目的二、氧化铝的物理性质比表面积：单位质量物料的总表面积（外表面积与内孔表面积之和）。表示物质活性高低的重要指标。比表面积大的氧化铝在电解质中溶解性能好、活性大，但易吸湿。电解用铝的要求焙烧的目的二、氧化铝的物理性质磨损指数：在特定的测定条件下磨撞后，试样中-44μm粒级含量改变的百分数。表征氧化铝强度的物理

7、指标。磨损指数小表明氧化铝强度大，在输送及烟气净化系统中，由于撞击、磨损而增加的粒级含量越少。电解用铝的要求焙烧的原理氢氧化铝经过焙烧炉的干燥段、预热焙烧段和冷却段使之烘干、脱水和晶型转变成为氧化铝，2Al(OH)3=Al2O3+3H2O↑其化学变化可分为以下几个阶段：焙烧的原理脱除附着水：当温度高于100℃时AH中的附着水被蒸发。Al(OH)3·H2O→Al(OH)3+H2O↑脱除结晶水：结晶水的脱除分两步进行，250℃～300℃